JPS62160651A - 電子線ウエハ検査装置 - Google Patents
電子線ウエハ検査装置Info
- Publication number
- JPS62160651A JPS62160651A JP61002974A JP297486A JPS62160651A JP S62160651 A JPS62160651 A JP S62160651A JP 61002974 A JP61002974 A JP 61002974A JP 297486 A JP297486 A JP 297486A JP S62160651 A JPS62160651 A JP S62160651A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- electron beam
- stage
- moving
- stages
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
電子線を配線パターンを形成した半導体素子形成用基板
に照射し、基板より反射された二次電子の強度を検知し
て配線パターンの凹凸状態を検知して配線パターンのピ
ッチ等を検査する電子線ウェハ検査装置であって、被検
査ウェハを設置するウェハ設置台と、このウェハ設置台
を移動させるステージ間に、このステージおよびステー
ジを移動させるモータを被覆するようなパーマロイのよ
うな磁気シールド板を設置して、これらモータ或いはス
テージより発生゛する磁界を除去して、ウェハ上を照射
する電子線がこれ等の磁界によってその照射方向を変化
されないようにする。
に照射し、基板より反射された二次電子の強度を検知し
て配線パターンの凹凸状態を検知して配線パターンのピ
ッチ等を検査する電子線ウェハ検査装置であって、被検
査ウェハを設置するウェハ設置台と、このウェハ設置台
を移動させるステージ間に、このステージおよびステー
ジを移動させるモータを被覆するようなパーマロイのよ
うな磁気シールド板を設置して、これらモータ或いはス
テージより発生゛する磁界を除去して、ウェハ上を照射
する電子線がこれ等の磁界によってその照射方向を変化
されないようにする。
本発明は電子線ウェハ検査装置に係り、特に被検査ウェ
ハを設置するウェハ設置台を移動させるステージ、並び
にステージを移動させるモータから磁界の影響を無くし
、電子線がウェハの決められた位置に正確に照射される
ようにした電子線ウェハ検査装置に関する。
ハを設置するウェハ設置台を移動させるステージ、並び
にステージを移動させるモータから磁界の影響を無くし
、電子線がウェハの決められた位置に正確に照射される
ようにした電子線ウェハ検査装置に関する。
シリコン（Ｓｉ）基板にトランジスタ等の半導体素子を
形成後、この素子間を接続するためのアルミニウム等の
配線パターンを形成し、この配線パターンを形成したウ
ェハの配線ピッチ等を検査するために、電子線をこのウ
ェハに照射してそのウェハより反射された二次電子の強
度を検知する電子線ウェハ検知装置が開発されている。
形成後、この素子間を接続するためのアルミニウム等の
配線パターンを形成し、この配線パターンを形成したウ
ェハの配線ピッチ等を検査するために、電子線をこのウ
ェハに照射してそのウェハより反射された二次電子の強
度を検知する電子線ウェハ検知装置が開発されている。
このような電子線ウェハ検査装置に於いては、被検査ウ
ェハを設置するウェハ設置台を移動させるステージの駆
動用モータや、そのステージ等より発生する磁界の影響
を少なくして、電子銃より照射される電子線がウェハの
所定の位置に正確に制御されて照射されることが要望さ
れている。
ェハを設置するウェハ設置台を移動させるステージの駆
動用モータや、そのステージ等より発生する磁界の影響
を少なくして、電子銃より照射される電子線がウェハの
所定の位置に正確に制御されて照射されることが要望さ
れている。
〔従来の技術〕
第２図は従来の電子線ウェハ検査装置の概略図で円Ｍ状
の筺体１はアイソレーションバルブ２で仕切られ、その
片方の室内には、電子銃３と電子レンズ４が設置されこ
の室内はイオンポンプ５を用いてｌＸｌ０ ｔｏｒｒ
Ｏ高真空に排気されている。
の筺体１はアイソレーションバルブ２で仕切られ、その
片方の室内には、電子銃３と電子レンズ４が設置されこ
