JPS62153377A - Pressure-sensitive adhesive sheet - Google Patents

Pressure-sensitive adhesive sheet

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JPS62153377A
JPS62153377A JP60295190A JP29519085A JPS62153377A JP S62153377 A JPS62153377 A JP S62153377A JP 60295190 A JP60295190 A JP 60295190A JP 29519085 A JP29519085 A JP 29519085A JP S62153377 A JPS62153377 A JP S62153377A
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JP
Japan
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adhesive sheet
pressure
sensitive adhesive
radiation
adhesive
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Kazuyoshi Ebe
和義 江部
Hiroaki Narita
博昭 成田
Katsuhisa Taguchi
田口 克久
Yoshitaka Akeda
明田 好孝
Takanori Saito
斉藤 隆則
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F S K KK
FSK Corp
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Abstract

PURPOSE:To carry out detection accurately, by a photosensor and to prevent malfunction during picking up a semiconductor wafer chip from a pressure- sensitive adhesive sheet, by adding a compd. capable of being colored by irradiation with a radiation to the pressure-sensitive adhesive layer of a pressure- sensitive adhesive sheet. CONSTITUTION:This pressure-sensitive adhesive sheet is obtd. by adding a compd. which is colored by irradiation with a radiation to the pressure-sensitive adhesive layer of a pressrue-sensitive adhesive sheet composed of a pressure- sensitive adhesive layer containing a pressure-sensitive adhesive and a radiation- polymerizable compd. provided on a substrate. Examples of the compd. which is colored by irradiation with a readiation are leuco pigments, among which 4,4',4''-trisdimethylaminotriphenyl methane is preferred. When a urethane acrylate oligomer having an MW of pref. 3,000-10,000 is used as said radiation- polymerizable compd., the adhesive is prevented from adhering to the surface of a wafer chip in picking it up, even when the surface of semiconductor wafer is rough.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は粘着シートに関し、さらに詳しくは、半導体ウ
ェハを小片に切断分離する際に特に好ましく用いられる
粘着シートに関する。
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet, and more particularly to a pressure-sensitive adhesive sheet that is particularly preferably used when cutting and separating semiconductor wafers into small pieces.

発明の技術的背景ならびにその問題点 シリコン、ガリウムヒ素などの半導体ウェハは大径の状
態で製造され、このウェハは素子小片に切断分離(ダイ
シング)された後に次の工程であるマウント工程に移さ
れている。この際、半導体ウェハは予じめ粘着シートに
貼着された状態でダイシング、洗浄、乾燥、エキスパン
ディング、ピックアップ、マウンティングの各工程が加
えられている。
Technical background of the invention and its problems Semiconductor wafers of silicon, gallium arsenide, etc. are manufactured in a large diameter state, and after this wafer is cut and separated (diced) into small element pieces, it is transferred to the next process, a mounting process. ing. At this time, the semiconductor wafer is previously attached to an adhesive sheet and subjected to the following steps: dicing, cleaning, drying, expanding, picking up, and mounting.

このような半導体ウェハのダイシング工程で用いられて
いる粘着シートとしては、従来、塩化ビニル、ポリプロ
ピレンなどの基材面上にアクリル系などの粘着剤層が設
けられたものが用いられてきた。ところがこのようなア
クリル系の粘着剤層を有する粘着シートでは、ダイシン
グされた半導体ウェハの各チップをピックアップする際
にチップ表面に粘着剤が残存してチップが汚染されてし
まうという問題点があった。
The adhesive sheet used in such a semiconductor wafer dicing process has conventionally been one in which an acrylic or other adhesive layer is provided on a base material such as vinyl chloride or polypropylene. However, with such adhesive sheets having an acrylic adhesive layer, there was a problem in that when each chip of a diced semiconductor wafer was picked up, the adhesive remained on the chip surface and the chips were contaminated. .

このような問題点を解決するため、従来、基材面へ粘着
剤を全面的に塗布するのではなく部分的に塗布して粘着
剤の量を少なくする方法が提案されている。この方法に
よれば、全体のチップ数に対する粘着剤量は減少してチ
ップ面の粘着剤による汚染はある程度減少させることは
できるが、ウェハチップと粘着シートとの接着力は減少
するため、ダイシング工程に引続いて行なわれる洗浄、
乾燥、エキスパンディングの各工程中にウェハチップが
粘着シートから脱離してしまうという新たな問題点が生
じている。
In order to solve these problems, conventional methods have been proposed in which the amount of adhesive is reduced by partially applying the adhesive to the base material surface instead of applying it to the entire surface. According to this method, the amount of adhesive relative to the total number of chips is reduced and the contamination of the chip surface by the adhesive can be reduced to some extent, but the adhesive force between the wafer chips and the adhesive sheet is reduced, so the dicing process cleaning followed by
A new problem arises in that the wafer chip detaches from the adhesive sheet during the drying and expanding steps.

このような半導体ウェハのダイシング工程からピックア
ップ工程に至る工程で用いられる粘着シートとしては、
ダイシング工程からエキスパンディング工程までではウ
ェハチップに対して充分な接着力を有しており、ピック
アップ工程ではウェハチップに粘着剤が付着しない程度
の接着力を有しているものが望まれている。
Adhesive sheets used in processes ranging from the dicing process to the pick-up process of semiconductor wafers include:
It is desired that the adhesive has sufficient adhesive strength to the wafer chips from the dicing process to the expanding process, and has enough adhesive strength to prevent the adhesive from adhering to the wafer chips in the pickup process.

