JPH0214384B2 - - Google Patents

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JPH0214384B2
JPH0214384B2 JP4578686A JP4578686A JPH0214384B2 JP H0214384 B2 JPH0214384 B2 JP H0214384B2 JP 4578686 A JP4578686 A JP 4578686A JP 4578686 A JP4578686 A JP 4578686A JP H0214384 B2 JPH0214384 B2 JP H0214384B2
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JP
Japan
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adhesive sheet
radiation
adhesive
base material
compound
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JP4578686A
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Japanese (ja)
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Kazuyoshi Ebe
Hiroaki Narita
Katsuhisa Taguchi
Yoshitaka Akeda
Takanori Saito
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Original Assignee
FSK Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は粘着シートに関し、さらに詳しくは、
半導体ウエハを小片に切断分離する際に用いられ
る粘着シートに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field of the Invention The present invention relates to an adhesive sheet, and more specifically,
The present invention relates to an adhesive sheet used for cutting and separating semiconductor wafers into small pieces.

発明の技術的背景ならびにその問題点 シリコン、ガリウムヒ素などの半導体ウエハは
大径の状態で製造され、このウエハは素子小片に
切断分離(ダイシング)された後に次の工程であ
るマウント工程に移されている。この際、半導体
ウエハは予じめ粘着シートに貼着された状態でダ
イシング、洗浄、乾燥、エキスパンデイング、ピ
ツクアツプ、マウンテイングの各工程が加えられ
ている。
Technical background of the invention and its problems Semiconductor wafers of silicon, gallium arsenide, etc. are manufactured in a large diameter state, and after this wafer is cut and separated into small element pieces (dicing), it is transferred to the next process, a mounting process. ing. At this time, the semiconductor wafer is previously attached to an adhesive sheet and subjected to the following steps: dicing, cleaning, drying, expanding, picking up, and mounting.

このような半導体ウエハのダイシング工程で用
いられている粘着シートとしては、従来、ポリ塩
化ビニル、ポリプロピレンなどの汎用の重合体フ
イルムからなる基材面上にアクリル系などの粘着
剤層が設けられたものが用いられてきた。ところ
がこのようなアクリル系の粘着剤層を有する粘着
シートでは、ダイシングされた半導体ウエハの各
チツプをピツクアツプする際にチツプ面に粘着剤
が残存してチツプが汚染されてしまうという問題
点があつた。
Adhesive sheets used in the dicing process of semiconductor wafers have traditionally been made of a base material made of a general-purpose polymer film such as polyvinyl chloride or polypropylene, with an acrylic or other adhesive layer provided on the surface of the base material. things have been used. However, such an adhesive sheet having an acrylic adhesive layer has a problem in that when each chip of a diced semiconductor wafer is picked up, the adhesive remains on the chip surface and the chips are contaminated. .

このような問題点を解決するため、従来、基材
面へ粘着剤を全面的に塗布するのではなく部分的
に塗布して粘着剤の量を少なくする方法が提案さ
れている。この方法によれば、全体のチツプ数に
対する粘着剤量は減少してチツプ面の粘着剤によ
る汚染はある程度減少させることはできるが、ウ
エハチツプと粘着シートとの接着力は減少するた
め、ダイシング工程に引続いて行なわれる洗浄、
乾燥、エキスパンデイングの各工程中にウエハチ
ツプが粘着シートから脱離してしまうという新た
な問題点が生じている。
In order to solve these problems, conventional methods have been proposed in which the amount of adhesive is reduced by partially applying the adhesive to the base material surface instead of applying it to the entire surface. According to this method, the amount of adhesive relative to the total number of chips is reduced and the contamination of the chip surface by the adhesive can be reduced to some extent, but the adhesive force between the wafer chip and the adhesive sheet is reduced, so it is difficult to use in the dicing process. subsequent cleaning;
A new problem arises in that the wafer tip comes off from the adhesive sheet during the drying and expanding steps.

このような半導体ウエハのダイシング工程から
ピツクアツプ工程に至る工程で用いられる粘着シ
ートとしては、ダイシング工程からエキスパンデ
イング工程までではウエハチツプに対して充分な
接着力を有しており、ピツクアツプ時にはウエハ
チツプに粘着剤が付着しない程度の接着力を有し
ているものが望まれている。
The adhesive sheet used in the process from the dicing process to the pick-up process for semiconductor wafers has sufficient adhesion to the wafer chip from the dicing process to the expanding process, and has sufficient adhesion to the wafer chip during the pick-up process. It is desired that the adhesive has enough adhesive strength to prevent the agent from adhering.

このような粘着シートとしては、特開昭60−
196956号公報および特開昭60−223139号公報に、
基材面に、光照射によつて三次元網状化しうる分
子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも
2個以上有する低分子量化合物からなる粘着剤を
塗布した粘着シートが提案されている。そして該
公報では、分子内に光重合性炭素−炭素二重結合
を少なくとも2個以上有する低分子量化合物とし
ては、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、テトラメチロールメタンテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペン
タエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
トあるいは1,4−ブチレングリコールジアクリ
レート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート、市
販のオリゴエステルアクリレートなどが例示され
ている。
As such an adhesive sheet, there is a
In Publication No. 196956 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-223139,
A pressure-sensitive adhesive sheet has been proposed in which a pressure-sensitive adhesive consisting of a low molecular weight compound having at least two or more photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule that can be formed into a three-dimensional network by irradiation with light is coated on the base material surface. . According to the publication, low molecular weight compounds having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule include trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethanetetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, and pentaerythritol tetraacrylate. , dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, and commercially available oligoester acrylates.

