JPS62159414A

JPS62159414A - 薄膜形成装置

Info

Publication number: JPS62159414A
Application number: JP188286A
Authority: JP
Inventors: Tsuneo Takahashi; 庸夫高橋; Hitoshi Ishii; 仁石井
Original assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Current assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date: 1986-01-08
Filing date: 1986-01-08
Publication date: 1987-07-15

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】発明の分野本発明は、真壁容器内に駆動部分を有しない真空容器へ
の試料導入装置に関するものである。

先行技術従来の真空容器内へのウェハ試料の搬送導入装置では、
ウェハ試料を予備排気室に置き、比較的高い真空度まで
排気した後、真空容器と接続するゲートを開き、ウェハ
試料を真空容器に搬送する。

このとき、従来の装置では、真空容器内に外部から操作
可能な駆動機構を有しており、これを操作することによ
りウェハ試料を受は取ジ、所望の場所に設置することに
なる。

たとえば、従来の真空容器内へのウェハ試料の搬送導入
装置の一例としては、たとえば第６図に示すようにＭ線
導入棒１を用い、その先端のウェハ台２にウェハを置き
、予備排気室３からゲートバルブ４を通って、高真空容
器５の中にとりつけられた、上下機構６を有する試料台
７の上方にウェハを移送し、上下機構６を操作してウエ
ノ・台２から試料台７にウエノ％受けとるという方式を
用いていた（第６図参照）。直線導入の方法とじては、
第７図（ａ）の様な伸び縮みの可能なベロー９を用いる
方法、あるいは（ｂ）図の様な直線導入棒の端に導入マ
グネット（あるいは鉄心）ｌｌｆ、取り付け、パイプｎ
の外側に取り付けたマグネット１３の磁力により、＠線
導入棒を動かす方法がある。この方法は、真空容器と外
界と全完全に分離したまま、棒を移動できる方法である
。一方、若干操作性。

気密性に劣るが、導入棒１を０リング１４によっておさ
えると同時にこのＯリングによって真空容器ｌＯと外界
とを分離する方法もある（第８図参照）。

上記の試料導入法では、ウニ・・は一方向に移動し搬送
されるだけであり、真空容器内に用意した機構部分を動
かし、ウェハを受けとらなければならない。これまでの
分子線エピタキシ（ＭＢＥ）用真空容器等では、この機
構部分への薄膜の堆積は殆んど生じなかったので上記方
法で問題はなかったが、ＭＢＥ用のソース材料としてガ
スを用いる場合、真空容器によるＣＶＤあるいは、ガス
ソースのエピタキシャル成長を行なう場合には、ガスの
拡散と反応により機構部分への薄膜の堆積が生じ、機構
部分の部品の劣化あるいは、それを動作させた場合の発
しんによるウェハの汚染が問題になる。

また真空容器内に複雑な機構を有するために、真空への
排気速度が遅くなるという問題もある。

発明の目的本発明の目的は、この点を改良し内部に駆動部分を具備
しない真空反応容器への試料導入機構を提供することに
ある。

発明の特徴及び構成本発明では、ウェハを挿入しようとする高真を容器（真
空容器も含む）内に駆動部分を持たせず、予備排気室側
に駆動機構を持たせる構造とすることを最も主要な特徴
とする。従来の高真空容器内に駆動部分を具える構成と
は駆動部分の位置が異なることを特徴とする。本発明で
は、従来の直線導入（第ｑ図、第ｇ図）に相当するもの
として、予備排気室内に試料を直線導入し、かつ上下機
構あるいは直線導入棒１を回転させる機構を有する構成
とし、ウェハを高真空容器（反応容器）内の試料台上に
置いてくることが可能なようにするものである。

