JPS62205180A - Adhesive sheet - Google Patents

Adhesive sheet

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JPS62205180A
JPS62205180A JP61045786A JP4578686A JPS62205180A JP S62205180 A JPS62205180 A JP S62205180A JP 61045786 A JP61045786 A JP 61045786A JP 4578686 A JP4578686 A JP 4578686A JP S62205180 A JPS62205180 A JP S62205180A
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adhesive sheet
adhesive
compound
radiation
base material
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Kazuyoshi Ebe
和義 江部
Hiroaki Narita
博昭 成田
Katsuhisa Taguchi
田口 克久
Yoshitaka Akeda
明田 好孝
Takanori Saito
斉藤 隆則
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F S K KK
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Abstract

PURPOSE:The titled tape, obtained by applying a compound colorable by irradiation to one surface of a base material, capable of improving the wafer chip detection accuracy by a photosensor and suitable to a dicing process for semiconductor wafers. CONSTITUTION:A sheet 1 obtained by applying a compound 4 colorable by irradiation onto at least one surface of a base material 2 and forming an adhesive layer 3 consisting of an adhesive and a radiation polymerizable compound, preferably urethane acrylate based oligomer. A leuco dye, particularly 4,4',4'- trisdimethylaminotriphenylmethane is preferably used as the radiation polymerizable compound and the above-mentioned compound is preferably added to the base material 2.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

及肌五玄亘分1 本発明は粘着シートに関し、さらに詳しくは、半導体ウ
ェハを小片に切断分離する際に用いられる粘着シートに
関する。 明の技術的背景ならびにその問題点 シリコン、ガリウムヒ索などの半導体ウェハは大径の状
態で製造され、このウェハは素子小片に切断分離(ダイ
シング)された後に次の工程であるマウント工程に移さ
れている。この際、半導体ウェハは予じめ粘着シートに
貼着8゛れた状態でダイシング、洗浄、乾燥、エキスパ
ンディング、ピックアップ、マウンティングの各工程が
加えられている。 このような半導体ウェハのダイシング工程で用いられて
いる粘着シートとしては、従来、ポリ塩化ビニル、ポリ
プロピレンなどの汎用の重合体フィルムからなる暴利面
上にアクリル系などの粘着剤層が設けられたものが用い
られてきた。ところがこのようなアクリル系の粘着剤層
を有する粘着シートでは、ダイシングされた半導体ウェ
ハの各チップをピックアンプする際にチップ面に粘着剤
が残存してチップが汚染されてしまうという問題点があ
った。 このような問題点を解決するため、従来、基材面へ粘着
剤を全面的に塗布するのではなく部分的に塗布して粘着
剤の措を少なくする方法が提案されている。この方法に
よれば、全体のチップ数に対する粘着剤層は減少してチ
ップ面の粘着剤による汚染はある程度減少させることは
できるが、ウェハチップと粘着シートとの接着力は減少
するため、ダイシング工程に引続いて行なわれる洗浄、
乾燥、エキスパンディングの各工程中にウェハチップが
粘着シートから脱離してしまうという新たな問題点が生
じている。 このような半導体ウェハのダイシング工程からピックア
ップ工程に至る工程で用いられる粘着シートとしては、
ダイシング工程からエキスパンディング工程までではウ
ェハチップに対して充分な接着力を有しており、ピック
アップ時にはウェハチップに粘着剤が付着しない程度の
接着力を有しているものが望まれている。 このような粘着シートとしては、特開昭60−196.
