JPS62159429A - 位置決め方法 - Google Patents
位置決め方法Info
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- JPS62159429A JPS62159429A JP61002396A JP239686A JPS62159429A JP S62159429 A JPS62159429 A JP S62159429A JP 61002396 A JP61002396 A JP 61002396A JP 239686 A JP239686 A JP 239686A JP S62159429 A JPS62159429 A JP S62159429A
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- JP
- Japan
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- hologram
- zone plate
- mask
- positioning
- light
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、ＩＣなどの製造において、ウェハとマスク
の位置合わせを高精度に行うための位置決め方法に関す
るものである。
の位置合わせを高精度に行うための位置決め方法に関す
るものである。
（従来技術とその問題点）
ＶＬＳＩの高密度化に伴い、回路パターンの微細化が進
んでいる。ＶＬＳＩを製作するりソグラフィ技術におい
て、ウェハとマスクの相対的位置を高精度に決める必要
がある。現在、このような位置決めはウェハとマスクそ
れぞれに描かれている多数の直線平行縞を一致させる方
法などが行われている。しかし、このような方法の配置
精度は、０．２ｐｍ程度で、エキシマレーザやＸ線を用
いて、さらに微細なパターンを転写する目的には適さな
い。これらのりソグラフィでは、０．０１〜０．０５ｐ
ｍの配置精度が必要であるが、現段階では、このような
位置決めの確立された方法はない。
んでいる。ＶＬＳＩを製作するりソグラフィ技術におい
て、ウェハとマスクの相対的位置を高精度に決める必要
がある。現在、このような位置決めはウェハとマスクそ
れぞれに描かれている多数の直線平行縞を一致させる方
法などが行われている。しかし、このような方法の配置
精度は、０．２ｐｍ程度で、エキシマレーザやＸ線を用
いて、さらに微細なパターンを転写する目的には適さな
い。これらのりソグラフィでは、０．０１〜０．０５ｐ
ｍの配置精度が必要であるが、現段階では、このような
位置決めの確立された方法はない。
このような高精度の配置を実現するために、モアレ縞を
用いた位置決め技術が開発されている。
用いた位置決め技術が開発されている。
モアレ縞を用いた高精度位置決め法は、例えば雑誌「ア
プライド・オプティックス（Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔｉ
ｃｓ）、１９７２年２４５５〜２４５９頁に記載の論文
［モアレ技術を用いたフォトリソグラフィックマスク位
置合わせ（Ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃ Ｍａ
ｓｋ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ Ｕｓｉｎｇ Ｍｏ１ｒ！Ｔ
ｅｃｈｎｉｑｕｅｓ） Ｊに詳しく述べられている。こ
の方法は、異なるピッチを持つ等間隔同心円編を重ね合
わせ、それらの差周波数として生じるモアレ縞の形状を
顕微鏡によって観測し、位置合わせするものである。こ
の場合、０．２ｐｍの配置精度が得られた。しかし、こ
の方法は、縞の形状を認識する必要があるため、自動測
定には適していない。この方法を改良して、同じピッチ
を持つ等間隔直線縞を重ね合わせて生じるモアレ縞の回
折光を観測して位置合わせする方法が考えられた。これ
については、例えば、「ジャーナルオプバキュームサイ