の室内はイオンポンプ５を用いてｌＸｌ０ ｔｏｒｒ
Ｏ高真空に排気されている。
またアイソレーションバルブ２で仕切られたもう一方の
室内には電子レンズ６が設置され、更にその下部には、
電子線がウェハに照射された後にウェハより反射される
二次電子を検出するための二次電子検出器７が設置され
、更にその下部には電子レンズ８Ａ、８Ｂが設置されて
いる。そしてこの室内は排気口９よりターボポンプを用
いて高真空に排気されている。
室内には電子レンズ６が設置され、更にその下部には、
電子線がウェハに照射された後にウェハより反射される
二次電子を検出するための二次電子検出器７が設置され
、更にその下部には電子レンズ８Ａ、８Ｂが設置されて
いる。そしてこの室内は排気口９よりターボポンプを用
いて高真空に排気されている。
またこの室内の底部は絞られてその断面積が狭くなって
おり、その絞られた円筒状の筺体１の底部には、リング
状の導通路１０．１１が設けられ、ターボポンプにより
その下に設置される被検査ウェハ２２との対向空間部が
、高真空に排気されている。
おり、その絞られた円筒状の筺体１の底部には、リング
状の導通路１０．１１が設けられ、ターボポンプにより
その下に設置される被検査ウェハ２２との対向空間部が
、高真空に排気されている。
更にこの筺体２の底部の周辺部には、リング状の導通路
１２を有する第２の筺体（図示せず）が設けられ、この
導通路１２はロータリーポンプを用いて排気され、その
下に設置される被検査ウェハ２２の周囲の空間部のゴミ
等も排除されるように成っている。
１２を有する第２の筺体（図示せず）が設けられ、この
導通路１２はロータリーポンプを用いて排気され、その
下に設置される被検査ウェハ２２の周囲の空間部のゴミ
等も排除されるように成っている。
一方、この電子銃３が設置された筺体１の下部にはモー
タ１３の駆動により移動するボールネジ１４の移動によ
りＹ方向に移動するＹ方向移動用ステージ１５と、モー
タ１６の駆動により移動するボールネジ１７の移動でＸ
方向に移動するＸ方向移動用ステージ１８が設置され、
このＸ方向移動用ステージ１８上にはその上に設置され
るウェハ設置台１９の高さを検知する圧電素子２０が設
置されている。
タ１３の駆動により移動するボールネジ１４の移動によ
りＹ方向に移動するＹ方向移動用ステージ１５と、モー
タ１６の駆動により移動するボールネジ１７の移動でＸ
方向に移動するＸ方向移動用ステージ１８が設置され、
このＸ方向移動用ステージ１８上にはその上に設置され
るウェハ設置台１９の高さを検知する圧電素子２０が設
置されている。
更にウェハ設置台１９には導通路２１が設けられ、この
導通路２１は図示しないが、真空ポンプにて排気されて
いる。
導通路２１は図示しないが、真空ポンプにて排気されて
いる。
この導通路２１を排気することで、ウェハ設置台１９上
に被検査ウェハ２２が設置され、被検査ウェハ２２の上
面と筺体ｌの絞られた底部との間の隙間が、数μｍの距
離に保たれるように高さ検知器２３を用いて制御されて
いる。
に被検査ウェハ２２が設置され、被検査ウェハ２２の上
面と筺体ｌの絞られた底部との間の隙間が、数μｍの距
離に保たれるように高さ検知器２３を用いて制御されて
いる。
このような装置を用いて被検査ウェハ２２を検査する場
合の装置の動作について述べる。
合の装置の動作について述べる。
前記したウェハ設置台１９の導通路２１を排気すること
で、ウェハ２２をウェハ設置台１９に設置した後、導通
路１０．１１．１２よりターボポンプおよびロータリー
ポンプを用いて被検査ウェハ２２と、筺体１の底部との
対向する空間部を高真空に排気する。
で、ウェハ２２をウェハ設置台１９に設置した後、導通
路１０．１１．１２よりターボポンプおよびロータリー
ポンプを用いて被検査ウェハ２２と、筺体１の底部との
対向する空間部を高真空に排気する。
この状態でモータ１３および１６を駆動させてＹ方向移
動用ステージ１５、およびＸ方向移動用ステージ１８を
所定のピッチ移動させ、電子銃３より電子線を照射し、
電子レンズ４． ６．８Ａ、８Ｂを用いて電子線を絞り
ながら被検査ウェハ２２の所定の位置に照射する。そし
て被検査ウェハ２２に当たって電子線が反射した二次電
子の強度を二次電子検出器７で検知しなからウェハ２２
上に形成された〜配線膜の凹凸のピンチを検査している