このような粘着シートとしては、特開昭60−196.
956号公報および特開昭60−223゜139@公報
に、基vJ而に、光照射によって三次元網状化しうる分
子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも2個以
上有する低分子量化合物からなる粘着剤を塗布した粘着
シートが提案されている。そして該公報では、分子内に
光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも2個以上有す
る低分子量化合物としては、トリメチロールプロパンア
クリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレー
ト、ペンタエリスワトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールへキサアクリレートあるいは1,4−ブチレ
ングリコールジアクリレート、1,6〜ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート、市販のオリゴエステルアクリレートなどが例示さ
れている。
As such an adhesive sheet, JP-A-60-196.
No. 956 and JP-A No. 60-223゜139@, a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule that can be formed into a three-dimensional network by irradiation with light is disclosed A pressure-sensitive adhesive sheet coated with a pressure-sensitive adhesive has been proposed. According to the publication, low molecular weight compounds having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule include trimethylolpropane acrylate, tetramethylolmethanetetraacrylate, pentaeryswattol triacrylate, and pentaerythritoltetraacrylate. Examples include acrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, and commercially available oligoester acrylate. There is.

上記に例示されたような分子内に光重合性炭素−炭素二
重結合を少なくとも2個以上有する低分子量化合物から
なる粘着剤層を塗布した粘着シートは、次のような問題
点があることが本発明者らによって見出された。粘着シ
ート上に半導体ウェハを貼着して該ウェハにダイシング
工程を施こし、次いで切断分離されたウェハチップをピ
ックアップするが、この際にチップの位置は光センサー
などによって検出されていた。ところが上記のような粘
着シートでは、チップ位置の検出光が粘着シートによっ
て反射されることがおるため、精度よくチップの位置を
検出することができなくなり、ピックアップ時に誤動作
が発生することがおるという問題点があることが本発明
者らによって見出された。また上記のような粘着シート
では紫外線を照射した場合に、一応粘着力は低下するが
最適値までは粘着力が低下せず、大チップになるほどピ
ックアップでないという問題点があることが本発明者ら
によって見出された。
Adhesive sheets coated with an adhesive layer made of a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule as exemplified above may have the following problems. Discovered by the present inventors. A semiconductor wafer is pasted onto an adhesive sheet, the wafer is subjected to a dicing process, and the cut and separated wafer chips are then picked up. At this time, the position of the chip is detected by an optical sensor or the like. However, with the above-mentioned adhesive sheet, the detection light for the chip position may be reflected by the adhesive sheet, making it impossible to accurately detect the chip position, which may lead to malfunctions during pickup. The inventors found that there are points. In addition, the inventors have discovered that with the above-mentioned adhesive sheet, when irradiated with ultraviolet rays, the adhesive strength temporarily decreases, but the adhesive strength does not decrease until it reaches the optimal value, and the larger the chip, the less it is picked up. discovered by.

本発明者らは、このような従来技術に伴なう問題点を解
決すべく鋭意検討したところ、粘着剤層中に放射線照射
により着色する化合物を添加すればよいこと見出して本
発明を完成するに至った。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the problems associated with the conventional technology, and have found that it is sufficient to add a compound that can be colored by radiation irradiation to the adhesive layer, thereby completing the present invention. reached.

また光重合性化合物としてウレタンアクリレート系オリ
ゴマーを用いれば、極めて優れた特性を有する粘着シー
トが得られることを見出した。
We have also discovered that if a urethane acrylate oligomer is used as a photopolymerizable compound, a pressure-sensitive adhesive sheet with extremely excellent properties can be obtained.

発明の目的 本発明は、上記のような従来技術に伴なう問題点を一挙
に解決しようとするものであって、ウェハチップを粘着
シートからピックアップする際に光センサーによる検出
を精度よく行なうことができ、したがってウェハチップ
の位置決め工程で誤動作が生ずることがなく、しかも放
9A線の照射前には充分な接着力を有するとともに放射
線の照射後にはその接着力が充分に低下してウェハチッ
プの裏表面に粘着剤が付着することがなく、その上ダイ
シング工程を管理する作業者が粘着シートに放射線が照
射されたか否かを容易に確認でき、工程上のトラブルを
未然に防止できる、半導体ウェハをダイシング工程に付
する際に特に好ましく用いられる粘着シートを提供する
ことを目的としている。
Purpose of the Invention The present invention aims to solve all of the problems associated with the prior art as described above, and is to perform detection with an optical sensor with high precision when picking up wafer chips from an adhesive sheet. Therefore, malfunctions do not occur during the wafer chip positioning process, and in addition, it has sufficient adhesive strength before irradiation with radiation 9A radiation, and the adhesive strength decreases sufficiently after radiation irradiation, so that the wafer chip Semiconductor wafers that do not have adhesive attached to the back surface, and in addition, workers managing the dicing process can easily check whether or not the adhesive sheet has been irradiated with radiation, preventing process problems. It is an object of the present invention to provide a pressure-sensitive adhesive sheet that is particularly preferably used when subjecting a material to a dicing process.