956月公報および特開昭60−223゜139号公報
に、基材面に、光照射によって三次元網状化しうる分子
内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも2個以上
有する低分子量化合物からなる粘着剤を塗イ[した粘着
シートが提案されている。そして該公報では、分子内に
光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも2個以上有す
る低分子量化合物としては、トリメチロールプロパンア
クリレート、テトラメヂロールメタンテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールへキザアクリレートあるいは1,4−ブチレ
ングリコールジアクリレート、1.6−ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート、市販のオリゴエステルアクリレートなどが例示さ
れている。 上記に例示されたような分子内に光重合性炭素−炭素二
重結合を少なくとも2個以上有する低分子量化合物から
なる粘着剤層を塗布した粘着シートは、次のような問題
点があることが本発明者らによって見出された。粘着シ
ート上に半導体ウェハを点着して該ウェハにダイシング
工程を施こし、次いで切断分離されたウェハチップをピ
ックアップするが、この際にチップの位置は光ゼンザー
などによって検出されていた。ところが上記のような粘
着シートでは、チップ位置の検出光が粘着シートによっ
て反射されることがあるため、精度よくチップの位置を
検出することができなくなり、ピックアップ時に誤動作
がよく発生することがあるという問題点があることが本
発明者らによって見出された。また上記のような粘着シ
ートでは紫外線を照射した場合に、一応粘着力は低下す
るが最適値までは粘着力が低下せず、大チップになるほ
どピックアップできないという問題点があることが本発
明者らによって見出された。 本発明者らは、このような従来技術に伴なう問題点を解
決すべく鋭意検問したところ、基材面に放射線照射によ
り盾色する化合物を塗布するか、あるいは基材中に放射
線照q]により着色する化合物を添加すればよいことを
見出して本発明を完成するに至った。また光重合性化合
物としてウレタンアクソレート系オリゴマーを用いれば
、極めて優れた特性を有する粘着シートが得られること
を見出した。 発明の目的 本発明は、上記のような従来技術に伴なう問題点を一挙
に解決しようとするものでおっで、ウェハチップを粘着
シートからピックアップする際に光センサーによる検出
を精度よく行なうことができ、したがってウェハデツプ
の位置決め行程で誤動作が生ずることがなく、しかも放
射線の照射前には充分な接着力を有するとともに放射線
の照Q」後にはその接着力が充分に低下してウェハチッ
プの裏表面に接着剤が何着することがなく、その上ダイ
シング行程を管理する作業者が粘着シートに放射線が照
射されたか否かを容易に確認でき、工程上のトラブルを
未然に防止できるような、半導体ウェハをダイシング工
程に付する際に特に好ましく用いられる粘着シートを提
供することを目的としている 発明のN要 本発明に係る第1の態様の粘着シートは、基材面上に粘
着剤と放射線重合性化合物とからなる粘ン1剤層を塗f
+i シてなる粘着シー1−に、13いて、lit本1
面の少なくとも一面に敢q」線照割により6色する化合
物を塗布したことを特徴と()ている。 また本発明
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an adhesive sheet, and more particularly, to an adhesive sheet used for cutting and separating a semiconductor wafer into small pieces. Technical Background and Problems Semiconductor wafers such as silicon and gallium arsenide are manufactured in a large diameter state, and after this wafer is cut and separated into small element pieces (dicing), it is transferred to the next process, the mounting process. ing. At this time, the semiconductor wafer is previously attached to an adhesive sheet and subjected to the following steps: dicing, cleaning, drying, expanding, picking up, and mounting. Adhesive sheets used in the dicing process of semiconductor wafers have traditionally been made of a general-purpose polymer film such as polyvinyl chloride or polypropylene, with an acrylic or other adhesive layer provided on the commercial side. has been used. However, with such adhesive sheets having an acrylic adhesive layer, there is a problem in that when each chip of a diced semiconductor wafer is pick-amplified, the adhesive remains on the chip surface and the chips are contaminated. Ta. In order to solve these problems, conventional methods have been proposed in which the pressure-sensitive adhesive is not applied over the entire surface of the base material, but only partially, thereby reducing the amount of pressure-sensitive adhesive. According to this method, the number of adhesive layers is reduced relative to the total number of chips, and contamination by the adhesive on the chip surface can be reduced to some extent, but the adhesive force between the wafer chips and the adhesive sheet is reduced, so the dicing process cleaning followed by
A new problem arises in that the wafer chip detaches from the adhesive sheet during the drying and expanding steps. Adhesive sheets used in processes ranging from the dicing process to the pick-up process of semiconductor wafers include:
It is desired that the adhesive has sufficient adhesive strength to the wafer chips from the dicing process to the expanding process, and has enough adhesive strength to prevent the adhesive from adhering to the wafer chips during pickup. As such an adhesive sheet, JP-A-60-196.
No. 956 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-223゜139 disclose a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in its molecule that can be formed into a three-dimensional network by light irradiation on the substrate surface. An adhesive sheet coated with an adhesive consisting of According to the publication, low molecular weight compounds having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule include trimethylolpropane acrylate, tetramedyllolmethanetetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, and pentaerythritol tetraacrylate. Examples include acrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, and commercially available oligoester acrylate. There is. Adhesive sheets coated with an adhesive layer made of a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule as exemplified above may have the following problems. Discovered by the present inventors. A semiconductor wafer is spotted on an adhesive sheet, the wafer is subjected to a dicing process, and the cut and separated wafer chips are then picked up. At this time, the position of the chip is detected by an optical sensor or the like. However, with the adhesive sheet described above, the detection light for the chip position may be reflected by the adhesive sheet, making it impossible to accurately detect the chip position, and malfunctions often occur when picking up the chip. The inventors have discovered that there are problems. In addition, the present inventors have found that when the above-mentioned adhesive sheet is irradiated with ultraviolet rays, the adhesive strength temporarily decreases, but the adhesive strength does not decrease to the optimum value, and the larger the chip, the more difficult it is to pick up the adhesive. discovered by. The inventors of the present invention conducted extensive research to solve the problems associated with the conventional technology, and found that either a compound that becomes shield-colored when irradiated with radiation is applied to the surface of the base material, or a compound that turns into a shield color when irradiated with radiation is applied to the base material. ] The present invention was completed by discovering that it is sufficient to add a compound that colors the product. We have also discovered that if a urethane axolate oligomer is used as a photopolymerizable compound, a pressure-sensitive adhesive sheet with extremely excellent properties can be obtained. Purpose of the Invention The present invention aims to solve all of the above-mentioned problems associated with the prior art.It is an object of the present invention to accurately perform detection using an optical sensor when picking up wafer chips from an adhesive sheet. Therefore, malfunctions do not occur during the wafer depth positioning process, and it has sufficient adhesive strength before radiation irradiation, and after the radiation irradiation, the adhesive strength decreases enough to prevent the back side of the wafer chip. It prevents adhesive from getting on the surface, and in addition, the worker managing the dicing process can easily check whether or not the adhesive sheet has been irradiated with radiation, which can prevent problems in the process. The first aspect of the invention aims to provide an adhesive sheet that is particularly preferably used when subjecting semiconductor wafers to a dicing process. Apply a layer of adhesive consisting of a polymerizable compound.