。
動用ステージ１５、およびＸ方向移動用ステージ１８を
所定のピッチ移動させ、電子銃３より電子線を照射し、
電子レンズ４． ６．８Ａ、８Ｂを用いて電子線を絞り
ながら被検査ウェハ２２の所定の位置に照射する。そし
て被検査ウェハ２２に当たって電子線が反射した二次電
子の強度を二次電子検出器７で検知しなからウェハ２２
上に形成された〜配線膜の凹凸のピンチを検査している
。
然し、このような従来の装置では、前記したＸおよびＹ
方向移動用ステージ１８．１５或いはモータ１３、１６
より発生する磁気によって電子銃３より照射される電子
線の方向が、定められた所定の方向より他の方向に曲げ
られるおそれがあり、このため被検査ウェハのＨの配線
膜の凹凸のピンチを高精度に検知出来ない問題点を生じ
る。
方向移動用ステージ１８．１５或いはモータ１３、１６
より発生する磁気によって電子銃３より照射される電子
線の方向が、定められた所定の方向より他の方向に曲げ
られるおそれがあり、このため被検査ウェハのＨの配線
膜の凹凸のピンチを高精度に検知出来ない問題点を生じ
る。
本発明は上記した問題点を除去し、電子銃３より照射さ
れる電子線の方向が、これらモータ或いはステージより
発生する磁気によって乱れないようにした電子線ウェハ
検査装置の提供を目的とするものである。
れる電子線の方向が、これらモータ或いはステージより
発生する磁気によって乱れないようにした電子線ウェハ
検査装置の提供を目的とするものである。
本発明の電子線ウェハ検査装置は、前記ＸおよびＹ方向
移動用ステージ１８．１５と、上記ステージ１８、１５
を移動さ−せるモータ１３．１６上を被覆するような磁
気遮蔽手段３１を設ける。
移動用ステージ１８．１５と、上記ステージ１８、１５
を移動さ−せるモータ１３．１６上を被覆するような磁
気遮蔽手段３１を設ける。
本発明の電子線ウェハ検査装置は、磁気を発生するステ
ージ駆動用モータ１３．１６上と、前記ステージ１５．
１Ｂ上に磁気シールド板３１を設置して、これらモータ
１３，１６ 、或いはステージ１５．１８より発生する
磁気が電子線の照射方向を変化させないようにする。
ージ駆動用モータ１３．１６上と、前記ステージ１５．
１Ｂ上に磁気シールド板３１を設置して、これらモータ
１３，１６ 、或いはステージ１５．１８より発生する
磁気が電子線の照射方向を変化させないようにする。
以下、本発明の一実施例につき図面を用いて詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明の一実施例の説明図で、図示するように
磁気を発生するＸ方向移動用ステージ１８、およびＹ方
向移動用ステージ１５、並びにこれ等のステージ１８．
１５を駆動させるためのモータ１３．１６上を覆うよう
にウェハ設置台１９の下部にパーマロイ等よりなる磁気
シールド板３１を前記ウェハ設置台１９にネジ等を用い
て固着して設置する。
磁気を発生するＸ方向移動用ステージ１８、およびＹ方
向移動用ステージ１５、並びにこれ等のステージ１８．
１５を駆動させるためのモータ１３．１６上を覆うよう
にウェハ設置台１９の下部にパーマロイ等よりなる磁気
シールド板３１を前記ウェハ設置台１９にネジ等を用い
て固着して設置する。
このようにすれば、モータ１３，１６ 、或いはステー
ジ１５．１８より発生する磁気が、上記磁気シールド板
３１によって遮られ、そのため電子線の照射方向がこれ
らの磁気に依って曲げられるような事故が防止でき、ウ
ェハ２２上に形成した〜の配線膜の凹凸のピッチが精度
良く検査できる。
ジ１５．１８より発生する磁気が、上記磁気シールド板
３１によって遮られ、そのため電子線の照射方向がこれ
らの磁気に依って曲げられるような事故が防止でき、ウ
ェハ２２上に形成した〜の配線膜の凹凸のピッチが精度
良く検査できる。
以上述べたように本発明の電子線ウエノ１検査装置によ
れば、電子銃より照射される電子線の方向が装置より発
生する磁気の影響を受けて変化することが無くなるので
、電子線の方向が精度良く制御された高信頼度の電子線
ウェハ検査装置が得られる効果がある。
れば、電子銃より照射される電子線の方向が装置より発
生する磁気の影響を受けて変化することが無くなるので
、電子線の方向が精度良く制御された高信頼度の電子線