エンステクノロジ（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｖａｃｕｍ
ｅ ５ｃｉｐｎｃｅ Ｔｅｃｈ−ｎｏｌｏｇｉｅ）、１
９８３年Ｂ１−１２７６〜１２７９頁に記載の論文［Ｘ
線リソグラフィ用２重格子位置決め技術（Ａ Ｄｕａｌ
Ｇｒａｔｉｎｇ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ Ｔｅｃｈｎ
ｉｑｕｅ ｆｏｒ Ｘ−ｒａｙＬｉｔｈｏｇｒａｐ
ｈｙ） Ｊに詳しく述べられている。この方法では、ウ
ェハとマスクにそれぞれ描画されている同一の等間隔直
線縞を重ね合わせ、相対的な位置関係のずれによって変
化するモアレ縞にレーザ光を照射し、その±１次回折光
の強度変化を観測して、位置合わせする方法である。こ
の方法では、１０ｎｍの配置精度が得られている。この
方法は、光の強度を測定するために、高精度の自動測定
が可能である。しかし、逆に、縞ピッチよりも大きな変
化を測定できず、例えば、１１１ｍピッチの縞を用いる
場合、別の方法で１１１ｍの位置合わせを行った後にこ
の方法を用いて高精度の位置合わせを行うことになる。
プライド・オプティックス（Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔｉ
ｃｓ）、１９７２年２４５５〜２４５９頁に記載の論文
［モアレ技術を用いたフォトリソグラフィックマスク位
置合わせ（Ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｃ Ｍａ
ｓｋ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ Ｕｓｉｎｇ Ｍｏ１ｒ！Ｔ
ｅｃｈｎｉｑｕｅｓ） Ｊに詳しく述べられている。こ
の方法は、異なるピッチを持つ等間隔同心円編を重ね合
わせ、それらの差周波数として生じるモアレ縞の形状を
顕微鏡によって観測し、位置合わせするものである。こ
の場合、０．２ｐｍの配置精度が得られた。しかし、こ
の方法は、縞の形状を認識する必要があるため、自動測
定には適していない。この方法を改良して、同じピッチ
を持つ等間隔直線縞を重ね合わせて生じるモアレ縞の回
折光を観測して位置合わせする方法が考えられた。これ
については、例えば、「ジャーナルオプバキュームサイ
エンステクノロジ（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｖａｃｕｍ
ｅ ５ｃｉｐｎｃｅ Ｔｅｃｈ−ｎｏｌｏｇｉｅ）、１
９８３年Ｂ１−１２７６〜１２７９頁に記載の論文［Ｘ
線リソグラフィ用２重格子位置決め技術（Ａ Ｄｕａｌ
Ｇｒａｔｉｎｇ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ Ｔｅｃｈｎ
ｉｑｕｅ ｆｏｒ Ｘ−ｒａｙＬｉｔｈｏｇｒａｐ
ｈｙ） Ｊに詳しく述べられている。この方法では、ウ
ェハとマスクにそれぞれ描画されている同一の等間隔直
線縞を重ね合わせ、相対的な位置関係のずれによって変
化するモアレ縞にレーザ光を照射し、その±１次回折光
の強度変化を観測して、位置合わせする方法である。こ
の方法では、１０ｎｍの配置精度が得られている。この
方法は、光の強度を測定するために、高精度の自動測定
が可能である。しかし、逆に、縞ピッチよりも大きな変
化を測定できず、例えば、１１１ｍピッチの縞を用いる
場合、別の方法で１１１ｍの位置合わせを行った後にこ
の方法を用いて高精度の位置合わせを行うことになる。
従って、２回の位置決めが必要で、プロセスが複雑とな
る。
る。
（問題点を解決するための手段）
この発明は、第１のホログラムと第２のホログラムを重
ね合わせてゾーンプレート状モアレ縞を生じせしめ、前
記第１のホログラムを観測面に固定し、前記モアレ縞に
コヒーレント光を照射して生じる回折光が、前記観測面
の定められた位置に生じるように、前記第２のホログラ
ムの位置を調整する構成となっている。
ね合わせてゾーンプレート状モアレ縞を生じせしめ、前
記第１のホログラムを観測面に固定し、前記モアレ縞に
コヒーレント光を照射して生じる回折光が、前記観測面