+i Shitenaru adhesive sheet 1-, 13, lit book 1
It is characterized by coating at least one of its surfaces with a compound that shows six colors depending on the line of sight. Also the present invention

【こ係る第2の態様の粘るシー1〜(よ、基
材面上に粘4剤と放射線手合性化合物とからなる粘着剤
層を塗布J−シてなる粘着シートにおいて、基材中に放
射線点Q4により着色づる化合物を添加したことを特i
牧としている。 本発明に係る粘着シートでは、敢Q1線照射により着色
する化合物が基材面に少なくとも一面に塗ffrされる
か、あるいは基材中に添加されているため、粘着シート
に放QJ線が照q」された後には該シートは着色されて
=Hす、したがって光ごンサーによってウェハチップを
検出する際に検出精度か高まり、ウェハチップのピック
アップ時に誤動作が生ずることがない。また粘着シート
に放射線が照射されたか否かが目視により直ちに判明覆
る。さらに粘着シート中の放射線重合性化合物としてウ
レタンアクリレート系オリゴマーを用いると、極めて優
れた性能をすnる粘着シートが得られる。 発明4&11釣請叩 本発明に係る粘着シート1は、その断面図が第1図に示
されるように、基材2とこの表面に塗着された粘着剤層
3とから一般になっており、本発明に係る第1の態様の
粘着シート1では、基材2の表裏面の少なくとも一面に
放射線照射により着色する化合物が含まれた放射線照g
A着色層4が塗布されている。また本発明に係る第2の
態様の粘着シート1では、基材2中に放射線照射により
着色する化合物が添加されている。 放射線照射による着色する化合物が含まれた放射線照射
着色層4は、第1図に示すように基材2の粘@層3が5
儲けられていない面上に形成されていてもよく、また第
2図に示すように基材2と粘着剤層3との間に形成され
ていていもよい。なお使用前にはこの粘着剤層3を保護
するため、粘着剤3の上面に剥離性シート(図示せず)
を仮粘着しておくことが好ましい。 本発明に係る粘るシートの形状は、テープ状、ラベル状
などあらゆる形状をとりうる。基材2としては、導電率
が低く耐水性および耐熱titに優れているものが適し
、特に合成樹脂フィルムが適する。本発明の粘着シート
では、後記Jるように、その使用に当り、[BやUVな
どの放射線照射が行なわれているので、EB@射の場合
は、該基材2は透明である必要はないが、UV照躬をし
て用いる場合は、透明な材料である必要がある。 このような基材2としては、具体的に、ボリエヂレンフ
ィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィ
ルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリブチ
レンテレフタレートフィルム、ポリブテンフィルム、ポ
リブタジェンフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリメ
チルペンテンフィルム、エチレン酢ビフィルムなどが用
いられる。また!IH,12として、架橋ポリオレフィ
ンを用いると、後述するウェハのダイシング工程でのり
材2の伸びあるいはたわみが防止できる。 粘着剤としては従来公知のものが広く用いられうるが、
アクリル系粘着剤が好ましく、具体的には、アクリル酸
エステルを主たる構成単量体単位とする単独重合体およ
び共重合体から選ばれたアクリル系重合体その他の官能
性単量体との共重合体およびこれら重合体の混合物であ
る。たとえば、七ツマ−のアクリル酸エステルとして、
メタアクリル酸エヂル、メタアクリル酸ブチル、メタア
クリル酸−2−エヂルヘキシル、メタアクリル酸グリシ
ジル、メタアクリル酸−2−ヒドロキシエチルなど、ま
た上記のメタアクリル酸をたとえばアクリル酸に代えた
ものなども好ましく使用できる。 ざらに後述するオリゴマーとの相溶性を高めるため、(
メタ)アクリル酸、アクリロニトリル、酢酸ビニルなど
のモノマーを共重合させてもよい。 これらの七ツマ−から重合して得られるアクリル系組合
体の分子量は、2.0X10”〜10.0XIOでめり
、好ましくは、4.0X10”〜8、O×105でおる
。 また放射線重合性化合物としては、たとえば特開昭60
−196.956月公報および特開昭60−223,1
39月公報に開示されているような光照射によって三次
元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を
少なくとも2個以上有する低分子(イ)化合物か広く用
いられ、具体的には、トリメチロールプロパン)7クリ
レート、デ1へラメチロールメタンテトラアクリレ−1
・、ペンタエリスリトールトリアクリレ−1へ、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘギ1ノ゛アクリレートあるいは1.4−
ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサン
ジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、市販のオリゴエステルアクリレートなどが
用いられる。 さらに放射線重合性化合物として、上記のようなアクリ