上記の高真空容器は、試料に薄膜を堆積する薄膜成料の
発生源を内部に具備することは勿論であり、反応容器と
称せられる。

〔実施例１］第１図は、本発明の一つの実施例を説明する図であって
、２１は、第７図、第Ｓ図で説明したような従来の直線
導入装置であり、ｎはベロー等の変形可能なパイプ状部
品である。第１図では、例として第７図（ｂ）の機構を
用いた場合について図示しである。これ全動作させるた
めには、ウェハ台２上にウェハを置き、試料台７の上方
にウェハを移送した後、ベロー２２を変形させ直線導入
装置２１を傾け、ウェハを試料台７上に置く。このとき
、試料台７にウェハ台２が入るに十分な空間を開けてシ
けば、上記の方法によりウェハ８ｔ−試料台７の上に置
くことができる。次に、直線導入装置を傾けたまま導入
棒１を後退させることにより、ウェハのみを試料台に残
して、第１図（ａ）の状態にできゲート４を閉じて、高
真空容器を外界と隔離できる。この逆を行えば、ウェハ
を予備排気室にもどすことができる。なお、第１図では
、試料台がウェハの下方向に固定されている形にしであ
るが、取り付は方向、試料台構造は自由であることは言
うまでもない。また、ガスを使用する高真空容器が多数
必要な時には、本発明の試料導入機構を有した予備排気
室を多数そなえれば良い。この除温」図（ｂ）のように
予備排気室２４と２つの高真空容器５．３０とゲートバ
ルブ４．２３ｔ−介して直線的に接続し、１つの予備排
気室側２つの高真空容器への試料導入機構を有する室と
して用いることも可能である。この第１図（ｂ）の構成
の場合、予備排気室と高真空容器３０の真空排気機構は
共用することも可能である。

〔実施例２〕第２図はもう一つの本発明の実施例であり、２１は第１
図と同様な直線導入装置、部は上下機構、２６は導入棒
押し上げ台である。この構成では、導入棒１をわずかに
たわませることのできる金属。

合成樹脂、セラミック等の材料で作成しておき、試料台
７上方にウェハ台２を移動させた状態で、上下機構２５
を操作し、導入棒を上下させ、試料台７とウェハ台２と
の間でウェハのやり取りが可能となる。この上下機構部
は回転導入機構によっても可能であることは言うまでも
ない。この場合にガスを使用する高真空容器が多数必要
となる場合は、上記の実施例と同様である。

〔実施例３〕第３図はもう一つの実施例であり、これは直線導入装置
２１に、厘扉導入棒１の回転機構を合わせもつ構成とし
たものである。この構成は、第７図（ａ）のベローを用
いた直線導入方式において、ベロー９と導入棒１の接続
部分に既知の回転導入装置を挿入する方式あるいは、第
７図（ｂ）の方式でマグネットと鉄心あるいはマグネッ
トとマグネットとの磁力作用により、直線移動力と同時
に回転力も伝える方式が可能である。なお気密性は劣る
が第８図の方式を用いれば外界より直接回転できるのは
言うまでもない。第３図の例では、磁力作用を用いた構
造が図示しである。

この方式での試料台とのウェハの受は渡しは、第３図（
ｂ）あるいは（ｃ）の様な方式で可能となる。すなわち
、第３図（ｂ）では、２本の導入棒を用い、その先端に
つけたつめＩでウェハをはさんで高真空容器５内の試料
台７の上方に移送し、そこで２本の導入棒をつめが開く
方向に回転させ、ウェハを試料台７上に置く。逆にウェ
ハ金持ち帰る場合は、つめ２７を開いた状態で試料台７
の上方につめを移動させ、導入棒１を回転させ、つめｎ
でウェハ８をつかみ上げ持ち帰ることが可能となる。第
３図（ｃ）の方式は、導入棒を１本としたもので、つめ
γでウェハをすくい取る方式としたものである。