発明の概要 本発明に係る粘着シートは、基材面上に粘着剤と放射線
重合性化合物とからなる粘着剤層を塗布してなる粘着シ
ートにおいて、粘着剤層中に放射線照射により着色する
化合物を添加したことを特徴としている。
Summary of the Invention The pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention is a pressure-sensitive adhesive sheet in which a pressure-sensitive adhesive layer made of a pressure-sensitive adhesive and a radiation-polymerizable compound is coated on a base material surface, and a compound that is colored by radiation irradiation is added to the pressure-sensitive adhesive layer. It is characterized by the addition of

本発明に係る粘着シートでは、粘着剤層には、粘着剤と
放射線重合性化合物とに加えて、放射線照射により着色
する化合物が添加されているため、粘着シートに放射線
が照射された後には該シートは着色されており、したが
って光センサーによってウェハチップを検出する際に検
出精度が高まり、ウェハチップのピックアップ時に誤動
作が生ずることがない。また粘着シートに放射線が照射
れたか否かが目視により直ちに判明する。ざらに粘着シ
ート中の放射線重合性化合物としてウレタンアクリレー
ト系オリゴマーを用いると、極めて優れた性能を有する
粘着シートが得られる。
In the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention, in addition to the pressure-sensitive adhesive and the radiation-polymerizable compound, a compound that is colored by radiation irradiation is added to the pressure-sensitive adhesive layer. The sheet is colored, so that the optical sensor can detect the wafer chips with high detection accuracy, and no malfunction will occur when picking up the wafer chips. Also, whether or not the adhesive sheet has been irradiated with radiation can be immediately determined by visual inspection. When a urethane acrylate oligomer is used as a radiation-polymerizable compound in a PSA sheet, a PSA sheet with extremely excellent performance can be obtained.

発明の詳細な説明 以下本発明に係る粘着シートを具体的に説明する。Detailed description of the invention The adhesive sheet according to the present invention will be specifically explained below.

本発明に係る粘着シート1は、その断面図が第1図に示
されるように、基材2とこの表面に塗着された粘着剤層
3とからなっており、使用前にはこの粘着剤層3を保護
するため、第2図に示すように粘着剤3の上面に剥離性
シート4を仮粘着しておくことが好ましい。
As the cross-sectional view of the adhesive sheet 1 according to the present invention is shown in FIG. In order to protect the layer 3, it is preferable to temporarily attach a releasable sheet 4 to the upper surface of the adhesive 3 as shown in FIG.

本発明に係る粘着シートの形状は、テープ状、ラベル状
などあらゆる形状をとりうる。基材2としては、導電率
が低く、耐水性および耐熱性に優れているものが適し、
特に合成樹脂フィルムが適する。本発明の粘着シートで
は、後記するように、その使用に当り、E、B、やU、
V、などの放射線照射が行なわれているので、E、B、
照射の場合は、該基材2は透明である必要はないが、U
The shape of the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention can be any shape such as a tape shape or a label shape. As the base material 2, a material with low electrical conductivity and excellent water resistance and heat resistance is suitable.
In particular, synthetic resin films are suitable. In the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention, as described later, E, B, U,
Since radiation irradiation such as V is being carried out, E, B,
In the case of irradiation, the substrate 2 need not be transparent, but
.

■、照射をして用いる場合は、透明な材料である必要が
ある。
(2) When used with irradiation, the material must be transparent.

このような基材2としては、具体的に、ポリエチレンフ
ィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィ
ルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチ
レンテレフタレートフィルム、ポリブテンフィルム、ポ
リブタジェンフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリメ
チルペンテンフィルム、エチレン酸ごフィルムなどが用
いられる。
Specific examples of such a base material 2 include polyethylene film, polypropylene film, polyvinyl chloride film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polybutene film, polybutadiene film, polyurethane film, polymethylpentene film, and ethylene film. Acid film etc. are used.

半導体ウェハのダイシング後にエキスパディング処理を
する必要がある場合には、従来と同様にポリ塩化ビニル
、ポリプロピレンなどの長さ方向および幅方向に延伸性
をもつ合成樹脂フィルムを基材として用いることが好ま
しいが、かかるエキスパンディング処理を必要としない
半導体加工処理や自動車などのマスキング用などに本発
明に係る粘着シートを用いる場合には、伸張性のない任
意の基材も使用できる。
If it is necessary to perform an expanding process after dicing a semiconductor wafer, it is preferable to use a synthetic resin film that is stretchable in the length and width directions, such as polyvinyl chloride or polypropylene, as the base material, as in the past. However, when the adhesive sheet according to the present invention is used for semiconductor processing that does not require such an expanding treatment or for masking of automobiles, etc., any base material without extensibility can also be used.

本発明では、上記のような基材2上に設けられる粘着剤
層3は、粘着剤と、放射線重合性化合物と、放射線照射
により着色する化合物とを含んで形成されている。
In the present invention, the adhesive layer 3 provided on the base material 2 as described above is formed including an adhesive, a radiation polymerizable compound, and a compound that is colored by radiation irradiation.

粘着剤としては従来公知のものが広く用いられつるが、
アクリル系粘着剤が好ましく、具体的には、アクリル系
エステルを主たる構成単量体単位とする単独重合体およ
び共重合体から選ばれたアクリル系重合体その他の官能
性単量体との共重合体およびこれら重合体の混合物であ
る。たとえば、モノマーのアクリル酸エステルとして、
メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸ブチル、メタア
クリル酸−2−エチルヘキシル、メタアクリル酸グリシ
ジル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシエチルなど、ま
た上記のメタアクリル酸をたとえばアクリル酸に代えた
ものなども好ましく使用できる。
Conventionally known adhesives are widely used, but
Acrylic adhesives are preferred, and specifically, acrylic polymers selected from homopolymers and copolymers containing acrylic esters as the main constituent monomer unit and copolymers with other functional monomers. and mixtures of these polymers. For example, as a monomer acrylic ester,
Ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, etc., and those in which the above methacrylic acid is replaced with acrylic acid are also preferred. Can be used.

さらに後述するオリゴマーとの相溶性を高めるため、(
メタ〉アクリル酸、アクリロニトリル、酢酸ビニルなど
のモノマーを共重合させてもよい。
Furthermore, in order to increase the compatibility with the oligomers described later, (
Monomers such as meth>acrylic acid, acrylonitrile, and vinyl acetate may be copolymerized.