上記に例示されたような分子内に光重合性炭素
−炭素二重結合を少なくとも2個以上有する低分
子量化合物からなる粘着剤層を塗布した粘着シー
トは、次のような問題点があることが本発明者ら
によつて見出された。粘着シート上に半導体ウエ
ハを点着して該ウエハにダイシング工程を施こ
し、次いで切断分離されたウエハチツプをピツク
アツプするが、この際にチツプの位置は光センサ
ーなどによつて検出されていた。ところが上記の
ような粘着シートでは、チツプ位置の検出光が粘
着シートによつて反射されることがあるため、精
度よくチツプの位置を検出することができなくな
り、ピツクアツプ時に誤動作がよく発生すること
があるという問題点があることが本発明者らによ
つて見出された。また上記のような粘着シートで
は紫外線を照射した場合に、一応粘着力は低下す
るが最適値までは粘着力が低下せず、大チツプに
なるほどピツクアツプできないという問題点があ
ることが本発明者らによつて見出された。
Adhesive sheets coated with an adhesive layer made of a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule as exemplified above may have the following problems. Discovered by the present inventors. A semiconductor wafer is dotted onto an adhesive sheet, the wafer is subjected to a dicing process, and the cut and separated wafer chips are then picked up. At this time, the position of the chip is detected by an optical sensor or the like. However, with the adhesive sheet described above, the detection light for the chip position may be reflected by the adhesive sheet, making it impossible to accurately detect the chip position, and malfunctions often occur during pick-up. The present inventors have discovered that there is a problem. In addition, the present inventors have discovered that when the above-mentioned adhesive sheet is irradiated with ultraviolet rays, the adhesive strength temporarily decreases, but the adhesive strength does not decrease to the optimum value, and the larger the chip becomes, the more difficult it is to pick up the adhesive. was discovered by.

本発明者らは、このような従来技術に伴なう問
題点を解決すべく鋭意検討したところ、基材面に
放射線照射により着色する化合物を塗布するか、
あるいは基材中に放射線照射により着色する化合
物を添加すればよいことを見出して本発明を完成
するに至つた。また光重合性化合物としてウレタ
ンアクリレート系オリゴマーを用いれば、極めて
優れた特性を有する粘着シートが得られることを
見出した。
The inventors of the present invention made extensive studies to solve the problems associated with such conventional techniques, and found that it is possible to apply a compound that is colored by radiation irradiation to the base material surface, or to
Alternatively, the present invention was completed by discovering that it is sufficient to add a compound that can be colored by radiation irradiation to the base material. We have also discovered that if a urethane acrylate oligomer is used as a photopolymerizable compound, a pressure-sensitive adhesive sheet with extremely excellent properties can be obtained.

発明の目的 本発明は、上記のような従来技術に伴なう問題
点を一挙に解決しようとするものであつて、ウエ
ハチツプを粘着シートからピツクアツプする際に
光センサーによる検出を精度よく行なうことがで
き、したがつてウエハチツプの位置決め行程で誤
動作が生ずることがなく、しかも放射線の照射前
には充分な接着力を有するとともに放射線の照射
後にはその接着力が充分に低下してウエハチツプ
の裏表面に粘着剤が付着することがなく、その上
ダイシング行程を管理する作業者が粘着シートに
放射線が照射されたか否かを容易に確難でき、工
程上のトラブルを未然に防止できるような、半導
体ウエハをダイシング工程に付する際に特に好ま
しく用いられる粘着シートを提供することを目的
としている 発明の概要 本発明に係る第1の態様の粘着シートは、基材
面上に粘着剤と放射線重合性化合物とからなる粘
着剤層を塗布してなる粘着シートにおいて、基材
面の少なくとも一面に放射線照射により着色する
化合物を塗布したことを特徴としている。
Purpose of the Invention The present invention is an attempt to solve the above-mentioned problems associated with the prior art at once. Therefore, there is no malfunction during the positioning process of the wafer chip, and it has sufficient adhesive strength before radiation irradiation, and the adhesive strength decreases sufficiently after radiation irradiation, so that it does not stick to the back surface of the wafer chip. Semiconductor wafers that do not have adhesive attached to them, and that allow workers managing the dicing process to easily determine whether or not the adhesive sheet has been irradiated with radiation, thereby preventing problems in the process. Summary of the Invention The purpose of the invention is to provide a pressure-sensitive adhesive sheet that is particularly preferably used when subjecting to a dicing process. A pressure-sensitive adhesive sheet coated with a pressure-sensitive adhesive layer consisting of the following is characterized in that a compound that is colored by radiation irradiation is coated on at least one of the base material surfaces.

また本発明に係る第2の態様の粘着シートは、
基材面上に粘着剤と放射線重合性化合物とからな
る粘着剤層を塗布してなる粘着シートにおいて、
基材中に放射線照射により着色する化合物を添加
したことを特徴としている。
Moreover, the adhesive sheet of the second aspect according to the present invention is
In a pressure-sensitive adhesive sheet formed by coating a pressure-sensitive adhesive layer consisting of a pressure-sensitive adhesive and a radiation-polymerizable compound on a base material surface,
It is characterized by the addition of a compound that can be colored by radiation irradiation into the base material.

本発明に係る粘着シートでは、放射線照射によ
り着色する化合物が基材面に少なくとも一面に塗
布されるか、あるいは基材中に添加されているた
め、粘着シートに放射線が照射された後には該シ
ートは着色されており、したがつて光センサーに
よつてウエハチツプを検出する際に検出精度が高
まり、ウエハチツプのピツクアツプ時に誤動作が
生ずることがない。また粘着シートに放射線が照
射されたか否かが目視により直ちに判明する。さ
らに粘着シート中の放射線重合性化合物としてウ
レタンアクリレート系オリゴマーを用いると、極
めて優れた性能を有する粘着シートが得られる。
In the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention, a compound that is colored by radiation irradiation is coated on at least one surface of the base material or is added to the base material, so that after the pressure-sensitive adhesive sheet is irradiated with radiation, are colored, so that the detection accuracy is increased when the optical sensor detects the wafer chip, and malfunctions do not occur when picking up the wafer chip. Further, whether or not the adhesive sheet has been irradiated with radiation can be immediately determined by visual inspection. Furthermore, when a urethane acrylate oligomer is used as a radiation-polymerizable compound in the adhesive sheet, a pressure-sensitive adhesive sheet with extremely excellent performance can be obtained.