レート系化合物のほかに、ウレタンアクリレート系オリ
ゴマーを用いることもできる。ウレタンアクリレート系
オリゴマーは、ポリニスデル型またはポリエーテル型な
どのポリオール化合物と、多価イソシアナート化合物た
とえば2.4−トリレンジイソシアナート、2.6−ト
リレンジイソシアナート、1,3−キシリレンジイソシ
アナート、1゜4−キシリレンジイソシアナート、ジフ
ェニルメタン4,4−ジイソシアナートなどを反応させ
て得られる末端イソシアナートウレタンプレポリマーに
、ヒドロキシル基をPiツる(メタ)アクリレートたと
えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ングリコール(メタ)アクリレートなどを反応させて得
られる。このウレタンアクリレート系オリゴマーは、炭
素−炭素二重結合を少なくとも1個以上有する放射線重
合性化合物である。 このようなウレタンアクリレート系オリゴマーとして、
特に分子量が3000〜10000好ましくは4000
〜8000であるものを用いると、半導体ウェハ表面が
粗い場合にも、ウェハチップのピックアップ時にチップ
面に粘着剤が付着することがないため好ましい。またウ
レタンアクリレート系オリゴマーを放射線重合性化合物
として用いる場合には、特開昭60−196.956号
公報に開示されたような分子内に光重合性炭素−炭素二
重結合を少なくとも2個以上有する低分子母化合物を用
いた場合と比較して、粘着シー1〜として極めて優れた
ものが得られる。すなわち粘着シートの放射線照射前の
接着力は充分に大ぎく、また放射線照射後には接着力が
充分に低下してウェハチップのピックアップ時にチップ
面に粘着剤が残存することはない。 本発明における粘着剤中のアクリル系粘着剤とウレタン
アクリレート系オリゴマーの配合比は、アクリル系粘着
剤’+oowm部に対してウレタンアクリレート系オリ
ゴマーは50〜900@ffi部の範囲の」で用いられ
ることが好ましい。この場合には、得られる粘着シート
は初期の接着力が大きくしかも放射線照射後には粘着力
、は大きく低下し、容易にウェハチップを該粘着シート
からピックアップすることができる。 本発明で用いられる放射線照射により着色する化合物は
、放射線の照射前には無色または淡色であるが、放射線
の照射により褐色となる化合物であって、この化合物の
好ましい具体例としてはロイコ染料が挙げられる。ロイ
コ染料としては、慣用のトリフェニルメタン系、フルオ
ラン系、フ工ノチアジン系、オーラミン系、スピロピラ
ン系のものが好ましく用いられる。具体的には3−1y
−(p−トリルアミノ)1−7−アニリツフルオラン、
3−[N−(p−トリル)−N−メチルアミノ1−フー
アニリツフルオラン、3−[N−([)−トリル)−N
−エチルアミノ]−7−アニリツフルオラン、3−ジエ
チルアミノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、ク
リスタルバイオレットラフ1〜ン、4,4°、4゛°−
トリスジメヂルアミノトリフェニルメタノール、4,4
′、4”4リスジメチルアミノ]ヘリフエニルメタンな
どが挙げられる。 これらロイコ染料とともに好ましく用いられる顕色剤と
しては、従来から用いられているフェノールポルマリン
樹脂の初期重合体、芳香lJxカルボン酸誘導体、活性
白土などの電子受容体が埜げられ、さらに、色調を変化
させる場合は種々公知の発色剤組合せて用いることもで
きる。 このように放射線照射によって着色する化合物物を一旦
イ1R溶媒などに溶解させて俊、得られた溶液を、基材
2の表裏面のいづれか一方あるいは両方に塗イji T
れば、塁)rA2の表裏面の少なくとも一面に、hk則
線線点射より6色Jる化合物が含まれた放射線点QJ6
色層4を形成することかでさる、。 また放射線点q4によって盾巨覆る化合物を・、下塗り
用組成物中に介よせて、この下塗り用組成物を基材2の
表裏面の少なくとも一面に塗イ1】することによって敢
q1線点’J%色層4を形成しでもよい1゜このような
下塗り用組成物どしては、へ′L酸ビニルー塩化ビニル
共弔合体を主成分とするもの、ポリウレタン系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、ポリ)′ミド系樹脂、エポキシ系樹
脂などが用いられる。これらの下塗り用組成物は、基材
2の種類に応じて適宜選択して使用される。 一方上記のようなりk GtJ線によって着色づる化合
物をh機溶媒などに溶解させてjqられる溶液を、基材
2をシー1〜状に形成覆る際に用い−H,+;HA2中
に放射線照射により着色づる化合物を添加してもよい。 場合によっては、l)!1.割線照線点よって着色する
化合物を微粉末にして樋材2中に添加させてもよい。 このように、欣94線照則によって着色づる化合物を基
材2の表裏面の少なくとも一面上に塗布するか、おるい
は基+42中に含ませることによって、本発明に係る粘
着シート1に放射線を照射すると充分着色し、光センサ
ーによってウェハチップを検出する際の検出精度が高ま
りウェハチップのピックアップ時に誤動作が生ずること
が防止される。 しかも本発明では、放射線点q」によって着色する化合
物を粘着剤層中には含ませていないため、放射線照射に
よる粘着剤層3の接着力の低下に悪影響が出る恐れがな
いという効果も得られる。 また上記の粘着剤中に、イワシアナ−1〜系硬化剤を混
合することにより、初期の接着力を任意の値に設定する