これらのモノマーから重合して得られるアクリル系重合
体の分子量は、2.0X105〜10.0X10”でお
り、好ましくは、4.0X105〜8.0X10”であ
る。
The molecular weight of the acrylic polymer obtained by polymerizing these monomers is 2.0X105 to 10.0X10'', preferably 4.0X105 to 8.0X10''.

また放射線重合性化合物としては、たとえば特開昭60
−196.956M公報および特開昭60−223,1
39号公報に開示されているような光照射によって三次
元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を
少なくとも2個以上有する低分子量化合物が広く用いら
れ、具体的には、トリメチロールプロパンアクリレート
、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒ
トロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトール
へキサアクリレートあるいは1.4−ブチレングリコー
ルジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販
のオリゴエステルアクリレートなどが用いられる。
In addition, examples of radiation polymerizable compounds include, for example, JP-A-60
-196.956M publication and JP-A-60-223,1
Low molecular weight compounds having at least two or more photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule that can be formed into a three-dimensional network by light irradiation, as disclosed in Japanese Patent Application No. 39, are widely used. Methylolpropane acrylate, tetramethylolmethanetetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate or 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexane Diol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, commercially available oligoester acrylate, etc. are used.

ざらに放射線重合性化合物として、上記のようなアクリ
レート系化合物のほかに、ウレタンアクリレート系オリ
ゴマーを用いることもできる。ウレタンアクリレート系
オリゴマーは、ポリエステル型またはポリエーテル型な
どのポリオール化合物と、多価イソシアナート化合物た
とえば2.4−トリレンジインシアナート、2.6−ト
リレンジインシアナート、1,3−キシリレンジイソシ
アナート、1゜4−キシリレンジイソシアナート、ジフ
ェニルメタン4.4−ジイソシアナートなどを反応させ
て得られる末端イソシアナートウレタンプレポリマーに
、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレートたとえ
ば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレン
グリコール(メタ)アクリレートなどを反応させて得ら
れる。このウレタンアクリレート系オリゴマーは、炭素
−炭素二重結合を少なくとも1個以上有する放射線重合
性化合物である。
In addition to the above-mentioned acrylate compounds, urethane acrylate oligomers can also be used as radiation polymerizable compounds. The urethane acrylate oligomer is composed of a polyol compound such as a polyester type or a polyether type, and a polyvalent isocyanate compound such as 2,4-tolylene diine cyanate, 2,6-tolylene diine cyanate, 1,3-xylylene dicyanate, etc. A (meth)acrylate having a hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, is added to a terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting isocyanate, 1°4-xylylene diisocyanate, diphenylmethane 4,4-diisocyanate, etc. ) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, polyethylene glycol (meth)acrylate, etc. are reacted. This urethane acrylate oligomer is a radiation polymerizable compound having at least one carbon-carbon double bond.

このようなウレタンアクリレート系オリゴマーとして、
特に分子量が3000〜10000好ましくは4000
〜8000であるものを用いると、半導体ウェハ表面が
粗い場合にも、ウェハチップのピックアップ時にチップ
表面に粘着剤が付着することがないため好ましい。また
ウレタンアクリレート系オリゴマーを放射線重合性化合
物として用いる場合には、特開昭60−196,956
号公報に開示されたような分子内に光重合性炭素−炭素
二重結合を少なくとも2個以上有する低分子量化合物を
用いた場合と比較して、粘着シートとして極めて優れた
ものが得られる。すなわち粘着シートの放射線照射前の
接着力は充分に大きく、また放射線照射後には接着力が
充分に低下してウェハチップのピックアップ時にチップ
表面に粘着剤か残存することはない。
As such urethane acrylate oligomer,
In particular, the molecular weight is 3,000 to 10,000, preferably 4,000.
It is preferable to use one having a molecular weight of 8,000 to 8,000, because even if the surface of the semiconductor wafer is rough, the adhesive will not adhere to the chip surface when the wafer chip is picked up. Furthermore, when using a urethane acrylate oligomer as a radiation polymerizable compound, JP-A-60-196,956
Compared to the case of using a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule as disclosed in the above publication, an extremely superior pressure-sensitive adhesive sheet can be obtained. That is, the adhesive strength of the adhesive sheet before radiation irradiation is sufficiently large, and the adhesive strength decreases sufficiently after radiation irradiation, so that no adhesive remains on the chip surface when the wafer chip is picked up.

本発明における粘着剤中のアクリル系粘着剤とウレタン
アクリレート系オリゴマーの配合比は、アクリル系粘着
剤10〜90重量部に対してウレタンアクリレート系オ
リゴマーは90〜10重量部の範囲の量で用いられるこ
とが好ましい。この場合には、1qられる粘着シートは
初期の接着力が大きくしかも放射線照射後には粘着力は
大きく低下し、容易にウェハチップを該粘着シートから
ピックアップすることができる。
The blending ratio of the acrylic adhesive and the urethane acrylate oligomer in the adhesive in the present invention is such that the urethane acrylate oligomer is used in an amount of 90 to 10 parts by weight per 10 to 90 parts by weight of the acrylic adhesive. It is preferable. In this case, the adhesive sheet prepared by 1q has a high initial adhesive strength, but the adhesive strength decreases significantly after radiation irradiation, and the wafer chip can be easily picked up from the adhesive sheet.

本発明では、粘着剤層3中に上記のような粘着剤と放射
線重合性化合物とに加えて、放射線照射により着色する
化合物が含まれている。
In the present invention, the adhesive layer 3 contains, in addition to the above-described adhesive and radiation polymerizable compound, a compound that is colored by radiation irradiation.

