JPS61124045A - 電子ビ−ム装置 - Google Patents
電子ビ−ム装置Info
- Publication number
- JPS61124045A JPS61124045A JP59245749A JP24574984A JPS61124045A JP S61124045 A JPS61124045 A JP S61124045A JP 59245749 A JP59245749 A JP 59245749A JP 24574984 A JP24574984 A JP 24574984A JP S61124045 A JPS61124045 A JP S61124045A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- sample chamber
- sample
- electron beam
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
近年、集積回路の密度が増し、内部配線も１〜２ミクロ
ンという細いパターンが用いられている。
ンという細いパターンが用いられている。
このように細い配線に印加されている電圧を金属プロー
ブを配線部に直接あてて測定することは困難である。こ
のような場合３例えば電子ビームを試料（集積回路）に
照射して放出２次電子を検出器で検出し、電圧を測定す
る電子ビーム装置が用いられている。
ブを配線部に直接あてて測定することは困難である。こ
のような場合３例えば電子ビームを試料（集積回路）に
照射して放出２次電子を検出器で検出し、電圧を測定す
る電子ビーム装置が用いられている。
第２図は従来の電子ビーム装置の概略図である。
加速電源１により電圧が印加された電子銃２から発射さ
れた電子ビーム３は、レンズ電源４によって駆動される
コンデンサレンズ５．走査電源６により制御される偏向
装置７．レンズ電源・ｔによって駆動される対物レンズ
８により試料９上で、集束、偏向走査される。
れた電子ビーム３は、レンズ電源４によって駆動される
コンデンサレンズ５．走査電源６により制御される偏向
装置７．レンズ電源・ｔによって駆動される対物レンズ
８により試料９上で、集束、偏向走査される。
電子ビーム３で照射された試料９は２次電子１０を放出
し、この２次電子１０はシンチレータ等によって構成さ
れる検出器１１で検出され、増幅器１２で増幅された後
ブラウン管１３に放出２次電子１０の大きさ９例えば試
料９の配線部の電圧値に反比例した値として表示される
。
し、この２次電子１０はシンチレータ等によって構成さ
れる検出器１１で検出され、増幅器１２で増幅された後
ブラウン管１３に放出２次電子１０の大きさ９例えば試
料９の配線部の電圧値に反比例した値として表示される
。
また、試料９は互い直交するＸ、Ｙ方向に可動可能なＸ
ステージ１４．Ｘステージ１５上に設けられ、Ｘステー
ジ１４．Ｘステージ１５は架台１６上に設けられている
。また従来の電子ビーム装置では、Ｘステージ１４．Ｘ
ステージ１５．架台１６は全て試料９と同様に真空試料
室１７内に設けられており、真空試料室１７の下部には
真空状態を作るための排気装置１８が設けられ、真空試
料室１７内の気体を排気している。
ステージ１４．Ｘステージ１５上に設けられ、Ｘステー
ジ１４．Ｘステージ１５は架台１６上に設けられている
。また従来の電子ビーム装置では、Ｘステージ１４．Ｘ
ステージ１５．架台１６は全て試料９と同様に真空試料
室１７内に設けられており、真空試料室１７の下部には
真空状態を作るための排気装置１８が設けられ、真空試
料室１７内の気体を排気している。
しかしながら、上述の従来の電子ビーム装置では、Ｘス
テージ１４．Ｘステージ１５．架台１６を真空試料室
１７内に設けているため、真空試料室１７が大型化する
。例えば、真空試料室１７の容量は６００顛Ｘ ６００
ｗ Ｘ ４０（ｈｎ程度の大きさのものが必要となり、
試料９への信号の供給線等が長（なると同時に排気装置
１８も大型のものが必要となる。
テージ１４．Ｘステージ１５．架台１６を真空試料室
１７内に設けているため、真空試料室１７が大型化する
。例えば、真空試料室１７の容量は６００顛Ｘ ６００
ｗ Ｘ ４０（ｈｎ程度の大きさのものが必要となり、
試料９への信号の供給線等が長（なると同時に排気装置
１８も大型のものが必要となる。
本発明は、上述の従来の欠点に鑑み、真空試料室を小型
化し、試料９への電源供給線を雉くすると共に、排気装
置も小型化することを可能にした電子ビーム装置を提供
することを目的とするものである。
化し、試料９への電源供給線を雉くすると共に、排気装
置も小型化することを可能にした電子ビーム装置を提供
することを目的とするものである。
上記目的は１本発明によれば、試料台に載置された真空
試料室内の試料に電子ビームを照射して前記試料を観測
する電子ビーム装置において、前記試料を移動する移動
手段を前記真空試料室外に設け、前記移動手段と前記真