Ｃ実施例４〕第４図に、多数の高真空容器に対して１つの予備排気呈
奮通して、試料を導入する例の立面図を示す。この例で
は３個の高真空容器５に対して、予備排気室３全１個用
意し、この予備排気室３に上記３つの実施例に示した様
な試料導入機構２８を有する構造としである。この例で
は、実施例１で説明した第１図（＆）の実施例を用いた
場合について図示しである。この場合、それぞれの高真
空容器に対して、１本づつの直線導入を有した試料導入
機構２８を多数用意する方法があることは言うまでもな
いが、ここでは、１つの試料導入機構で行う場合につい
て示した。この方式では、直線導入機構と予備排気室と
の間をベロー等の変形可能なパイプ２９で接続し、その
変形を利用して、どの高真空容器内に対しても、一つの
直線導入機構により試料の田し入れができる様にしてい
る。この様にすることにより、１つの高真空容器から取
り出した試料をもう一つの高真空容器に入れるという作
業が容易になる。なお、この第４図に図示した様な、実
施例１とを組み合わせた場合は、第１図（ａ）のベロー
２２と本実施例のベロー２９ヲ共用することができるこ
とは言うまでもない。

〔実施例５〕第５図に、もう１つの多数の高真空容器を有する場合に
ついて例を示す。試料導入機構３１ヲ有する予備排気室
３２ヲゲートバルプ４１を介して第１の高真空容器内に
接続し、試料の出し入れを行える様にしである。さらに
、この第１の高真空容器内もう１つのゲートパルプ４２
を介して第２の予備排気室温と接続し、さらにこれとゲ
ートパルプ４６を介して第２の高真空容器あが接続しで
ある。また、第２の予備排気室Ｍには、第１の高真空容
器から試料の出し入れを行う試料導入機構３６と第２の
高真空容器から試料の出し入れを行う試料導入機構３７
２ａ−設けである。この２つの導入機構の間では、直接
空中であるいは一旦試料台等を介して試料の受は渡しが
できる様にしておく。この様な構成を取ることにより試
料を各室間で移動できることになる。また、より多くの
高真空容器５内する場合は、この様な接続方式を繰り返
見せは良い。この実施例の試料導入機構３１　、３６　
、３７としては、実施例１，２．３で示した試料導入機
構のどれかを用いれば良い。第５図では実施例２の場合
の例が示しである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明による高真空容器へのウェハ試料導入
装置の実施例全示し、第２図及び第３図は、本発明の他の実施例である。第４図及び第５図は、多数の高真空容器を用いる場合の
本発明の他の実施例である。第６図は、従来の真空容器へのウェハ試料導入装置の断
面図を示し、第７図は、直線導入装置の例、第８図は、気密性の劣る直線導入装置の例を示す。図において、１・・・試料導入棒２・・・ウェハ置き台３．２４．３２．３４・・・予備排気室４．２３・・・
ゲートバルブ５．３０．３３．３５・・・高真空容器６．２５・・・
上下機構７・・・試料台８・・・ウェハ９．２９・・・ペロー１０・・・容器１１　、１３・・・鉄心あるいはマグネット１２・・・
パイプ１４・・・Ｏリング２１・・・直線導入装置 η・・・ペロー２６・・・導入棒押し上げ台訃・・つめ羽、　３１　、３６　、３７・・・試料導入機構（Ｇ）（ｂ）第１図二遍 ′ｉｇ２　　図第４図第　５　図第　６　図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）少なくとも１個の高真空反応容器と少なくとも１
個の予備排気室とを具え、前記高真空反応容器と予備排
気室とは開閉可能なゲートバルブにより接続され、前記
予備排気室内に試料の直線導入機構及び試料の上下機構
又は回転機構を具え、前記高真空反応容器へ前記ゲート
バルブを介して試料の設置、取り出しを可能としたこと
を特徴とする薄膜形成装置。
（２）前記高真空反応容器の内部には、前記試料に薄膜
を堆積する薄膜材料の発生源を具える前記特許請求の範
囲第１項記載の薄膜形成装置。