の定められた位置に生じるように、前記第２のホログラ
ムの位置を調整する構成となっている。
（発明の作用・原理）
ホログラムを２枚重ね合わせた時に生じるモアレ縞の形
状は解析的に求めることができる。例えば、焦点距離の
異なったゾーンプレート状ホログラムを重ね合わせた時
に生じるモアレ縞は以下のようになる。基準ホログラム
の中心を原点とし、配置するホログラムが基準ホログラ
ムに対して、Ｘ方向にΔｘ、ｙ方向にＡｙずれていると
すると、２つのホログラムは、それぞれ ｘ２＋ｙ２＝ｍａ２ ・・・・・
（１）（ｘ −Ａｘ）２＋ （ｙ −Ａｙ）２＝ ｎｂ
２ −−−−−（２）のように書き表わされる。
状は解析的に求めることができる。例えば、焦点距離の
異なったゾーンプレート状ホログラムを重ね合わせた時
に生じるモアレ縞は以下のようになる。基準ホログラム
の中心を原点とし、配置するホログラムが基準ホログラ
ムに対して、Ｘ方向にΔｘ、ｙ方向にＡｙずれていると
すると、２つのホログラムは、それぞれ ｘ２＋ｙ２＝ｍａ２ ・・・・・
（１）（ｘ −Ａｘ）２＋ （ｙ −Ａｙ）２＝ ｎｂ
２ −−−−−（２）のように書き表わされる。
ａ、ｂはそれぞれゾーンプレートの最小円の半径、ｍ、
ｎは正の整数を表す。
ｎは正の整数を表す。
モアレ縞は、（１）、 （２）式の交点として表わされ
、ｌ＝ｍｆｎとおいて、 となり、ゾーンプレート状の縞が生じる。ここで、Ｃは
ａ、ｂ、ΔＸ、Δｙの関数であるが、ゾーンプレート状
モアレ縞の円の半径が相対的に変化するのみで、本質的
な項ではない。第２図に、基準ホログラム１０１と配置
ホログラム１０２を重ね合わせて生じるモアレ縞１０３
の例を示す。配置するホログラムの中心座標を（ΔＸ□
、Δｙ工）から（Δｘ２．Δｙ２）に変化させた場ずれ
る。従って、ａとｂの焦点距離がわずかに異なる場合、
ａ２１（ｂ２＋ａ２）が大きくなり、感度が高くなる。
、ｌ＝ｍｆｎとおいて、 となり、ゾーンプレート状の縞が生じる。ここで、Ｃは
ａ、ｂ、ΔＸ、Δｙの関数であるが、ゾーンプレート状
モアレ縞の円の半径が相対的に変化するのみで、本質的
な項ではない。第２図に、基準ホログラム１０１と配置
ホログラム１０２を重ね合わせて生じるモアレ縞１０３
の例を示す。配置するホログラムの中心座標を（ΔＸ□
、Δｙ工）から（Δｘ２．Δｙ２）に変化させた場ずれ
る。従って、ａとｂの焦点距離がわずかに異なる場合、
ａ２１（ｂ２＋ａ２）が大きくなり、感度が高くなる。
例えば、ｂ：１．１ａとすれば、ゾーンプレート状モア
レ縞の中心は配置するホログラムの中心座標の４．８倍
移動する。また、等間隔直線縞構造を持つ単純格子にゾ
ーンプレート状ホログラムを重ね合わせた時に生じるモ
アレ縞は以下のようになる。
レ縞の中心は配置するホログラムの中心座標の４．８倍
移動する。また、等間隔直線縞構造を持つ単純格子にゾ
ーンプレート状ホログラムを重ね合わせた時に生じるモ
アレ縞は以下のようになる。
ゾーンプレート状ホログラムがｙ軸に平行な単純格子に
対して、Ｘ方向にΔｘ、ｙ方向にΔｙずれてνするとす
ると、単純格子とゾーンプレート状ホログラムは、それ
ぞれ Ｘ＝＝ｍａ ・・・・（
４）（Ｘ−ΔＸ）２＋（ｙ−Δｙ）２＝ｎｂ２
−（５）のように書き表わされる。ａ、ｂはそれぞれ
のゾーンプレートの最小円半径、ｍ、ｎは正の整数を表
わす。モアレ縞は、（１）、 （２）式の交点として表
わされ、ｔ＝ｍ＋ｎとおいて、 （Ｘ−Δｘ−ｃ）”＋（ｙ−Δｙ）２ ＝ｌｂ２＋ｄ
−（６）となり、ゾーンプレート状の縞が生じ
る。ここで、Ｃはａ、ｂの関数、ｄはａ、ｂ、ΔＸ、Δ
ｙの関数である。
対して、Ｘ方向にΔｘ、ｙ方向にΔｙずれてνするとす
ると、単純格子とゾーンプレート状ホログラムは、それ
ぞれ Ｘ＝＝ｍａ ・・・・（
４）（Ｘ−ΔＸ）２＋（ｙ−Δｙ）２＝ｎｂ２
−（５）のように書き表わされる。ａ、ｂはそれぞれ
のゾーンプレートの最小円半径、ｍ、ｎは正の整数を表
わす。モアレ縞は、（１）、 （２）式の交点として表
わされ、ｔ＝ｍ＋ｎとおいて、 （Ｘ−Δｘ−ｃ）”＋（ｙ−Δｙ）２ ＝ｌｂ２＋ｄ
−（６）となり、ゾーンプレート状の縞が生じ