発明の具体的説明 本発明に係る粘着シート1は、その断面図が第
1図に示されるように、基材2とこの表面に塗着
された粘着剤層3とから一般になつており、本発
明に係る第1の態様の粘着シート1では、基材2
の表裏面の少なくとも一面に放射線照射により着
色する化合物が含まれた放射線照射着色層4が塗
布されている。また本発明に係る第2の態様の粘
着シート1では、基材2中に放射線照射により着
色する化合物が添加されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The adhesive sheet 1 according to the present invention generally consists of a base material 2 and an adhesive layer 3 coated on the surface of the base material 2, as shown in FIG. In the adhesive sheet 1 of the first aspect according to the invention, the base material 2
A radiation irradiation colored layer 4 containing a compound that is colored by radiation irradiation is coated on at least one of the front and back surfaces of the substrate. Moreover, in the adhesive sheet 1 of the second aspect of the present invention, a compound that is colored by radiation irradiation is added to the base material 2.

放射線照射による着色する化合物が含まれた放
射線照射着色層4は、第1図に示すように基材2
の粘着層3が設けられていない面上に形成されて
いてもよく、また第2図に示すように基材2と粘
着剤層3との間に形成されていていもよい。なお
使用前にはこの粘着剤層3を保護するため、粘着
剤3の上面に剥離性シート(図示せず)を仮粘着
しておくことが好ましい。
The radiation irradiation colored layer 4 containing a compound that is colored by radiation irradiation is applied to the base material 2 as shown in FIG.
The adhesive layer 3 may be formed on the surface on which the adhesive layer 3 is not provided, or it may be formed between the base material 2 and the adhesive layer 3 as shown in FIG. In order to protect the adhesive layer 3 before use, it is preferable to temporarily attach a releasable sheet (not shown) to the upper surface of the adhesive 3.

本発明に係る粘着シートの形状は、テープ状、
ラベル状などあらゆる形状をとりうる。基材2と
しては、耐水性および耐熱性に優れているものが
適し、特に合成樹脂フイルムが適する。本発明の
粘着シートでは、後記するように、その使用に当
り、EBやUVなどの放射線照射が行なわれてい
るので、EB照射の場合は、該基材2は透明であ
る必要はないが、UV照射をして用いる場合は、
透明な材料である必要がある。
The shape of the adhesive sheet according to the present invention is tape-like,
It can take any shape, including a label. As the base material 2, a material having excellent water resistance and heat resistance is suitable, and a synthetic resin film is particularly suitable. As will be described later, the adhesive sheet of the present invention is irradiated with radiation such as EB or UV when it is used, so in the case of EB irradiation, the base material 2 does not need to be transparent. When using with UV irradiation,
Must be a transparent material.

このような基材2としては、具体的に、ポリエ
チレンフイルム、ポリプロピレンフイルム、ポリ
塩化ビニルフイルム、ポリエチレンテレフタレー
トフイルム、ポリブチレンテレフタレートフイル
ム、ポリブテンフイルム、ポリブタジエンフイル
ム、ポリウレタンフイルム、ポリメチルペンテン
フイルム、エチレン酢ビフイルムなどが用いられ
る。また基材2として、架橋ポリオレフインを用
いると、後述するウエハのダイシング工程での基
材2の伸びあるいはたわみが防止できる。
Specific examples of such a base material 2 include polyethylene film, polypropylene film, polyvinyl chloride film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polybutene film, polybutadiene film, polyurethane film, polymethylpentene film, and ethylene vinyl acetate film. etc. are used. Furthermore, when crosslinked polyolefin is used as the base material 2, it is possible to prevent the base material 2 from elongating or bending during the wafer dicing process described later.

粘着剤としては従来公知のものが広く用いられ
うるが、アクリル系粘着剤が好ましく、具体的に
は、アクリル酸エステルを主たる構成単量体単位
とする単独重合体および共重合体から選ばれたア
クリル系重合体その他の管能性単量体との共重合
体およびこれら重合体の混合物である。たとえ
ば、モノマーのアクリル酸エステルとして、メタ
アクリル酸エチル、メタアクリル酸ブチル、メタ
アクリル酸−2−エチルヘキシル、メタアクリル
酸グリシジル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシ
エチルなど、また上記のメタアクリル酸をたとえ
ばアクリル酸に代えたものなども好ましく使用で
きる。
As the adhesive, a wide variety of conventionally known adhesives can be used, but acrylic adhesives are preferred, and specifically, those selected from homopolymers and copolymers containing acrylic acid ester as the main monomer unit. These are copolymers with acrylic polymers and other tubular monomers, and mixtures of these polymers. For example, monomer acrylic esters include ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, and the above-mentioned methacrylic acids. Those in place of acrylic acid can also be preferably used.

さらに後述するオリゴマーとの相溶性を高める
ため、(メタ)アクリル酸、アクリロニトリル、
酢酸ビニルなどのモノマーを共重合させてもよ
い。これらのモノマーから重合して得られるアク
リル系重合体の分子量は、2.0×105〜10.0×105
あり、好ましくは、4.0×105〜8.0×105である。
Furthermore, in order to increase the compatibility with the oligomers described below, (meth)acrylic acid, acrylonitrile,
Monomers such as vinyl acetate may be copolymerized. The molecular weight of the acrylic polymer obtained by polymerization from these monomers is 2.0×10 5 to 10.0×10 5 , preferably 4.0×10 5 to 8.0×10 5 .

また放射線重合性化合物としては、たとえば特
開昭60−196956号公報および特開昭60−223139号
公報に開示されているような光照射によつて三次
元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重
結合を少なくとも2個以上有する低分子量化合物
が広く用いられ、具体的には、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、テトラメチロールメタ
ンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロ
キシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレートあるいは1,4−ブチレン
グリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジ
オールジアクリレート、ポリエチレングリコール
ジアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレ
ートなどが用いられる。
In addition, radiation polymerizable compounds include photopolymerizable carbon in molecules that can be formed into a three-dimensional network by light irradiation, such as those disclosed in JP-A-60-196956 and JP-A-60-223139. -Low molecular weight compounds having at least two or more carbon double bonds are widely used, specifically, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethanetetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monoacrylate. Hydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, commercially available oligoester acrylate, etc. are used.