放射線照射により着色する化合物は、放射線の照射前に
は無色または淡色であるが、放射線の照射により有色と
なる化合物であって、この化合物の好ましい具体例とし
てはロイコ染料が挙げられる。ロイコ染料としては、慣
用のトリフェニルメタン系、フルオラン系、フェノチア
ジン系、オーラミン系、スピロピラン系のものが好まし
く用いられる。具体的には3−[N−(P−トリルアミ
ソ) ]−7−アニリツフルオラン、3−[N−(P−
トリル)−N−メチルアミノ]−7−アニリツフルオラ
ン、3−[N−(P−トリル>−N−エチルアミノ]−
7−アニリツフルオラン、3−ジエチルアミノ −6−
メチル−7−アニリノフルオラン、クリスタルバイオレ
ットラクトン、4,4′、4°°−トリスジメチルアミ
ノトリフェニルメタノール、4.4°、4”−トリスジ
メチルアミノトリフェニルメタンなどが挙げられる。
A compound that is colored by radiation irradiation is a compound that is colorless or pale colored before radiation irradiation, but becomes colored by radiation irradiation, and a preferred specific example of this compound is a leuco dye. As the leuco dye, conventional triphenylmethane-based, fluoran-based, phenothiazine-based, auramine-based, and spiropyran-based dyes are preferably used. Specifically, 3-[N-(P-tolylamiso)]-7-anilitufluorane, 3-[N-(P-
tolyl)-N-methylamino]-7-anirithufluorane, 3-[N-(P-tolyl>-N-ethylamino]-
7-anirite fluorane, 3-diethylamino-6-
Examples include methyl-7-anilinofluorane, crystal violet lactone, 4,4',4°-trisdimethylaminotriphenylmethanol, and 4.4°,4''-trisdimethylaminotriphenylmethane.

これらロイコ染料とともに好ましく用いられる顕色剤と
しては、従来から用いられているフェノールホルマリン
樹脂の初期重合体、芳香族カルボン酸誘導体、活性白土
などの電子受容体が挙げられ、ざらに、色調を変化させ
る場合は種々公知の発色剤を組合せて用いることもでき
る。
Color developers that are preferably used with these leuco dyes include electron acceptors such as conventionally used initial polymers of phenol-formalin resin, aromatic carboxylic acid derivatives, and activated clay. In this case, various known coloring agents may be used in combination.

このような放射線照射によって着色する化合物は、一旦
有機溶媒などに溶解された後に接着剤層中に含ませても
よく、また微粉末状にして粘着剤層中に含ませてもよい
。この化合物は、粘着剤層中に0.01〜10重量%好
ましくは0.5〜5重量%の量で用いられることが望ま
しい。該化合物が10重量%を越えた母で用いられると
、粘着シートに照射される放射線がこの化合物に吸収さ
れすぎてしまうため、粘着剤層の硬化が不十分となり好
ましくなく、一方該化合物が0.01重量%未満の量で
用いられると放射線照射時に粘着シートが充分に着色し
ないことがあり、ウェハチップのピックアップ時に誤動
作が生じやすくなるため好ましくない。
Such a compound that is colored by radiation irradiation may be dissolved in an organic solvent or the like and then included in the adhesive layer, or may be made into a fine powder and included in the adhesive layer. This compound is desirably used in the adhesive layer in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight. If the compound exceeds 10% by weight, this compound will absorb too much of the radiation irradiated to the adhesive sheet, resulting in insufficient curing of the adhesive layer, which is undesirable. If it is used in an amount less than .01% by weight, the adhesive sheet may not be sufficiently colored during radiation irradiation, and malfunctions may easily occur when picking up wafer chips, which is not preferable.

また上記の粘着剤中に、イソシアネート系硬化剤を混合
することにより、初期の接着力を任意の値に設定するこ
とができる。このような硬化剤としては、具体的には多
価イソシアナート化合物、たとえば2.4−トリレンジ
イソシアナート、2.6−トリレンジイソシアナート、
1,3−キシリレンジイソシアナート、1,4−キシレ
ンジイソシアナート、ジフェニルメタン−4,4”−ジ
イソシアナート、ジフェニルメタン−2,4−ジイソシ
アナート、3−メチルジフェニルメタンジイソシアナー
ト、ヘキサメチレンジイソシアナート、インホロンジイ
ソシアナート、ジシクロキシシルメタン−4,4°−ジ
イソシアナート、ジシクロヘキシルメタン−2,4゛−
ジイソシアナート、リジンイソシアナートなどが用いら
れる。
Further, by mixing an isocyanate curing agent into the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, the initial adhesive strength can be set to an arbitrary value. Examples of such curing agents include polyvalent isocyanate compounds such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate,
1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4''-diisocyanate, diphenylmethane-2,4-diisocyanate, 3-methyldiphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate Isocyanate, inphorone diisocyanate, dicycloxylmethane-4,4°-diisocyanate, dicyclohexylmethane-2,4°-
Diisocyanate, lysine isocyanate, etc. are used.

ざらに上記の粘着剤中に、U、V、照射用の場合には、
U、V、開始剤を混入することにより、U、V、照射に
よる重合硬化時間ならびにU、V。
In the case of U, V, and irradiation in the above-mentioned adhesive,
By incorporating U, V, initiator, U, V, polymerization curing time by irradiation and U, V.

照射を少なくなることができる。Irradiation can be reduced.

このようなU、V、開始剤としては、具体的には、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジル
ジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサ
ルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル
、ジアセチル、β −クロールアンスラキノンなどが挙
げられる。
Specific examples of such U, V, and initiators include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl diphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, dibenzyl, Examples include diacetyl, β-chloroanthraquinone, and the like.