空試料室との間に弾力性を有する外気流入遮断手段又は
外気排気手段を設けたことを特徴とする電子ビーム装置
を提供することによって達成される。
試料室内の試料に電子ビームを照射して前記試料を観測
する電子ビーム装置において、前記試料を移動する移動
手段を前記真空試料室外に設け、前記移動手段と前記真
空試料室との間に弾力性を有する外気流入遮断手段又は
外気排気手段を設けたことを特徴とする電子ビーム装置
を提供することによって達成される。
以下１本発明の実施例を添付図面に従って詳述する。
第１図は３本発明の要部である電子ビーム装置の真空試
料室付近の構成図である。同図において。
料室付近の構成図である。同図において。
真空試料室２１の上部には前述の電子銃２．集束レンズ
５．対物レンズ８．偏向器７等を有する電子光学鏡筒２
１ａが設けられ、真空試料室２１の側面には検出器２１
ｂが設けられている。また。
５．対物レンズ８．偏向器７等を有する電子光学鏡筒２
１ａが設けられ、真空試料室２１の側面には検出器２１
ｂが設けられている。また。
真空試料室２１内の気体を排気する排気装置（図示せず
）は真空試料室２１の側面に設けられた排気ベローズ３
１の先端に設けられている。
）は真空試料室２１の側面に設けられた排気ベローズ３
１の先端に設けられている。
ＩＣ等の試料１９は試料台２０上に載置され。
試料１９は真空試料室２１内に位置している。試料台２
０はＸステージ２２に図示しないネジ等でさらに、Ｘス
テージ２２も図示しないネジ等でＸステージ２３にＸ、
Ｙ方向に移動可能なように圧着している。Ｘステージ２
２．Ｘステージ２３が駆動する際には真空試料室２１の
底板２４の底面とＸステージ２２．Ｘステージ２３が接
しながら行われる。このため、底板２４とＸステージ２
２及びＸステージ２３との間隔を５μｍ −１０μｍに
保つため、底板２４とＸステージ２２との接触部２５に
第３図（ａ）に示すように溝２６を設け、このＲ２６に
複数のボールベアリング２７を入れて構成されている。
０はＸステージ２２に図示しないネジ等でさらに、Ｘス
テージ２２も図示しないネジ等でＸステージ２３にＸ、
Ｙ方向に移動可能なように圧着している。Ｘステージ２
２．Ｘステージ２３が駆動する際には真空試料室２１の
底板２４の底面とＸステージ２２．Ｘステージ２３が接
しながら行われる。このため、底板２４とＸステージ２
２及びＸステージ２３との間隔を５μｍ −１０μｍに
保つため、底板２４とＸステージ２２との接触部２５に
第３図（ａ）に示すように溝２６を設け、このＲ２６に
複数のボールベアリング２７を入れて構成されている。
さらに、真空試料室２１の真空状態を保持するため、ボ
ールベアリング２７の間にゴム製の０リング２Ｂが同図
（ａｌのＡ−Ａ断面図である同図（ｂ）に示すように、
試料台２０を囲んで設けている。また、試料台２０とＸ
ステージ２２の固定接触部２９にも真空試料室２１の真
空状態を保持するため、試料台２０を囲んで溝３０ａと
溝３０ａ内にＯリング３０ｂが設けられている。
ールベアリング２７の間にゴム製の０リング２Ｂが同図
（ａｌのＡ−Ａ断面図である同図（ｂ）に示すように、
試料台２０を囲んで設けている。また、試料台２０とＸ
ステージ２２の固定接触部２９にも真空試料室２１の真
空状態を保持するため、試料台２０を囲んで溝３０ａと
溝３０ａ内にＯリング３０ｂが設けられている。
以上のように電子ビーム装置を構成することにより、真
空試料室２１内の気体を排気ベローズ３１を介して排気
装置で排気すれば、真空試料室２１内に外気が侵入する
ことがない。すなわち。
空試料室２１内の気体を排気ベローズ３１を介して排気
装置で排気すれば、真空試料室２１内に外気が侵入する
ことがない。すなわち。
本実施例に示すように真空試料室２１外にＸステージ２
２．Ｘステージ２３を設けても、Ｘステージ２２と試料
台２０との固定接触部２９にはＯＵフグ３０ｂが設けら
れているため、固定接触部２９の隙間からの外気の侵入
が防止でき、Ｘステージ２２と底板２４との間に設けら
れた外側のボールベアリング２７間を外気が侵入してき
た場合にも、第４図に示すようにＯリング２８の直ｆ’
Ｍはボールベアリング２７の直径よりも若干大きく。
２．Ｘステージ２３を設けても、Ｘステージ２２と試料
台２０との固定接触部２９にはＯＵフグ３０ｂが設けら
れているため、固定接触部２９の隙間からの外気の侵入
が防止でき、Ｘステージ２２と底板２４との間に設けら
れた外側のボールベアリング２７間を外気が侵入してき
た場合にも、第４図に示すようにＯリング２８の直ｆ’
Ｍはボールベアリング２７の直径よりも若干大きく。
侵入した外気は０リング２８で遮断され外気が真空試料
室２１内に侵入することはない。
室２１内に侵入することはない。
したがって、電子光学鏡筒２１ａから試料１９に照射さ
れた電子ビームは、完全に真空状態に保持された真空試
料室２１内で効率良く２次電子を放出し、検出器２１ｂ
に２次電子を検出させることができる。