さらに放射線重合性化合物として、上記のよう
なアクリレート系化合物のほかに、ウレタンアク
リレート系オリゴマーを用いることもできる。ウ
レタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエステ
ル型またはポリエーテル型などのポリオール化合
物と、多価イソシアナート化合物たとえば2,4
−トリレンジイソシアナート、2,6−トリレン
ジイソシアナート、1,3−キシリレンジイソシ
アナート、1,4−キシリレンジイソシアナー
ト、ジフエニルメタン4,4−ジイソシアナート
などを反応させて得られる末端イソシアナートウ
レタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有する
(メタ)アクリレートたとえば2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ール(メタ)アクリレートなどを反応させて得ら
れる。このウレタンアクリレート系オリゴマー
は、炭素−炭素二重結合を少なくとも1個以上有
する放射線重合性化合物である。
Further, as the radiation polymerizable compound, in addition to the above-mentioned acrylate compounds, urethane acrylate oligomers can also be used. The urethane acrylate oligomer is composed of a polyol compound such as a polyester type or a polyether type, and a polyvalent isocyanate compound such as 2,4
- Terminal isocyanate obtained by reacting tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, diphenylmethane 4,4-diisocyanate, etc. It is obtained by reacting a (meth)acrylate having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, polyethylene glycol (meth)acrylate, etc. with a nertourethane prepolymer. This urethane acrylate oligomer is a radiation polymerizable compound having at least one carbon-carbon double bond.

このようなウレタンアクリレート系オリゴマー
として、特に分子量が3000〜10000好ましくは
4000〜8000であるものを用いると、半導体ウエハ
表面が粗い場合にも、ウエハチツプのピツクアツ
プ時にチツプ面に粘着剤が付着することがないた
め好ましい。またウレタンアクリレート系オリゴ
マーを放射線重合性化合物として用いる場合に
は、特開昭60−196956号公報に開示されたような
分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくと
も2個以上有する低分子量化合物を用いた場合と
比較して、粘着シートとした極めて優れたものが
得られる。すなわち粘着シートの放射線照射前の
接着力は充分に大きく、また放射線照射後には接
着力が充分に低下してウエハチツプのピツクアツ
プ時にチツプ面に粘着剤が残存することはない。
Such urethane acrylate oligomers preferably have a molecular weight of 3,000 to 10,000.
It is preferable to use a material having a molecular weight of 4,000 to 8,000 because even if the surface of the semiconductor wafer is rough, the adhesive will not adhere to the chip surface when the wafer chip is picked up. In addition, when using a urethane acrylate oligomer as a radiation polymerizable compound, a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule as disclosed in JP-A-60-196956 is used. Compared to the case where a compound is used, an extremely superior pressure-sensitive adhesive sheet can be obtained. That is, the adhesive strength of the adhesive sheet before irradiation with radiation is sufficiently large, and the adhesive strength decreases sufficiently after irradiation with radiation, so that no adhesive remains on the chip surface when the wafer chip is picked up.

本発明における粘着剤中のアクリル系粘着剤と
ウレタンアクリレート系オリゴマーの配合比は、
アクリル系粘着剤100重量部に対してウレタンア
クリレート系オリゴマーは50〜900重量部の範囲
の量で用いられることが好ましい。この場合に
は、得られる粘着シートは初期の接着力が大きく
しかも放射線照射後には粘着力は大きく低下し、
容易にウエハチツプを該粘着シートからピツクア
ツプすることができる。
The blending ratio of the acrylic adhesive and urethane acrylate oligomer in the adhesive in the present invention is as follows:
The urethane acrylate oligomer is preferably used in an amount ranging from 50 to 900 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic pressure-sensitive adhesive. In this case, the resulting adhesive sheet has a high initial adhesive strength, but after radiation irradiation, the adhesive strength decreases significantly.
The wafer tip can be easily picked up from the adhesive sheet.

本発明で用いられる放射線照射により着色する
化合物は、放射線の照射前には無色または淡色で
あるが、放射線の照射により有色となる化合物で
あつて、この化合物の好ましい具体例としてはロ
イコ染料が挙げられる。ロイコ染料としては、慣
用のトリフエニルメタン系、フルオラン系、フエ
ノチアジン系、オーラミン系、スピロピラン系の
ものが好ましく用いられる。具体的には3−[N
−(p−トリルアミノ)]−7−アニリノフルオラ
ン、3−[N−(p−トリル)−N−メチルアミノ]
−7−アニリノフルオラン、3−[N−(p−トリ
ル)−N−エチルアミノ]−7−アニリノフルオラ
ン、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−アニ
リノフルオラン、クリスタルバイオレツトラクト
ン、4,4′,4″−トリスジメチルアミノトリフエ
ニルメタノール、4,4′,4″−トリスジメチルア
ミノトリフエニルメタンなどが挙げられる。
The compound used in the present invention that is colored by radiation irradiation is a compound that is colorless or light-colored before radiation irradiation, but becomes colored by radiation irradiation, and a preferable specific example of this compound is a leuco dye. It will be done. As the leuco dye, commonly used triphenylmethane-based, fluoran-based, phenothiazine-based, auramine-based, and spiropyran-based dyes are preferably used. Specifically, 3-[N
-(p-tolylamino)]-7-anilinofluorane, 3-[N-(p-tolyl)-N-methylamino]
-7-anilinofluorane, 3-[N-(p-tolyl)-N-ethylamino]-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, crystal violet Examples include lactone, 4,4',4''-trisdimethylaminotriphenylmethanol, and 4,4',4''-trisdimethylaminotriphenylmethane.