以下本発明に係る粘着シートの使用方法について説明す
る。
The method of using the adhesive sheet according to the present invention will be explained below.

本発明に係る粘着シート1の上面に剥離性シート4が設
けられている場合には、該シート4を除去し、次いで粘
着シート1の粘着剤層3を上向きにして載置し、この粘
着剤層3の上面にダイシング加工すべき半導体ウェハA
を貼着する。この貼着状態でウェハAにダイシング、洗
浄、乾燥、エキスパンディングの諸工程が加えられる。
When a releasable sheet 4 is provided on the top surface of the adhesive sheet 1 according to the present invention, the sheet 4 is removed, and then the adhesive sheet 1 is placed with the adhesive layer 3 facing upward, and this adhesive Semiconductor wafer A to be diced on the top surface of layer 3
Paste. In this adhered state, wafer A is subjected to various steps of dicing, cleaning, drying, and expanding.

この際、粘着剤層3によりウェハチップは粘着シートに
充分に接着保持されているので、上記各工程の間にウェ
ハチップが脱落することはない。
At this time, since the wafer chips are sufficiently adhered and held to the adhesive sheet by the adhesive layer 3, the wafer chips will not fall off during each of the above steps.

次に、各ウェハチップを粘着シートからピックアップし
て所定の基台上にマウンティングするが、この際、ピッ
クアップに先立っであるいはピックアップ時に、紫外線
(tJ、V、)あるいは電子線(E、B、)などの電離
性放射線Bを粘着シート1の粘着剤層3に照射し、粘着
剤層3中に含まれる放射線重合性化合物を重合硬化せし
める。このように粘着剤層3に放射線を照射して放射線
重合性化合物を重合硬化せしめると、粘着剤の有する接
着力は大きく低下し、わずかの接着力が残存するのみと
なる。
Next, each wafer chip is picked up from the adhesive sheet and mounted on a predetermined base. At this time, prior to or during pickup, ultraviolet rays (tJ, V,) or electron beams (E, B,) are used. The adhesive layer 3 of the adhesive sheet 1 is irradiated with ionizing radiation B such as the above, and the radiation polymerizable compound contained in the adhesive layer 3 is polymerized and cured. When the radiation-polymerizable compound is polymerized and cured by irradiating the adhesive layer 3 with radiation in this manner, the adhesive strength of the adhesive is greatly reduced, and only a small amount of adhesive strength remains.

粘着シート1への放射線照射は、基vi2の粘着剤層3
が設けられていない面から行なうことが好ましい。した
がって前述のように、放射線としてU、V、を用いる場
合には基材2は光透過性であることが必要であるが、放
射線としてE、B、を用いる場合には基材2は必ずしも
光透過性である必要はない。
Radiation irradiation to the adhesive sheet 1
It is preferable to do this from the side that is not provided with. Therefore, as mentioned above, when using U and V as radiation, the base material 2 needs to be transparent, but when using E and B as radiation, the base material 2 is not necessarily transparent. It doesn't have to be transparent.

このようにウェハチップ△1.A2・・・・・・が設け
られた部分の粘着剤@3に放射線を照射して、粘着剤層
3の接着力を低下せしめた後、この粘着シート1をピッ
クアップステーション(図示せす”)に移送し、ここで
常法に従って基材2の下面から突き上げ針杆5によりピ
ックアップすべきチップA1・・・・・・を突き上げ、
このチップA1・・・・・・をたとえばエアピンセット
6によりピックアップし、これを所定の基台上にマウン
ティングする。このようにしてウェハチップA1.A2
・・・・・・のピックアップを行なうと、ウェハチップ
面上には粘着剤が全く付着せずに簡単にピックアップす
ることができ、汚染のない良好な品質のチップが得られ
る。
In this way, the wafer chip △1. After irradiating the adhesive @3 in the area where A2... is provided to reduce the adhesive force of the adhesive layer 3, this adhesive sheet 1 is taken to a pick-up station ("shown in the figure"). Here, according to a conventional method, the chip A1 to be picked up is pushed up from the bottom surface of the base material 2 with the push-up needle rod 5.
This chip A1... is picked up by air tweezers 6, for example, and mounted on a predetermined base. In this way, wafer chip A1. A2
When the wafer chips are picked up, no adhesive adheres to the surface of the wafer chips, and the chips can be easily picked up, resulting in chips of good quality and no contamination.

なお放射線照射は、ピックアップステーションにおいて
行なうこともできる。
Note that radiation irradiation can also be performed at a pickup station.

放射線照射は、ウェハAの貼着面の全面にわたって1度
に照射する必要は必ずしもなく、部分的に何回にも分け
て照射するようにしてもよく、たとえば、ピックアップ
すべきウェハチップA1゜A2・・・・・・の1個ごと
に、これに対応する裏面にのみ照射する放射線照射管に
より照射しその部分の粘着剤のみの接着力を低下させた
後、突き上げ針杆5によりウェハチップA、A2・・・
・・・を突き上げて順次ピックアップを行なうこともで
きる。第6図には、上記の放射線照射方法の変形例を示
すが、この場合には、突き上げ針杆5の内部を中空とし
、その中空部に放射線発生源7を設けて放射線照射とピ
ックアップとを同時に行なえるようにしており、このよ
うにすると装置を簡単化できると同時にピッアップ操作
時間を短縮することができる。
It is not necessarily necessary to irradiate the entire surface of the wafer A to which it is attached at once, and it is also possible to irradiate the entire surface of the wafer A several times. Each wafer chip A is irradiated with a radiation irradiation tube that irradiates only the corresponding back surface to reduce the adhesive force of only the adhesive on that part, and then the wafer chip A is , A2...
You can also pick up items in sequence by pushing them up. FIG. 6 shows a modification of the above-mentioned radiation irradiation method. In this case, the push-up needle rod 5 is made hollow, and a radiation source 7 is provided in the hollow part to perform radiation irradiation and pickup. It is possible to do both at the same time, and in this way the device can be simplified and at the same time the pick-up operation time can be shortened.