る。ここで、Ｃはａ、ｂの関数、ｄはａ、ｂ、ΔＸ、Δ
ｙの関数である。
配置するホログラムの中心座標を（ΔＸ、Δｙ）から（
Δｘ２．Δｙ２）に変化させた場合、ゾーンプレート状
のモアレ縞の中心は（八Ｘ２−ΔＸｉ、Δｙ２−Δｙｔ
）ずれる。
Δｘ２．Δｙ２）に変化させた場合、ゾーンプレート状
のモアレ縞の中心は（八Ｘ２−ΔＸｉ、Δｙ２−Δｙｔ
）ずれる。
一方、モアレ縞はゾーンプレート状であるために、コヒ
ーレント光を入射させると球面波の回折光を生じる。正
の回折光は集光されるので、集光点におけるビームの移
動量を測定することにより、基準ホログラムと配置ホロ
グラムの相対的な位置関係を決定できる。この時、集光
点は、配置ホログラムの移動に比例して動くので、基準
ホログラムと配置ホログラムのずれが大きい場合にも、
その量を観測できる。
ーレント光を入射させると球面波の回折光を生じる。正
の回折光は集光されるので、集光点におけるビームの移
動量を測定することにより、基準ホログラムと配置ホロ
グラムの相対的な位置関係を決定できる。この時、集光
点は、配置ホログラムの移動に比例して動くので、基準
ホログラムと配置ホログラムのずれが大きい場合にも、
その量を観測できる。
（実施例）
第１図は、この発明の実施例である。始めに、マスク１
の一部に描画しである基準ホログラム５に、レーザ９か
ら出射した光をハーフミラ−１０で反射させて、照射し
、ホログラムからの＋１次回折光が収束して４分割光検
出器１２に入射するようにマニピュレータ３を移動させ
る。この４分割光検出器は光ディスクのレーザヘッドの
焦点位置合わせに用いられているものと同じもので、第
３図に示す構造を持つ。例えば、Ｘ方向の位置合わせを
行うには、演算回路１６によりａ面とｂ面の光検出信号
の和と０面と６面の信号の和の差動をとる。この時、信
号はマニピュレータのＸ方向の移動に伴って第４図に示
すＳ字状の曲線を描く。０点を通過した時に、ホログラ
ムの＋１次回折光が、ａ、ｂ面とｃ、６面の中間位置を
通過したことになる。同様に、ａ面と０面の光検出信号
の和とｂ面と０面の光検出信号の和の差動信号からＸ方
向の位置合わせが可能である。ウエノ１の対角線位置に
、基準ホログラム５と同一の基準ホログラム７および光
検出器１５、演算回路１９があり、２カ所での測定によ
り回転に対しても位置合わせ可能である。各位置におけ
るＸ方向、Ｘ方向の信号、合計４個の信号は例えばＧＰ
−ＩＢインタフェースを装備したパソコンなどのプロセ
ッサ２０に入力され、４個の信号がすべて第４図に示し
たＳ字状信号の０点を示すように、例えば、精密ステー
ジとパルスモータおよびＧＰ−ＩＢ装備のパルスモータ
駆動装置を備えたマニピュレータ３に信号を送り、マス
クを移動させる。
の一部に描画しである基準ホログラム５に、レーザ９か
ら出射した光をハーフミラ−１０で反射させて、照射し
、ホログラムからの＋１次回折光が収束して４分割光検
出器１２に入射するようにマニピュレータ３を移動させ
る。この４分割光検出器は光ディスクのレーザヘッドの
焦点位置合わせに用いられているものと同じもので、第
３図に示す構造を持つ。例えば、Ｘ方向の位置合わせを
行うには、演算回路１６によりａ面とｂ面の光検出信号
の和と０面と６面の信号の和の差動をとる。この時、信
号はマニピュレータのＸ方向の移動に伴って第４図に示
すＳ字状の曲線を描く。０点を通過した時に、ホログラ
ムの＋１次回折光が、ａ、ｂ面とｃ、６面の中間位置を
通過したことになる。同様に、ａ面と０面の光検出信号
の和とｂ面と０面の光検出信号の和の差動信号からＸ方
向の位置合わせが可能である。ウエノ１の対角線位置に
、基準ホログラム５と同一の基準ホログラム７および光
検出器１５、演算回路１９があり、２カ所での測定によ
り回転に対しても位置合わせ可能である。各位置におけ
るＸ方向、Ｘ方向の信号、合計４個の信号は例えばＧＰ
−ＩＢインタフェースを装備したパソコンなどのプロセ
ッサ２０に入力され、４個の信号がすべて第４図に示し
たＳ字状信号の０点を示すように、例えば、精密ステー
ジとパルスモータおよびＧＰ−ＩＢ装備のパルスモータ