これらロイコ染料とともに好ましく用いられる
顕色剤としては、従来から用いられているフエノ
ールホルマリン樹脂の初期重合体、芳香族カルボ
ン酸透導体、活性白土などの電了受容体が挙げら
れ、さらに、色調を変化させる場合は種々公知の
発色剤組合せて用いることもできる。
Color developers preferably used with these leuco dyes include conventionally used initial polymers of phenol-formalin resin, aromatic carboxylic acid transparent conductors, and electrophotoreceptors such as activated clay. When changing, various known color formers can be used in combination.

このように放射線照射によつて着色する化合物
を一旦有機溶媒などに溶解させて後、得られた溶
液を、基材2の表裏面のいづれか一方あるいは両
方に塗布すれば、基材2の表裏面の少なくとも一
面に、放射線照射により着色する化合物が含まれ
た放射線照射着色層4を形成することができる。
Once the compound that is colored by radiation irradiation is dissolved in an organic solvent or the like, the resulting solution is applied to either or both of the front and back surfaces of the base material 2. A radiation irradiation colored layer 4 containing a compound that is colored by radiation irradiation can be formed on at least one surface of the substrate.

また放射線照射によつて着色する化合物を、下
塗り用組成物中に含ませて、この下塗り用組成物
を基材2の表裏面の少なくとも一面に塗布するこ
とによつて放射線照射着色層4を形成してもよ
い。このような下塗り用組成物としては、酢酸ビ
ニル−塩化ビニル共重合体を主成分とするもの、
ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、エポキシ系樹脂などが用いられ
る。これらの下塗り用組成物は、基材2の種類に
応じて適宜選択して使用される。
Further, a compound that is colored by radiation irradiation is included in the undercoat composition, and the undercoat composition is applied to at least one of the front and back surfaces of the base material 2 to form the radiation irradiation colored layer 4. You may. Such undercoating compositions include those containing vinyl acetate-vinyl chloride copolymer as a main component;
Polyurethane resin, polyester resin, polyamide resin, epoxy resin, etc. are used. These undercoat compositions are appropriately selected and used depending on the type of the base material 2.

一方上記のような放射線によつて着色する化合
物を有機溶媒などに溶解させて得られる溶液を、
基材2をシート状に形成する際に用いて、基材2
中に放射線照射により着色する化合物を添加して
もよい。場合によつては、放射線照射によつて着
色する化合物を微粉末にして基材2中に添加させ
てもよい。
On the other hand, a solution obtained by dissolving the above-mentioned compound that is colored by radiation in an organic solvent, etc.
Used when forming the base material 2 into a sheet shape, the base material 2
A compound that is colored by radiation irradiation may be added therein. In some cases, a compound that is colored by radiation irradiation may be added to the base material 2 in the form of a fine powder.

このように、放射線照射によつて着色する化合
物を基材2の表裏面の少なくとも一面上に塗布す
るか、あるいは基材2中に含ませることによつ
て、本発明に係る粘着シート1に放射線を照射す
ると充分着色し、光センサーによつてウエハチツ
プを検出する際の検出精度が高まりウエハチツプ
のピツクアツプ時に誤動作が生ずることが防止さ
れる。しかも本発明では、放射線照射によつて着
色する化合物を粘着剤層中には含ませていないた
め、放射線照射による粘着剤層3の接着力の低下
に悪影響が出る恐れがないという効果も得られ
る。
In this way, the adhesive sheet 1 according to the present invention is exposed to radiation by applying a compound that is colored by radiation irradiation onto at least one of the front and back surfaces of the base material 2, or by including it in the base material 2. When the wafer chip is irradiated, the wafer chip is sufficiently colored, and the detection accuracy when detecting the wafer chip by the optical sensor is increased, thereby preventing malfunctions when picking up the wafer chip. Moreover, in the present invention, since the adhesive layer does not contain a compound that is colored by radiation irradiation, there is also the effect that there is no possibility that the adhesive force of the adhesive layer 3 will be adversely affected by the decrease in the adhesive force due to radiation irradiation. .

また上記の粘着剤中に、イソシアナート系硬化
剤を混合することにより、初期の接着力を任意の
値に設定することができる。このような硬化剤と
しては、具体的には多価イソシアナート化合物、
たとえば2,4−トリレンジイソシアナート、
2,6−トリレンジイソシアナート、1,3−キ
シレンジイソシアナート、1,4−キシレンジイ
ソシアナート、ジフエニルメタン−4,4′−ジイ
ソシアナート、ジフエニルメタン−2,4′−ジイ
ソシアナート、3−メチルジフエニルメタンジイ
ソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、イソホロンジイソシアナート、ジシクロヘキ
シルメタン−4,4′−ジイソシアナート、ジシク
ロヘキシルメタン−2,4′−ジイソシアナート、
リジンイソシアナートなどが用いられる。
Further, by mixing an isocyanate curing agent into the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, the initial adhesive strength can be set to an arbitrary value. Specifically, such curing agents include polyvalent isocyanate compounds,
For example, 2,4-tolylene diisocyanate,
2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, diphenylmethane-2,4'-diisocyanate, 3 -methyldiphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, dicyclohexylmethane-2,4'-diisocyanate,
Lysine isocyanate and the like are used.

さらに上記の粘着剤中に、UV照射用の場合に
は、UV開始剤を混入することにより、UV照射
による重合硬化時間ならびにUV照射を少なくな
ることができる。
Furthermore, in the case of UV irradiation, a UV initiator may be mixed into the above-mentioned adhesive to reduce the polymerization and curing time due to UV irradiation as well as the amount of UV irradiation.

このようなUV開始剤としては、具体的には、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテル、ベンジルジフエニルサルフアイド、テト
ラメチルチウラムモノサルフアイド、アゾビスイ
ソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β
−クロールアンスラキノンなどが挙げられる。
Specifically, such UV initiators include:
Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl diphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, dibenzyl, diacetyl, β
- Examples include chloranthraquinone.

以下本発明に係る粘着シートの使用方法につい
て説明する。
The method of using the adhesive sheet according to the present invention will be explained below.