なお上記の半導体ウェハの処理において、エキスパンデ
ィング工程を行なわず、ダイシング、洗浄、乾燥後直ち
にウェハチップA1.A2・・・・・・のピックアップ
処理を行なうこともできる。
Note that in the processing of the semiconductor wafer described above, the expanding process is not performed, and the wafer chips A1. A2... pick-up processing can also be performed.

本発明に係る粘着シート1は、上記のように半導体ウェ
ハにダイシング工程からピックアップ工程を施こす際に
好ましくは用いられるが、この粘着シート1はまた被塗
装物をマスキングする際に用いることもできる。たとえ
ば第7図に示すように、自動車のボディなどの被塗装物
8の非塗装面9上に本発明に係る粘着シート1を被着さ
せ、次いでこの状態で被塗装物8上に塗膜10を形成し
た後、放射線を粘着シート1上に照射して該シート1の
接着力を低下させてから該シート1を被塗装物から剥離
する。このようにすれば、被塗装物8の表面に粘着剤が
残存することがないという優れた効果が得られる。
The adhesive sheet 1 according to the present invention is preferably used when subjecting semiconductor wafers to a dicing process to a pick-up process as described above, but this adhesive sheet 1 can also be used when masking an object to be coated. . For example, as shown in FIG. 7, the adhesive sheet 1 according to the present invention is applied onto the non-painted surface 9 of an object 8 to be painted, such as the body of an automobile, and then a coating film 10 is applied onto the object 8 in this state. After forming the adhesive sheet 1, radiation is irradiated onto the adhesive sheet 1 to reduce the adhesive strength of the sheet 1, and then the sheet 1 is peeled off from the object to be coated. In this way, an excellent effect can be obtained in that no adhesive remains on the surface of the object 8 to be coated.

及肌五四】 本発明に係る粘着シートでは、粘着剤層には、粘着剤と
放射線重合性化合物とに加えて、放射線照射により着色
する化合物が添加されているため、粘着シート放射線が
照射された後には該シートは着色されてあり、したがっ
て光センサーによってウェハチップを検出する際に検出
精度が高まり、ウェハチップのピックアップ時に誤動作
が生ずることがない。また粘着シートに放射線が照射れ
たか否かが目視により直ちに判明する。ざらに粘着シー
ト中の放射線重合性化合物としてウレタンアクリレート
系オリゴマーを用いると、極めて優れた性能を有する粘
着シートが得られる。
In the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention, in addition to the pressure-sensitive adhesive and the radiation-polymerizable compound, a compound that is colored by radiation irradiation is added to the pressure-sensitive adhesive layer. After the wafer chips are picked up, the sheet is colored, so that the detection accuracy is increased when the optical sensor detects the wafer chips, and malfunctions do not occur when the wafer chips are picked up. Also, whether or not the adhesive sheet has been irradiated with radiation can be immediately determined by visual inspection. When a urethane acrylate oligomer is used as a radiation-polymerizable compound in a PSA sheet, a PSA sheet with extremely excellent performance can be obtained.

以下本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら
実施例に限定れるものではない。
EXAMPLES The present invention will be explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

実施例 1 アクリル系粘着剤(n−ブチルアクリレートとアクリル
酸との共重合体)100部と、ウレタンアクリレート系
オリゴマー(商品名セイ力ビームEX808  大日精
化工業社製>100部と、硬化剤(ジイソシアナート系
)25部と、Uv硬化開始剤(ベン・/゛フエノン系1
0部とを混合し、さらに紫外線照射により着色する化合
物としてロイコ染料で必る4、4’、4°°−トリスジ
メチルアミノトリフェニルメタンを5部添加して、粘着
剤層形成レンフィルムの片面に粘着剤層の厚さ10μm
となるように塗布し、100°Cで1分間加熱して粘着
シートを形成した。
Example 1 100 parts of an acrylic adhesive (a copolymer of n-butyl acrylate and acrylic acid), 100 parts of a urethane acrylate oligomer (trade name Seirybeam EX808, manufactured by Dainichiseika Chemical Industry Co., Ltd.), and a curing agent ( 25 parts of diisocyanate type) and 1 part of UV curing initiator (ben/phenone type)
0 parts and further added 5 parts of 4,4',4°°-trisdimethylaminotriphenylmethane, which is necessary for leuco dyes as a compound that can be colored by ultraviolet irradiation, to form an adhesive layer on one side of the film. Adhesive layer thickness 10μm
The adhesive sheet was formed by coating the adhesive sheet and heating it at 100°C for 1 minute.

得られた粘着シートの粘着剤層に紫外線(UV)を空冷
式高圧水銀灯(80W/cm、照射距離10cm)によ
り2秒間照射した。
The adhesive layer of the resulting adhesive sheet was irradiated with ultraviolet rays (UV) for 2 seconds using an air-cooled high-pressure mercury lamp (80 W/cm, irradiation distance 10 cm).

UV照射によって透明であって粘着シートは青紫色に着
色した。紫外線照射前後の色差△F((L  a  b
  )を3Mカラーコンピュータ(スガ試験機(株)製
)で測定したところ、色差は2z、8で必った。
The transparent adhesive sheet was colored bluish-purple by UV irradiation. Color difference △F ((L a b
) was measured using a 3M color computer (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), and the color difference was 2z, 8.