ことができる。このような硬化剤としては、具体的には
多価イソシアナート化合物、たとえば2.4−トリレン
ジイソシアナー1〜.2.8−トリレンジイソシアナー
ト、1,3−キシリレンジイソシアナート、1.4−キ
シレンジイソシアナート、ジフェニルメタン−4,4−
ジイソシアナート、ジフェニルメタン−2,4−ジイソ
シアナート、3−メチルジフェニルメタンジイソシアナ
ート、ヘキサメヂレンジイソシアナート、イソホロンジ
イソシアナート、ジシクロキシシルメタン−4,4−ジ
イソシアナ−1へ、ジシクロヘキシルメタン−2,・1
°−ジイソシアナート、リジン、イソシアナートなどが
用いられる。 さらに上記の粘着剤中に、UV@Q’J用の場合には、
UV間始剤を混入することにより、Uv照射による重合
硬化時間ならびにU■照剣を少イ
[In the adhesive sheet of the second embodiment, an adhesive layer consisting of a 4-adhesive agent and a radiation-sensitive compound is coated on the surface of the base material. Point Q4 indicates that a coloring compound has been added.
I am Maki. In the adhesive sheet according to the present invention, a compound that is colored by Q1 ray irradiation is coated on at least one surface of the base material, or is added to the base material, so that the adhesive sheet is not irradiated with QJ rays. After this, the sheet is colored =H, so that the detection accuracy is increased when detecting wafer chips by the optical sensor, and malfunctions do not occur when picking up wafer chips. In addition, whether or not the adhesive sheet has been irradiated with radiation can be immediately determined by visual inspection. Furthermore, when a urethane acrylate oligomer is used as a radiation-polymerizable compound in the adhesive sheet, an adhesive sheet with extremely excellent performance can be obtained. Invention 4 & 11 As shown in FIG. 1, the adhesive sheet 1 according to the present invention generally consists of a base material 2 and an adhesive layer 3 coated on the surface thereof. In the pressure-sensitive adhesive sheet 1 of the first aspect of the invention, at least one of the front and back surfaces of the base material 2 contains a radiation irradiating compound that is colored by radiation irradiation.
A colored layer 4 is applied. Moreover, in the adhesive sheet 1 of the second aspect of the present invention, a compound that is colored by radiation irradiation is added to the base material 2. The radiation irradiation colored layer 4 containing a compound that is colored by radiation irradiation is made of
It may be formed on the non-containing surface, or it may be formed between the base material 2 and the adhesive layer 3 as shown in FIG. Before use, in order to protect this adhesive layer 3, a releasable sheet (not shown) is placed on the top surface of the adhesive 3.