本発明に係る粘着シート1の上面に剥離性シー
トが設けられている場合には、該シートを除去
し、次いで粘着シート1の粘着剤層3を上向きに
して載置し、第3図に示すようにして、この粘着
剤層3の上面にダイシング加工すべき半導体ウエ
ハAを粘着する。この貼着状態でウエハAにダイ
シング、洗浄、乾燥、エキスパンデイングの諸工
程が加えられる。この際、粘着剤層3によりウエ
ハチツプは粘着シートに充分に接着保持されてい
るので、上記各工程の間にウエハチツプが脱落す
ることはない。
When a releasable sheet is provided on the top surface of the adhesive sheet 1 according to the present invention, the sheet is removed, and then the adhesive sheet 1 is placed with the adhesive layer 3 facing upward, as shown in FIG. In this manner, the semiconductor wafer A to be diced is adhered to the upper surface of the adhesive layer 3. In this adhered state, wafer A is subjected to various steps of dicing, cleaning, drying, and expanding. At this time, since the wafer chip is sufficiently adhered and held to the adhesive sheet by the adhesive layer 3, the wafer chip does not fall off during each of the above steps.

次に、各ウエハチツプを粘着シートからピツク
アツプして所定に基台上にマウンテイングする
が、この際、ピツクアツプに先立つてあるいはピ
ツクアツプ時に、第4図に示すようにして、紫外
線(UV)あるいは電子線(EB)などの電離性
放射線Bを粘着シート1の粘着剤層3に照射し、
粘着剤層3中に含まれる放射線重合性化合物を重
合硬化せしめる。
Next, each wafer chip is picked up from the adhesive sheet and mounted on the base in a predetermined position. At this time, prior to or during the picking up, ultraviolet rays (UV) or electron beams are applied as shown in FIG. Ionizing radiation B such as (EB) is irradiated onto the adhesive layer 3 of the adhesive sheet 1,
The radiation polymerizable compound contained in the adhesive layer 3 is polymerized and cured.

このように粘着剤層3に放射線を照射して放射
線重合性化合物を重合硬化せしめると、粘着剤の
有する接着力は大きく低下し、わずかの接着力が
残存するのみとなる。
When the radiation-polymerizable compound is polymerized and cured by irradiating the adhesive layer 3 with radiation in this manner, the adhesive strength of the adhesive is greatly reduced, and only a small amount of adhesive strength remains.

粘着シート1への放射線照射は、基材2の粘着
剤層が設けられていない面から行なうことが好ま
しい。したがつて前述のように、放射線として
UVを用いる場合には基材2は光透過性であるこ
とが必要であるが、放射線としてEBを用いる場
合には基材2は必ずしも光透過性である必要はな
い。
The adhesive sheet 1 is preferably irradiated with radiation from the side of the base material 2 on which the adhesive layer is not provided. Therefore, as mentioned above, as radiation
When using UV, the base material 2 needs to be light-transmissive, but when using EB as radiation, the base material 2 does not necessarily have to be light-transparent.

このようにウエハチツプA1,A2,……が設け
られた部分の粘着剤層3に放射線を照射して、粘
着剤層3の接着力を低下せしめた後、この粘着シ
ートをピツクアツプステーシヨン(図示せず)に
移送し、第5図に示すように、ここで常法にした
がつて基材2の下面から突き上げ針扞5によりピ
ツクアツプすべきチツプA1……を突き上げ、こ
のチツプA1……をたとえばエアピンセツト6に
よりピツクアツプし、これを所定の基台上にマウ
ンテイングする。このようにしてウエハチツプ
A1,A2……のピツクアツプを行なうと、ウエハ
チツプ面上には粘着剤が全く付着せずに簡単にピ
ツクアツプすることができ、汚染のない良好な品
質のチツプが得られる。なお放射線照射は、ピツ
クアツプステーシヨンにおいて行なうこともでき
る。
After irradiating the adhesive layer 3 in the areas where the wafer tips A 1 , A 2 , . As shown in FIG. 5, the chip A 1 ... to be picked up is pushed up from the lower surface of the base material 2 with the push-up needle 5 in accordance with the conventional method. ... is picked up using air tweezers 6, for example, and mounted on a predetermined base. In this way, the wafer tip
When picking up A 1 , A 2 . . . , the chips can be easily picked up without any adhesive adhering to the surface of the wafer chips, and chips of good quality without contamination can be obtained. Note that radiation irradiation can also be performed at a pick-up station.

放射線照射は、ウエハAの貼着面の全面にわた
つて一度に照射する必要は必ずしもなく、部分的
には何回にも分けて照射するようにしてもよく、
たとえば、ピツクアツプすべきウエハチツプA1
A2……の一個ごとに、これに対応する裏面にの
み照射する放射線照射管により照射しその部分の
粘着剤のみの接着力を低下させた後、付き上げ針
扞5によりウエハチツプA1,A2……を突き上げ
て順次ピツクアツプを行なうこともできる。第6
図には、上記の放射線照射方法の変形例を示す
が、この場合には、突き上げ針扞5の内部を中空
とし、その中空部に放射線発生源7を設けて放射
線照射とピツクアツプとを同時に行なえるように
しており、このようにすると装置を簡単化できる
と同時にピツクアツプ操作時間を短縮することが
できる。
The radiation irradiation does not necessarily need to be applied to the entire surface of the wafer A to be adhered at once, and some parts may be irradiated several times.
For example, the wafer tip A 1 to be picked up,
A 2 .... After irradiating each piece with a radiation tube that irradiates only the corresponding back side to reduce the adhesive strength of only the adhesive in that part, the wafers are attached using the raising needle 5 . 2 You can also pick up one by one by pushing up. 6th
The figure shows a modification of the above-mentioned radiation irradiation method. In this case, the push-up needle 5 is hollow, and a radiation source 7 is provided in the hollow part to perform radiation irradiation and pick-up at the same time. In this way, the device can be simplified and at the same time the pick-up operation time can be shortened.