駆動装置を備えたマニピュレータ３に信号を送り、マス
クを移動させる。
４個の信号がすべて０点の位置に合った時、このマスク
は、装置に対して位置合わせできたことになる。この時
、ビーム径の１／１００程度の位置ずれを検出できる。
は、装置に対して位置合わせできたことになる。この時
、ビーム径の１／１００程度の位置ずれを検出できる。
従って数１１ｍにビームを絞ることができれば、数＋ｐ
ｍ程度の位置ずれを検出できる。
ｍ程度の位置ずれを検出できる。
次に、基準ホログラム５，７とウェハ２に記録されてい
る配置ホログラム６．８を重ね合わせて生じるモアレ縞
にレーザ９から出射した光をミラーノ１で折り返して照
射し、モアレ縞からの＋１次回折光が収束して、４分割
光検出５１３．１４に入射するようにマニピュレータ４
を移動させる。光検出器１３．１４は、光検出８１２．
１５と同一のもので演算回路１７．１８を用いて、マス
クを装置に対して位置合わせた手順と同様に、ウェハを
マスクに対して、位置合わせできる。
る配置ホログラム６．８を重ね合わせて生じるモアレ縞
にレーザ９から出射した光をミラーノ１で折り返して照
射し、モアレ縞からの＋１次回折光が収束して、４分割
光検出５１３．１４に入射するようにマニピュレータ４
を移動させる。光検出器１３．１４は、光検出８１２．
１５と同一のもので演算回路１７．１８を用いて、マス
クを装置に対して位置合わせた手順と同様に、ウェハを
マスクに対して、位置合わせできる。
この方法を用いて、（３）式のモアレ縞の中心が配置す
るホログラムの中心座標の１０倍移動するように設計し
て、このモアレ縞により、ビームを数１１ｍに絞ること
ができた。この時、配置ホログラムを位置決めできた状
態から１ｍｍ以上ずらして、観測始め、モアレ縞の数十
ｎｍの移動を検知して、配置ホログラムを数ｎｍの精度
で位置決めできた。
るホログラムの中心座標の１０倍移動するように設計し
て、このモアレ縞により、ビームを数１１ｍに絞ること
ができた。この時、配置ホログラムを位置決めできた状
態から１ｍｍ以上ずらして、観測始め、モアレ縞の数十
ｎｍの移動を検知して、配置ホログラムを数ｎｍの精度
で位置決めできた。
（発明の効果）
以上詳述したように、この発明の位置決め方法を用いれ
ば、モアレ縞の回折光を利用することにより、マスクと
ウェハのずれを縞ピッチよりも十分大きい量から数ｎｍ
程度まで観測することができ、１回の操作で高精度に位
置決めできる。
ば、モアレ縞の回折光を利用することにより、マスクと
ウェハのずれを縞ピッチよりも十分大きい量から数ｎｍ
程度まで観測することができ、１回の操作で高精度に位
置決めできる。
第１図はこの発明の実施例を示す図、第２図は基準ホロ
グラムと配置ホログラムを重ね合わせて生じるモアレ縞
の例、第３図は４分割光検出器の構成図、第４図は４分
割光検出器からの出力信号を示す。 図において、 １・・・マスク、２・・・ウェハ、３，４・・・マニピ
ュレータ、５．７・・・基準ホログラム、６，８・・・
配置ホログラム、９・・・レーザ、１０・・・ハーフミ
ラ−１１１・・・ミラー１２、１３．１４．１５・・・
光検出器、１６、１７．１８．１９・・・演算回路、２
０・・・プロセッサ１０１・・・基準ホログラム、１０
２・・・配置ホログラム、１０３・・・モアレ縞 第３図 第４図
グラムと配置ホログラムを重ね合わせて生じるモアレ縞
の例、第３図は４分割光検出器の構成図、第４図は４分
割光検出器からの出力信号を示す。 図において、 １・・・マスク、２・・・ウェハ、３，４・・・マニピ
ュレータ、５．７・・・基準ホログラム、６，８・・・
配置ホログラム、９・・・レーザ、１０・・・ハーフミ
ラ−１１１・・・ミラー１２、１３．１４．１５・・・
光検出器、１６、１７．１８．１９・・・演算回路、２
０・・・プロセッサ１０１・・・基準ホログラム、１０
２・・・配置ホログラム、１０３・・・モアレ縞 第３図 第４図
Claims (3)
- （１）第１のホログラムを有する第１面と第２のホログ
ラムを有する第２面を重ね合わせてゾーンプレート状モ
アレ縞を生じせしめ、前記第１のホログラムを有する第