またこの粘着シート上にシリコンウェハを貼着し、ダイ
シングした後上記のような条件で紫外線照射を行ない、
光センサ−(サンクス(株)SX−25R)により検出
を行なったところ、容易にウェハチップを検出すること
ができた。さらにウェハチップを光センサーを用いなが
らピックアンプしたところ、全く誤動作は生じなかった
In addition, a silicon wafer was pasted onto this adhesive sheet, and after dicing it was irradiated with ultraviolet rays under the conditions described above.
When detection was performed using an optical sensor (SX-25R, manufactured by Sunkus Co., Ltd.), the wafer chips could be easily detected. Furthermore, when a wafer chip was pick-amplified using an optical sensor, no malfunctions occurred at all.

比較例 1 実施例1において、紫外線照射により着色する化合物を
用いなかった以外は実施例1と同様にして、粘着シート
を形成して紫外線照射による色差を調べた。
Comparative Example 1 A pressure-sensitive adhesive sheet was formed in the same manner as in Example 1 except that no compound that colored by ultraviolet irradiation was used, and the color difference caused by ultraviolet irradiation was examined.

得られた粘着シートの紫外線照射前後の色差ΔE(ビa
* b* >は2.O以下であり、紫外線照射による1
色は認められなかった。
Color difference ΔE (via
* b * > is 2. O or less, and 1 due to ultraviolet irradiation
No color was recognized.

またこの粘着シート上にシリコンウェハを貼着し、ダイ
シングした後紫外線照射を行ない、光センサーにより検
出を行なったところ、一部に検出不良が生じた。ざらに
ウェハチップを光センサーを用いながら、ピックアップ
したところ、一部に誤動作が生じた。
Furthermore, when a silicon wafer was pasted onto this adhesive sheet, diced, irradiated with ultraviolet rays, and detected with an optical sensor, some detection failures occurred. When wafer chips were roughly picked up using an optical sensor, some malfunctions occurred.

実施例 2 実施例1において、放射線重合性化合物とじてのウレタ
ンアクリレート系オリゴマーの代わりに、分子量約58
0程度のペンタエリスリトールトリアクリレートを用い
た以外は実施例1と同様にして、粘着シートを形成して
紫外線照射による色差を調べた。
Example 2 In Example 1, instead of the urethane acrylate oligomer as the radiation polymerizable compound, a polymer with a molecular weight of about 58
A pressure-sensitive adhesive sheet was formed in the same manner as in Example 1 except that about 0% pentaerythritol triacrylate was used, and the color difference due to ultraviolet irradiation was examined.

得られた粘着シートの紫外線照射前後の色差△E(L 
 a  b  )は25.0であった。
Color difference △E(L) of the obtained adhesive sheet before and after UV irradiation
a b ) was 25.0.

またこの粘着シート上にシリコンウェハを貼着し、ダイ
シングした後上記のような条件下でUV照射を行ない、
光センサーにより検出を行なったところ、検出不良がで
ることなくウェハチップを検出できた。ざらにウェハチ
ップを光センサーを用いながらピックアップしたところ
、誤動作は全く生じなかった。
In addition, a silicon wafer was pasted on this adhesive sheet, and after dicing, UV irradiation was performed under the above conditions.
When detection was performed using an optical sensor, the wafer chip could be detected without any detection failure. When we roughly picked up wafer chips using an optical sensor, no malfunctions occurred.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図および第2図は本発明に係る粘着シートの断面図
でおり、第3図〜第6図は該粘着シートを半導体ウェハ
のダイシング工程からピックアップ工程までに用いた場
合の説明図であり、第7図は本発明に係る粘着シートを
被塗装物のマスキングに用いた場合の説明図である。 1・・・粘着シート、2・・・基材、3・・・粘着剤層
、4・・・剥離シート、A・・・ウェハ、B・・・放射
線。
1 and 2 are cross-sectional views of the adhesive sheet according to the present invention, and FIGS. 3 to 6 are explanatory views when the adhesive sheet is used from the dicing process to the pick-up process of semiconductor wafers. , and FIG. 7 are explanatory views when the adhesive sheet according to the present invention is used for masking an object to be painted. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Adhesive sheet, 2... Base material, 3... Adhesive layer, 4... Peeling sheet, A... Wafer, B... Radiation.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基材面上に粘着剤と放射線重合性化合物とからな
る粘着剤層を塗布してなる粘着シートにおいて、粘着剤
層中に放射線照射により着色する化合物を添加したこと
を特徴とする粘着シート。
(1) A pressure-sensitive adhesive sheet comprising a pressure-sensitive adhesive layer made of a pressure-sensitive adhesive and a radiation-polymerizable compound coated on a base material surface, characterized in that a compound that is colored by radiation irradiation is added to the pressure-sensitive adhesive layer. sheet.
(2)放射線照射により着色する化合物がロイコ染料で
ある特許請求の範囲第1項に記載の粘着シート。
(2) The pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein the compound that is colored by radiation irradiation is a leuco dye.
(3)ロイコ染料が4,4′,4″−トリスジメチルア
ミノトリフェニルメタンである特許請求の範囲第2項に
記載の粘着シート。
(3) The adhesive sheet according to claim 2, wherein the leuco dye is 4,4',4''-trisdimethylaminotriphenylmethane.
(4)放射線重合性化合物がウレタンアクリレート系オ
リゴマーである特許請求の範囲第1項に記載の粘着シー
ト。
(4) The adhesive sheet according to claim 1, wherein the radiation polymerizable compound is a urethane acrylate oligomer.
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