なお上記の半導体ウエハの処理において、エキ
スパンデイング工程を行なわず、ダイシング、洗
浄、乾燥後直ちにウエハチツプA1,A2……にピ
ツクアツプ処理を行なうこともできる。
In the above semiconductor wafer processing, it is also possible to perform a pick-up process on the wafer chips A 1 , A 2 . . . immediately after dicing, cleaning, and drying without performing the expanding process.

本発明に係る粘着シート1は、上記のように半
導体ウエハにダイシング工程からピツクアツプ工
程を施す際に時に好ましく用いられるが、この粘
着シート1はまた被塗装物をマスキングする際に
用いることもできる。
The adhesive sheet 1 according to the present invention is sometimes preferably used when subjecting semiconductor wafers to a dicing process to a pick-up process as described above, but this adhesive sheet 1 can also be used when masking an object to be coated.

発明の効果 本発明に係る粘着シートでは、粘着剤層には、
粘着剤と放射線重合性化合物とに加えて、放射線
照射により着色する化合物が基材の表裏面の少な
くとも一面に設けられるか、あるいは基材中に添
加されているため粘着シート放射線が照射された
後には該シートは着色されており、したがつて光
センサーによつてウエハチツプを検出する際に検
出精度が高まり、ウエハチツプのピツクアツプ時
に誤動作が生ずることがない。また粘着シートに
放射線が照射されたか否かが目視により直ちに判
明する。さらに粘着シート中の放射線重合性化合
物としてウレタンアクリレート系オリゴマーを用
いると、極めて優れた性能を有する粘着シートが
得られる。
Effects of the invention In the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer includes:
In addition to the adhesive and the radiation-polymerizable compound, a compound that colors when irradiated with radiation is provided on at least one of the front and back surfaces of the base material, or is added to the base material, so that the adhesive sheet can be colored after being irradiated with radiation. In this case, the sheet is colored, so that the detection accuracy is increased when the optical sensor detects the wafer chip, and malfunctions do not occur when the wafer chip is picked up. Further, whether or not the adhesive sheet has been irradiated with radiation can be immediately determined by visual inspection. Furthermore, when a urethane acrylate oligomer is used as a radiation-polymerizable compound in the adhesive sheet, a pressure-sensitive adhesive sheet with extremely excellent performance can be obtained.

以下本発明を実施例により説明するが、本発明
はこれら実施例に限定されるものてはない。
The present invention will be explained below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例 1 主成分が酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体であ
る下塗り用組成物100重量部に対し紫外線照射に
より着色するロイコ染料の一種として、4,4′,
4″−トリスジメチルアミノトリフエニルメタンを
5重量部添加した後、それを基材である厚さ50μ
mのポリエチレンテレフタレートフイルムの片面
に乾燥厚さ1〜2μmとなるように塗布乾燥させ、
下塗り層を形成した。
Example 1 4,4', 4,4',
After adding 5 parts by weight of 4″-trisdimethylaminotriphenylmethane, it was added to a base material with a thickness of 50 μm.
Coat and dry on one side of a polyethylene terephthalate film with a dry thickness of 1 to 2 μm.
An undercoat layer was formed.

下塗り層上に、アクリル系粘着剤(n−ブチル
アクリレートとアクリル酸の共重合体)100重量
部と、分子量3000〜10000のウレタンアクリレー
ト系オリゴマー100重量部と、硬化剤(ジイソシ
アナート系)25重量部とUV硬化反応開始剤(ベ
ンゾフエノン系)10重量部とを混合し、粘着剤層
として乾燥厚さ10μmとなるように塗布し、100
℃で1分間加熱して、三層構造を有る本発明の粘
着シートを得た。
On the undercoat layer, 100 parts by weight of an acrylic adhesive (a copolymer of n-butyl acrylate and acrylic acid), 100 parts by weight of a urethane acrylate oligomer with a molecular weight of 3,000 to 10,000, and 25 parts by weight of a curing agent (diisocyanate). parts by weight and 10 parts by weight of a UV curing reaction initiator (benzophenone type), and applied as an adhesive layer to a dry thickness of 10 μm.
The pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention having a three-layer structure was obtained by heating at ℃ for 1 minute.

得られた粘着シートの粘着剤層に紫外線
(UV)を空冷式高圧水銀灯(80W/cm、照射距
離10cm)により2秒間照射した。UV照射によつ
て透明であつた粘着シートは青紫色に着色した。
UV照射時の色差ΔE(L*a*b*)をSMカラーコン
ピユーター(スガ試験機製)で、測定したとこ
ろ、色差は21.6であつた。
The adhesive layer of the resulting adhesive sheet was irradiated with ultraviolet (UV) light for 2 seconds using an air-cooled high-pressure mercury lamp (80 W/cm, irradiation distance 10 cm). The transparent adhesive sheet was colored blue-purple by UV irradiation.
When the color difference ΔE (L * a * b * ) during UV irradiation was measured using an SM color computer (manufactured by Suga Test Instruments), the color difference was 21.6.

また、この粘着シートにシリコンウエハを貼着
し、ダイシングした後、上記のような条件で紫外
線照射を行ない、光センサー(SX−23R、サン
クス(株)製)により検出を行なつたところ、容易に
ウエハチツプを検出することができた。更にウエ
ハチツプを光センサーを用いながらピツクアツプ
を行なつたところ、誤動作は全く生じなかつた。
In addition, after attaching a silicon wafer to this adhesive sheet and dicing it, we irradiated it with ultraviolet rays under the conditions described above and detected it with an optical sensor (SX-23R, manufactured by Sunkus Co., Ltd.). We were able to detect the wafer tip. Furthermore, when the wafer chip was picked up using an optical sensor, no malfunctions occurred at all.

