JPS62154672A - アモルフアスシリコン太陽電池 - Google Patents

アモルフアスシリコン太陽電池

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Publication number
JPS62154672A
JPS62154672A JP60297401A JP29740185A JPS62154672A JP S62154672 A JPS62154672 A JP S62154672A JP 60297401 A JP60297401 A JP 60297401A JP 29740185 A JP29740185 A JP 29740185A JP S62154672 A JPS62154672 A JP S62154672A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
amorphous silicon
transparent conductive
conductive film
solar cell
silicon solar
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Pending
Application number
JP60297401A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Oka
岡 博史
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Publication of JPS62154672A publication Critical patent/JPS62154672A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02167Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • H01L31/02168Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells the coatings being antireflective or having enhancing optical properties for the solar cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、基板とアモルファスシリコン半導体層と透明
導電膜層とを備えたアモルファスシリコン太陽電池の改
良に関するものである。
〈従来の技術〉 従来、アモルファスシリコン太陽電池における透明導電
膜としては、非常に低抵抗でかつ透明であるという理由
から酸化インジウム(InzO3)に5wt%の酸化ス
ズ(5nOz )を含んだITO膜が用いられている。
〈発明が解決しようとする問題点〉 上記のように従来のアモルファスシリコン太陽明導電膜
としてITO膜を用いた場合、透明導電膜とその上部の
層(オーバーコート層または空気層)と下部の層(アモ
ルファスシリコン半導体層)との屈折率のマツチングが
とれていないことが判明した。この結果、従来のアモル
ファスシリコン太陽電池にあっては受光面での反射率が
大きく、アモルファスシリコン太陽電池への入射光損失
が大きい等の問題点がある。
本発明は上記の点に鑑みて創案されたもので、アモルフ
ァスシリコン太陽電池への入射光損失を減少させるため
、適切な屈折率を持つ透明導電膜を備えたアモルファス
シリコン太陽電池を提供することを目的としている。
く問題点を解決するための手段〉 上記の目的を達成するため、本発明は基板とアモルフ7
スシリコン半尋体層と透明導電膜層とを備えたアモルフ
ァスシリコン太陽を池において、透明導電膜層を5n0
2を全くドーピングしないIn2O3により構成するよ
うに成している。
く作 用〉 アモルファスシリコン半導体層の屈折率は5,7−0.
00024λ(λはA単位の波長)であり、透明導電膜
としてITO膜より高い屈折率を有するs no2を全
くドーピングしないIn2O3を用いることによりアモ
ルファスシリコン太陽電池の反射率が減少し、太陽電池
の効率が改善されることにニアZる。
〈実施例〉 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明す
る。
第1図は本発明の一実施例の構造を示す図である。
第1図において、!はステンレス基板、2はステンレス
基板1上に形成された光起電力発生層としてのアモルフ
ァスシリコン半導体層、3は透明導電膜層でるり、本発
明にしたがって5n02を全くドーピングしないIn2
O3により例えば7oodの膜厚に構成されている。ま
た4は透明導電膜層3上に形成されたガラス、メラニン
樹脂等よりなるオーバーコート層である。
第2図は透明導電膜3の屈折率を変化させた場合のアモ
ルファスシリコン太陽電池の反射率をシュミレーション
した結果を示したものである。なお、第2図に示す結果
は、空気の屈折率を1.01オ一バーコート層4の屈折
率を1.5、アモルファスシリコン半導体層2の屈折率
を5.7−0.00024人(ただしλはA単位の波長
)、透明導電膜層3の膜厚を70OAとした場合を示し
ている。
この第2図より明らかなように透明4を層3の屈折率を
高くすることにより、アモルファスシリコン太陽電池の
反射率は減少する。したがって第1図に示した本発明の
実施例のように透明導電膜層3を従来のITOから5n
Ozを全くドーピングしないIn2O3に代えて形成す
ることにより、透明導電膜層3の屈折率が凡そ1,8か
ら2.0と高くなり、その結果アモルファスシリコン太
陽電池の反射率が5%低下することKなる。
第3図は第1図に示す本発明の実施例と、同様の構造で
透明導電膜層3を従来のようにITOを用いて構成した
場合の太陽電池の反射率の比較を行なったものである。
この第3図より明らかなように透明導電膜層をITOか
らIn2O+VC代えることによってアモルファスシリ
コン太陽電池の反射率が5%低下し、この結果、入射光
損失が減少し、アモルファスシリコン太陽電池の効果を
5%改善することが出来た。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
例えばオーバーコート層4を備えていないアモルファス
シリコン太陽電池に用いても、同様の結果を得ることが
出来る。
〈発明の効果〉 以上のように本発明によれば、透明導電膜層として5n
o2を全くドーピングしないIn2O3を用いることに
より、屈折率が大きくなり、光学的マツることが出来る
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の構造を示す図、第2図は透
明導電膜の屈折率変化によるアモルファスシリコン太陽
電池の反射率の変化のシュミレーション結果を示す図、
第3図は従来及び本発明のアモルファス7リコン太陽電
池の反射率の比較結果を示す図である。 !・・・ステンレス基板、2・・・アモルファスシリコ
ン半導体層、3・・・透明導電膜層(In203)、4
・・・オーバーコート層。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基板とアモルファスシリコン半導体層と透明導電膜
    層とを備えたアモルファスシリコン太陽電池において、 上記透明導電膜層をSnO_2を全くドーピングしない
    In_2O_3により構成してなることを特徴とするア
    モルファスシリコン太陽電池。
JP60297401A 1985-12-26 1985-12-26 アモルフアスシリコン太陽電池 Pending JPS62154672A (ja)

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JP60297401A JPS62154672A (ja) 1985-12-26 1985-12-26 アモルフアスシリコン太陽電池

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JP60297401A JPS62154672A (ja) 1985-12-26 1985-12-26 アモルフアスシリコン太陽電池

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JPS62154672A true JPS62154672A (ja) 1987-07-09

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