れた電子ビームは、完全に真空状態に保持された真空試
料室２１内で効率良く２次電子を放出し、検出器２１ｂ
に２次電子を検出させることができる。
第５図（ａｌは本発明の他の実施例を示す図であり。
同図（ｂ）は同図（ａ）のＢ−Ｂ断面図である。
同図（ａ）、 Ｃｂｌにおいて、第３図（ａｌ、 （ｂ
ｌと同一箇所には同一番号を付して、構成上の説明を省
略する。
ｌと同一箇所には同一番号を付して、構成上の説明を省
略する。
第３図Ｔａ）、 （ｂ）と異なる箇所は、底板２４とＸ
ステージ２２．！−の間に設けられたボールベアリング
２７を間隔を広げて設け、ボールベアリング２７間に設
けられていた０リング２８に変えて３本の排気用溝３２
ａ〜３２ｃが設けられたことである。
ステージ２２．！−の間に設けられたボールベアリング
２７を間隔を広げて設け、ボールベアリング２７間に設
けられていた０リング２８に変えて３本の排気用溝３２
ａ〜３２ｃが設けられたことである。
したがってボールベアリング２７はボールベアリング２
７が１ （［１入る大きさの溝３３がＸステージ２２上
に広い間隔を有して設けられ、そのａ３３の中にボール
ベアリング２７が入れられている。
７が１ （［１入る大きさの溝３３がＸステージ２２上
に広い間隔を有して設けられ、そのａ３３の中にボール
ベアリング２７が入れられている。
また、３本の排気用溝３２ａ〜３２ｃは同図（ｂｌに示
すように試料台２０を囲んで設けられ、４箇所の曲り部
には各々排気管３４３〜３４Ｃが設けられ、排気管３４
ａ〜３４ｃの先端には排気装置が設けられている。
すように試料台２０を囲んで設けられ、４箇所の曲り部
には各々排気管３４３〜３４Ｃが設けられ、排気管３４
ａ〜３４ｃの先端には排気装置が設けられている。
このように構成することによって、Ｘステージ２２と底
板２４との間に設けられたボールヘアリング２７間の５
μｍ〜１０μｍの隙間を通して外気が真空試料室２１に
向かって侵入してきたとしても、侵入した外気を排気１
３２ｃから３２ａまでを介して順次排気装置で排気する
ことにより、真空試料室２１内に外気が侵入することを
防止できる。したがって１本実施例においても、電子光
学鏡筒２１ａから試料１９に照射された電子ビームは完
全に真空状態に保持された真空試料室２１内で効率良く
２次電子を放出することができる。
板２４との間に設けられたボールヘアリング２７間の５
μｍ〜１０μｍの隙間を通して外気が真空試料室２１に
向かって侵入してきたとしても、侵入した外気を排気１
３２ｃから３２ａまでを介して順次排気装置で排気する
ことにより、真空試料室２１内に外気が侵入することを
防止できる。したがって１本実施例においても、電子光
学鏡筒２１ａから試料１９に照射された電子ビームは完
全に真空状態に保持された真空試料室２１内で効率良く
２次電子を放出することができる。
以上のように本実施例によれは、試料１９に電子ビーム
を照射する位置等を合わせるためのＸステージ２２．Ｘ
ステージ２３を真空試料室２１の外部に設け、Ｘステー
ジ２２．Ｘステージ２３を駆動し移動したとしても、外
気が真空試料室２１内に侵入することがない。したがっ
て、Ｘステージ２２．Ｘステージ２３等を真空試料室２
１の外部に設けることが可能となり、Ｘ空試料室２１を
従来と比べて小型化することができる。
を照射する位置等を合わせるためのＸステージ２２．Ｘ
ステージ２３を真空試料室２１の外部に設け、Ｘステー
ジ２２．Ｘステージ２３を駆動し移動したとしても、外
気が真空試料室２１内に侵入することがない。したがっ
て、Ｘステージ２２．Ｘステージ２３等を真空試料室２
１の外部に設けることが可能となり、Ｘ空試料室２１を
従来と比べて小型化することができる。
本発明は以上の実施例に限るわけではなく、。
リング２８．３０はゴム製に限らず弾力性に冨み。
底板２４とＸステージ２２との間で真空試料室２１を密
閉できる部材であれば使用することができる。また、排
気用溝は３本に限らず１本、２本でも良く、さらに４本
、５本・・・と用いて構成しても良いことは勿論である
。
閉できる部材であれば使用することができる。また、排
気用溝は３本に限らず１本、２本でも良く、さらに４本
、５本・・・と用いて構成しても良いことは勿論である
。
以上詳細に説明したように本発明によれば、真空試料室
を小型化することができ、試料のパターン配線電圧測定
等の際試料を高速に動作させるために必要な信号給電線
を短くすることができる。
を小型化することができ、試料のパターン配線電圧測定
等の際試料を高速に動作させるために必要な信号給電線
を短くすることができる。
また、真空試料室の排気を行う際排気装置も排気容量の
小さなものを使用することができ、電子ビーム装置自体
を小型化することもできる。
小さなものを使用することができ、電子ビーム装置自体
を小型化することもできる。
第１図は本発明の電子ビーム装置の要部構成図。
第２図は従来の電子ビーム装置の概略構成図。
第３図Ｔａ）はＯリング、ボールベアリングの使用位置