It is preferable to temporarily attach the adhesive. The shape of the sticky sheet according to the present invention can be any shape such as a tape shape or a label shape. As the base material 2, a material having low electrical conductivity and excellent water resistance and heat resistance is suitable, and a synthetic resin film is particularly suitable. As described below, the adhesive sheet of the present invention is irradiated with radiation such as [B and UV, so in the case of EB@ radiation, the base material 2 does not need to be transparent. However, if it is used with UV illumination, it needs to be a transparent material. Specific examples of such a base material 2 include polyethylene film, polypropylene film, polyvinyl chloride film, polybutylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polybutene film, polybutadiene film, polyurethane film, and polymethylpentene film. Film, ethylene vinyl acetate film, etc. are used. Also! If a crosslinked polyolefin is used as the IH, 12, it is possible to prevent the adhesive material 2 from elongating or bending in the wafer dicing process described later. Conventionally known adhesives can be widely used, but
Acrylic adhesives are preferred, and specifically, acrylic polymers selected from homopolymers and copolymers containing acrylic acid ester as the main constituent monomer unit and copolymers with other functional monomers. and mixtures of these polymers. For example, as an acrylic ester of Nanatsuma,
Edyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-edylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, etc., and those in which the above methacrylic acid is replaced with acrylic acid are also preferred. Can be used. In order to increase the compatibility with the oligomers described below, (
Monomers such as meth)acrylic acid, acrylonitrile, and vinyl acetate may be copolymerized. The molecular weight of the acrylic combination obtained by polymerization from these seven polymers ranges from 2.0 x 10'' to 10.0 x IO, preferably from 4.0 x 10'' to 8,0 x 105. In addition, examples of radiation polymerizable compounds include, for example, JP-A-60
-196.95 June Publication and Japanese Unexamined Patent Publication No. 1986-223, 1
Low molecular weight (a) compounds having at least two or more photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule that can be formed into a three-dimensional network by light irradiation as disclosed in the 39th publication are widely used and specifically is trimethylolpropane)7 acrylate, de1heramethylolmethanetetraacrylate-1
・Pentaerythritol triacrylate-1, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hegi-1 acrylate or 1.4-
Butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, commercially available oligoester acrylate, and the like are used. Further, as the radiation polymerizable compound, in addition to the above-mentioned acrylate compounds, urethane acrylate oligomers can also be used. The urethane acrylate oligomer is a polyol compound such as a polynisder type or a polyether type, and a polyvalent isocyanate compound such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate. , 1° 4-xylylene diisocyanate, diphenylmethane 4,4-diisocyanate, etc., to a terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting hydroxyl groups with Pi (meth)acrylate such as 2-hydroxyethyl (meth) ) acrylate, 2-
Obtained by reacting hydroxypropyl (meth)acrylate, polyethylene glycol (meth)acrylate, etc. This urethane acrylate oligomer is a radiation polymerizable compound having at least one carbon-carbon double bond. As such urethane acrylate oligomer,
In particular, the molecular weight is 3,000 to 10,000, preferably 4,000.
It is preferable to use one having a molecular weight of 8,000 to 8,000, because even if the semiconductor wafer surface is rough, the adhesive will not adhere to the chip surface when the wafer chip is picked up. In addition, when a urethane acrylate oligomer is used as a radiation polymerizable compound, it has at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule as disclosed in JP-A No. 60-196.956. Compared to the case where a low-molecular-weight mother compound is used, extremely superior adhesive sheets 1 to 1 can be obtained. That is, the adhesive strength of the adhesive sheet before irradiation with radiation is sufficiently strong, and the adhesive strength decreases sufficiently after irradiation with radiation, so that no adhesive remains on the chip surface when a wafer chip is picked up. The blending ratio of the acrylic adhesive and the urethane acrylate oligomer in the adhesive in the present invention is such that the urethane acrylate oligomer is used in a range of 50 to 900@ffi parts to '+oowm parts of the acrylic adhesive. is preferred. In this case, the adhesive sheet obtained has a high initial adhesive strength, but the adhesive strength decreases significantly after radiation irradiation, and wafer chips can be easily picked up from the adhesive sheet. The compound used in the present invention that is colored by radiation irradiation is a compound that is colorless or light-colored before radiation irradiation, but turns brown upon radiation irradiation, and a preferable specific example of this compound is a leuco dye. It will be done. As the leuco dye, conventional triphenylmethane-based, fluoran-based, fluorothiazine-based, auramine-based, and spiropyran-based dyes are preferably used. Specifically 3-1y
-(p-tolylamino)1-7-anilite fluorane,
3-[N-(p-tolyl)-N-methylamino 1-fuanilitufluorane, 3-[N-([)-tolyl)-N
-ethylamino]-7-anilitofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, crystal violet rough 1~, 4,4°, 4゛°-
Tris-dimedylaminotriphenylmethanol, 4,4
', 4''4 lisdimethylamino]heliphenylmethane, etc. Color developers preferably used with these leuco dyes include prepolymers of phenol-pormarine resins, aromatic lJx carboxylic acids, etc., which are conventionally used. When electron acceptors such as derivatives and activated clay are removed, and the color tone is to be changed, various known coloring agents can be used in combination. In this way, a compound that is colored by radiation irradiation is once treated with a 1R solvent, etc. Then, apply the obtained solution to either or both of the front and back surfaces of the base material 2.