１面を観測面に対して位置決めし、前記モアレ縞にコヒ
ーレント光を照射して生じる回折光が、前記観測面の定
められた位置に生じるように、前記第２面の位置を調整
することを特徴とする位置決め方法。 - （２）第１のホログラムとして、球面波を再生するゾー
ンプレートおよび第２のホログラムとして、前記第１の
ホログラムと焦点距離の同一あるいは異なった球面波を
再生するゾーンプレートであることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の位置決め方法。 - （３）第１のホログラムとして、平面波を再生する単純
格子および第２のホログラムとして、球面波を再生する
ゾーンプレートであることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の位置決め方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61002396A JP2723502B2 (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 | 位置決め方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61002396A JP2723502B2 (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 | 位置決め方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62159429A true JPS62159429A (ja) | 1987-07-15 |
| JP2723502B2 JP2723502B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=11528077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61002396A Expired - Lifetime JP2723502B2 (ja) | 1986-01-08 | 1986-01-08 | 位置決め方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2723502B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102981380A (zh) * | 2011-09-07 | 2013-03-20 | 上海微电子装备有限公司 | 用于光刻设备的预对准装置及方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6244608A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-26 | Tokyo Optical Co Ltd | 測定用ホログラム原器のセッティング方法及びそのための装置 |
-
1986
- 1986-01-08 JP JP61002396A patent/JP2723502B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6244608A (ja) * | 1985-08-22 | 1987-02-26 | Tokyo Optical Co Ltd | 測定用ホログラム原器のセッティング方法及びそのための装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102981380A (zh) * | 2011-09-07 | 2013-03-20 | 上海微电子装备有限公司 | 用于光刻设备的预对准装置及方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2723502B2 (ja) | 1998-03-09 |
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