を説明する構成図。 第３図［ｂｌは同図＋ａ）の断面図。 第４図はＯリングとボールベアリングの使用状態を説明
する構成図。 ｆｆ１５図（ａｌは他の実施例の０リング、ボールヘア
リングの使用位置を説明する構成図。 第５図（ｂｌは同図（ａｌの断面図である。 １９・・・試料。 ２０・・・試料台。 ２１・・・真空試料室。 ２２・・・Ｘステージ。 ２３・・・Ｙステージ。 ２４・・・底板。 ２７．３０・・・ボールベアリング。 ２８・・・０リング。 ３１・・・排気ベローズ。 ３２２〜３２Ｃ・・・排気用溝。 ３４ａ〜３４Ｃ・・・排気管。 第１図 第３図 （ｂ） 第４図
を説明する構成図。 第３図［ｂｌは同図＋ａ）の断面図。 第４図はＯリングとボールベアリングの使用状態を説明
する構成図。 ｆｆ１５図（ａｌは他の実施例の０リング、ボールヘア
リングの使用位置を説明する構成図。 第５図（ｂｌは同図（ａｌの断面図である。 １９・・・試料。 ２０・・・試料台。 ２１・・・真空試料室。 ２２・・・Ｘステージ。 ２３・・・Ｙステージ。 ２４・・・底板。 ２７．３０・・・ボールベアリング。 ２８・・・０リング。 ３１・・・排気ベローズ。 ３２２〜３２Ｃ・・・排気用溝。 ３４ａ〜３４Ｃ・・・排気管。 第１図 第３図 （ｂ） 第４図
Claims (3)
- （１）試料台に載置された真空試料室内の試料に電子ビ
ームを照射して前記試料を観測する電子ビーム装置にお
いて、前記試料を移動する移動手段を前記真空試料室外
に設け、前記移動手段と前記真空試料室との間に移動可
能な外気流入遮断手段を設けたことを特徴とする電子ビ
ーム装置。 - （２）外気流入遮断手段はゴム製のＯリングあるいはテ
フロンシールであり前記移動手段と前記真空試料室間に
設けられたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の電子ビーム装置。 - （３）前記外気流入遮断手段は前記移動手段に設けられ
た溝と該溝に接続する排気管よりなる外気排気手段であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子ビ
ーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59245749A JPS61124045A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 電子ビ−ム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59245749A JPS61124045A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 電子ビ−ム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61124045A true JPS61124045A (ja) | 1986-06-11 |
Family
ID=17138219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59245749A Pending JPS61124045A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 電子ビ−ム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61124045A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010101834A (ja) * | 2008-10-27 | 2010-05-06 | Yokogawa Electric Corp | 半導体試験装置 |
| JP2018136306A (ja) * | 2016-12-20 | 2018-08-30 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | ｅビーム操作用の局部的に排気された容積を用いる集積回路解析システムおよび方法 |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP59245749A patent/JPS61124045A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010101834A (ja) * | 2008-10-27 | 2010-05-06 | Yokogawa Electric Corp | 半導体試験装置 |
| JP2018136306A (ja) * | 2016-12-20 | 2018-08-30 | エフ・イ−・アイ・カンパニー | ｅビーム操作用の局部的に排気された容積を用いる集積回路解析システムおよび方法 |
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