Radiation point QJ6 containing compounds of 6 colors J from the hk regular line irradiation on at least one of the front and back surfaces of rA2
It depends on the formation of color layer 4. In addition, a compound that covers the radiation point q4 is interposed in an undercoat composition, and this undercoat composition is applied to at least one surface of the front and back surfaces of the base material 2. J% color layer 4 may be formed1゜Such undercoat compositions include those containing a vinyl chloride-vinyl chloride co-consolidated material as a main component, polyurethane resins, polyurethane resins, polyurethane resins, etc. )' Mido resin, epoxy resin, etc. are used. These undercoat compositions are appropriately selected and used depending on the type of the base material 2. On the other hand, a solution obtained by dissolving a compound colored by GtJ rays in a solvent or the like as described above is used when forming and covering the base material 2 in the shape of -H, +; HA2 and irradiates it with radiation. A compound that causes coloration may be added. In some cases, l)! 1. A compound that is colored by the dotted lines may be made into a fine powder and added to the gutter material 2. In this way, the adhesive sheet 1 according to the present invention is exposed to radiation by coating at least one of the front and back surfaces of the base material 2 with a colored compound according to the 94-line rule, or by incorporating it into the base material 2. When irradiated with , the wafer chips are sufficiently colored, and the detection accuracy when detecting the wafer chips by the optical sensor is increased, thereby preventing malfunctions when picking up the wafer chips. Moreover, in the present invention, since the adhesive layer does not contain a compound that is colored by the radiation point q, it is possible to obtain the effect that there is no possibility that the adhesive force of the adhesive layer 3 will be adversely affected by the decrease in the adhesive force due to radiation irradiation. . Further, by mixing Sardine Ana-1 to curing agent into the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, the initial adhesive strength can be set to an arbitrary value. As such a curing agent, specifically, a polyvalent isocyanate compound, such as 2,4-tolylene diisocyanate 1-. 2.8-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1.4-xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4-
Diisocyanate, diphenylmethane-2,4-diisocyanate, 3-methyldiphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicycloxylmethane-4,4-diisocyanate-1, dicyclohexylmethane -2,・1
°-diisocyanate, lysine, isocyanate, etc. are used. Furthermore, among the above adhesives, in the case of UV@Q'J,
By mixing a UV initiator, the polymerization curing time due to UV irradiation and the UV radiation can be reduced.

【りなることができる
。 このようなU V開始剤としては、具体的には、ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、べ〉′ゾインエヂル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ペンジル
ジフェニルサルフファイト、51・・ラメチルヂウラム
tノサルファイド、7ゾヒ゛スイソブチロニトリル、ジ
ベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノンな
どが挙げられる。 以下本発明に係る粘着シートの使用方法について説明づ
る。 本発明に係る粘着シート1の上面に剥離↑1シー1−が
設けられている場合には、該シートを除ムし、次いで粘