比較例 1 上記実施例1において、紫外線照射により着色
する下塗り層を形成しなかつた以外は、実施例1
と同様にして、粘着シートを形成して、紫外線に
よる色差を調べた。得られた粘着シートの紫外線
照射前後の色差ΔE(L*a*b*)は、2.0以下であり
紫外線照射による着色は認められなかつた。
Comparative Example 1 Example 1 except that the undercoat layer colored by ultraviolet irradiation was not formed in Example 1 above.
A pressure-sensitive adhesive sheet was formed in the same manner as above, and the color difference due to ultraviolet rays was examined. The color difference ΔE (L * a * b * ) of the resulting pressure-sensitive adhesive sheet before and after UV irradiation was 2.0 or less, and no coloration due to UV irradiation was observed.

また、この粘着シート上にシリコンウエハを貼
着し、ダイシング後、紫外線照射を行ない光セン
サーにより検出を行なつたところ、充分には検出
できない場合があつた。
Furthermore, when a silicon wafer was pasted onto this adhesive sheet and, after dicing, ultraviolet rays were irradiated and detection was performed using an optical sensor, there were cases where sufficient detection was not possible.

さらに、ウエハチツプを光センサーを用いなが
ら、ピツクアツプしたところ、誤動作を起こすこ
とがあつた。
Furthermore, when a wafer chip was picked up using an optical sensor, malfunctions occurred.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図および第2図は本発明に係る粘着シート
の断面図であり、第3図〜第6図は該粘着シート
を半導体ウエハのダイシング工程からピツクアツ
プ工程までに用いた場合の説明図である。 1……粘着シート、2……基材、3……粘着剤
層、4……放射線照射着色層、A……ウエハ、B
……放射線。
1 and 2 are cross-sectional views of the adhesive sheet according to the present invention, and FIGS. 3 to 6 are explanatory views when the adhesive sheet is used from the dicing process to the pick-up process of semiconductor wafers. . DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Adhesive sheet, 2... Base material, 3... Adhesive layer, 4... Radiation irradiation colored layer, A... Wafer, B
……radiation.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基材面上に粘着剤と放射線重合性化合物とか
らなる粘着剤層を塗布してなる粘着シートにおい
て、基材面の少なくとも一面に放射線照射により
着色する化合物を塗布したことを特徴とする粘着
シート。 2 放射線照射により着色する化合物がロイコ染
料である特許請求の範囲第1項に記載の粘着シー
ト。 3 ロイコ染料が4,4′,4″−トリスジメチルア
ミノトリフエニルメタンである特許請求の範囲第
2項に記載の粘着シート。 4 放射線重合性化合物がウレタンアクリレート
系オリゴマーである特許請求の範囲第1項に記載
の粘着シート。 5 基材面に粘着剤と放射線重合性化合物とから
なる粘着財層を塗布してかる粘着シートにおい
て、基材中に放射線照射により着色する化合物を
添加したことを特徴とする粘着シート。 6 放射線照射により着色する化合物がロイコ染
料である特許請求の範囲第5項に記載の粘着シー
ト。 7 ロイコ染料が4,4′,4″−トリスジメチルア
ミノトリフエニルメタンである特許請求の範囲第
5項に記載の粘着シート。 8 放射線重合性化合物がウレタンアクリレート
系オリゴマーである特許請求の範囲第5項に記載
の粘着シート。
[Scope of Claims] 1. A pressure-sensitive adhesive sheet formed by coating a pressure-sensitive adhesive layer consisting of a pressure-sensitive adhesive and a radiation-polymerizable compound on a base material surface, wherein a compound that is colored by radiation irradiation is coated on at least one surface of the base material surface. An adhesive sheet characterized by: 2. The pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein the compound that is colored by radiation irradiation is a leuco dye. 3. The adhesive sheet according to claim 2, wherein the leuco dye is 4,4',4''-trisdimethylaminotriphenylmethane. 4. The adhesive sheet according to claim 2, wherein the radiation polymerizable compound is a urethane acrylate oligomer. Adhesive sheet according to item 1. 5. In the adhesive sheet in which an adhesive layer consisting of an adhesive and a radiation-polymerizable compound is applied to the base material surface, a compound that is colored by radiation irradiation is added to the base material. 6. The adhesive sheet according to claim 5, wherein the compound that is colored by radiation irradiation is a leuco dye. 7. The leuco dye is 4,4′,4″-trisdimethylaminotriphenylmethane. An adhesive sheet according to claim 5. 8. The adhesive sheet according to claim 5, wherein the radiation polymerizable compound is a urethane acrylate oligomer.
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GB8630956A GB2184741B (en) 1985-12-27 1986-12-29 Adhesive sheet suitable for use in the preparation of semiconductor chips
US07/111,849 US4965127A (en) 1985-12-27 1987-10-22 Adhesive sheets
MYPI89000327A MY104709A (en) 1985-12-27 1989-05-15 Adhesive sheet.
GB8916856A GB2221469B (en) 1985-12-27 1989-07-24 Adhesive sheet suitable for use in dicing semiconductor wafers into chips
GB8916857A GB2221470B (en) 1985-12-27 1989-07-24 Adhesive sheet suitable for semiconductor wafer processing
GB8916855A GB2221468B (en) 1985-12-27 1989-07-24 Adhesive sheet suitable for use in dicing semiconductor wafers into chips
US07/549,496 US5187007A (en) 1985-12-27 1990-06-29 Adhesive sheets
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02107681A (en) * 1988-10-18 1990-04-19 Tomoegawa Paper Co Ltd Photo-sensitive tacky adhesive sheet
JP4072927B2 (en) * 1997-08-28 2008-04-09 リンテック株式会社 Energy ray-curable hydrophilic pressure-sensitive adhesive composition and use thereof
JP6000958B2 (en) * 2011-09-20 2016-10-05 日東電工株式会社 Heat-peelable pressure-sensitive adhesive sheet for cutting electronic components and electronic component cutting method
JP6686299B2 (en) * 2014-05-22 2020-04-22 大日本印刷株式会社 Laminated body manufacturing method and adhesive sheet used therefor
JP7260017B1 (en) * 2022-01-31 2023-04-18 大日本印刷株式会社 Adhesive tape for semiconductor processing
WO2023243510A1 (en) * 2022-06-15 2023-12-21 日東電工株式会社 Variable color pressure-sensitive adhesive sheet

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