ウェハ検査装置が得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の電子線ウエノ１検査装置の一実施例の
要部を示す断面図、 第２図は従来の装置の要部を示す概略図である。 図に於いて、 １３、１６はモータ、１５はＹ方向移動用ステージ、１
８はＸ方向移動用ステージ、１９はウェハ設置台、ン １ 図 ＠ ２ 図
要部を示す断面図、 第２図は従来の装置の要部を示す概略図である。 図に於いて、 １３、１６はモータ、１５はＹ方向移動用ステージ、１
８はＸ方向移動用ステージ、１９はウェハ設置台、ン １ 図 ＠ ２ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 電子銃（３）と電子レンズ（４、６、８Ａ、８Ｂ）を収
容し、高真空に排気された電子線照射装置筺体（１）と
、モーター（１６）によってＸ方向に移動するＸ方向移
動用ステージ（１８）と、モータ（１３）によってＹ方
向に移動するＹ方向移動用ステージ（１５）と、該Ｘ方
向移動用ステージ（１８）上に設置され、その上に設置
されるウェハ設置台（１９）の高さを調整する高さ調整
手段（２０）と、該高さ調整手段（２０）を介してＸ方
向移動用ステージ（１８）上に設置されたウェハ設置台
（１９）と、該ウェハ設置台（１９）上に設置された被
検査ウェハ（２２）と、該被検査ウェハ（２２）と筺体
（１）との対向空間を排気する排気手段とからなる装置
に於いて、 前記ＸおよびＹ方向移動用ステージ（１８、１５）と上
記ステージ（１８、１５）を移動させるモータ（１３、
１６）上を覆うように磁気遮蔽手段（３１）を設けたこ
とを特徴とする電子線ウェハ検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61002974A JPS62160651A (ja) | 1986-01-09 | 1986-01-09 | 電子線ウエハ検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61002974A JPS62160651A (ja) | 1986-01-09 | 1986-01-09 | 電子線ウエハ検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62160651A true JPS62160651A (ja) | 1987-07-16 |
Family
ID=11544340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61002974A Pending JPS62160651A (ja) | 1986-01-09 | 1986-01-09 | 電子線ウエハ検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62160651A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11158484B2 (en) | 2017-08-31 | 2021-10-26 | Asml Netherlands B.V. | Electron beam inspection tool and method of controlling heat load |
| JP2022084295A (ja) * | 2020-11-26 | 2022-06-07 | ハイソル株式会社 | 半導体用チャック及びプローバ装置 |
-
1986
- 1986-01-09 JP JP61002974A patent/JPS62160651A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11158484B2 (en) | 2017-08-31 | 2021-10-26 | Asml Netherlands B.V. | Electron beam inspection tool and method of controlling heat load |
| JP2022084295A (ja) * | 2020-11-26 | 2022-06-07 | ハイソル株式会社 | 半導体用チャック及びプローバ装置 |
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