着シート1の粘善剤層3を上向きにしで載置し、第3図
に示すようにして、ごの粘着剤層3の上面にダイシング
加エタベき半導体ウェハAを粘着する。この貼る゛状態
でウェハAにダイシング、洗浄、乾燥、エキスパンディ
ングの諸工程が加えられる。この際、粘着剤層3により
ウェハチップは粘着シートに充分に接着保持されている
ので、上記各工程の間にウェハデツプが脱落することは
ない。 次に、各ウェハチップを粘着シートからピックアップし
て所定に基台上にマウンティングするが、この際、ピッ
クアップに先立っであるいはピックアップ時に、第4図
に示すようにして、紫外線(UV)あるいは電子線(E
B)などの電離性放射線Bを粘着シート1の粘着剤層3
に照射し、粘着剤層3中に含まれる放射線重合性化合物
を重合硬化せしめる。 このように粘着剤層3に放射線を照射して放射線重合性
化合物を重合硬化せしめると、粘着剤の有する接着力は
大きく低下し、わずかの接着力が残存するのみとなる。 粘着シート1への放q」線点射は、基材2σ】粘着剤層
が設けられていない面から行なうことが好ましい。した
がって前述のように、放Q4線としてUvを用いる場合
には12は光透過性であることが必要であるが、放射線
として「Bを用いる場合には基材2は必ずしも光透過性
である必要はない。 このようにウェハチップA I 、A 2、■・・力唄
けられた部分の粘着剤層3に放射線を照QJして、粘着
剤層3の接着力を低下せしめた後、この粘着シートをピ
ックアップステーション(図示せず)に移送し、第5図
に示ずように、ここで常法にしたがって基材2の下面か
ら突き上げ針打5によりピックアップ1べきチップA1
・・・・・・を突き上げ、このチップA1・・・・・・
をたとえばエアピンセット6によりピックアップし、こ
れを所定の基台上にマウンティングする。このようにし
てウェハチップA1、A2・・・・、・・のピックアッ
プを行なうと、ウェハチップ面上には粘着剤が全く付着
せずに簡単にピックアップすることができ、汚染のない
良好な品質のチップが得られる。なお放射線照射は、ピ
ックアップステーションにおいて行なうこともできる。 放射線照射は、ウェハAの貼着面の全面にわたって一度
に照射する必要は必ずしもなく、部分的には何回にも分
けて照則するようにしてもよく、たとえば、ピックアッ
プすべきウェハチップA1、A2・・・・・・の−個ご
とに、これに対応する場面にのみ照則づる放射線照q4
管により照則しその部分の粘着剤のみの接着力を低下さ
せた後、付き上げ針打5によりウェハチップA1、A2
・・・・・・を突き上げて順次ピックアップを行なうこ
ともできる。第6図には、上記の放射線照射方法の変形
例を示すが、この場合には、突き上げ針打5の内部を中
空とし、その中空部に放射線発生源7を設けて放射線照
射とピックアップとを同時に行なえるようにしており、
このようにすると装置を簡単化できると同時にピックア
ップ操作時間を短縮することができる。 なお上記の半導体ウェハの処理において、エキスパンデ
ィング工程を行なわず、ダイシング、洗浄、乾燥後直ち
にウェハチップA1、A2・・・・・・にピックアップ
処理を行なうこともできる。 本発明に係る粘着シート1は、上記のように半導体ウェ
ハにダイシング工程からピックアップ工程を施す際に特
に好ましく用いられるが、この粘着シート1はまた被塗
装物をマスキンダブる際に用いることもできる。 及皿五盈1 本発明に係る粘着シートでは、粘着剤層には、粘着剤と
放射線重合性化合物とに加えて、放射線照射により着色
する化合物が基材の表裏面の少なくとも一面に設られる
か、あるいは基材中に添加されているため粘着シート放
射線が照射された後には該シートは着色されており、し
たがって光センサーによってウェハデツプを検出づる際
に検出精度が高まり、ウェハチップのピックアップ時に
誤動作が生ずることがない。また粘着シートに放射線が
照射されたか否かが目視により直ちに判明する。ざらに
粘着シート中の放射線重合性化合物としてウレタンアク
リレート系Aリゴマ−を用いると、極めて優れた性能を
イj′7jる粘着シー1へかIJられる。 以下本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。 実施例1 主成分が酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体である下塗り
用組成物100ffi扇部に対し紫外線点QJにより着
色するロイコ染料の一種として、4.4’、4°“−ト
リスジメチルアミノトリフェニルメタンを5手縫部添加
した後、それを基材である厚ざ50uTrLのポリエヂ
レンテレフタレートフイルムの片面に乾燥厚さ1〜2μ
7rLとなるように塗イli乾燥させ、下塗り層を形成
した。 下塗り層上に、アクリル系粘着剤(「1−ブチルアクリ
レ=1〜とアクリル酸の共重合体>1001社部と、分
子@3000〜10000のウレタンアクリレート系オ
リゴマー100重ffi部と、硬化剤(ジイソシアナー
ト系)25@fi部とUV硬化反応開始剤(ベンゾフェ
ノン系>101ailt部とを混合し、粘’Ir A1
層として乾・燥厚さ10μ71’Lどなるように塗イf
TL2.100’Cて1分間hn然して、三ル4(14
造をhる本発明の粘るシー1〜を冑た。 得られた粘着シートの粘着剤層に紫外線(LJ V )
を空冷式高圧水銀灯(80wy’cm、照l、iJ距離
10cm )により2秒間照則した。、UV照割によっ
て透明であった粘着シートは青紫色に着色した。 LJV@躬時の色差△「(L*a*b*)を・8Mカラ
ーコンピューター(スガ試験+a、製)で、測定したと
ころ、色差は21.6であった。 また、この粘着シー1〜にシリ」ノウ1ハを貼♀1し、
ダイシングした後、上記のような条件で紫外線照射を行
ない、光セン4ノー(SX−23R,サンクスfe1M
)により検出を行なったところ、容易にウェハデツプを
検出づることかできた。更にウェハデツプを光セン9−
を用いながらピックアップを行なったところ、誤動作は
全く生じなかった。 比較例1 上記実施例1にj3いて、紫外線照射によりi色する下
塗り層を形成しなかった以外は、実施例1と同様にして
、粘着シートを形成して、紫外線による色差を調べた。 得られた粘着シートの紫外線照射1iff 後(1)色
差ΔF (L”a*b”)は、2.0以下でおり紫外線
点Q4による着色は認められなかった。 また、この粘着シート上にシリコンウェハを貼着し、グ
イシング後、紫外線照射を行ない光センサーにより検出
を行なったところ、充分には検出できない場合があった
。 さらに、ウェハチップを光センサーを用いながら、ピッ
クアップしたところ、誤動作を起こすことがあった。
[It can be done. Specific examples of such UV initiators include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin dielether, benzoin isopropyl ether, penzyldiphenyl sulfite, 51...ramethyldiuram tnosulfide, and 7zoin methyl ether. Examples include isobutyronitrile, dibenzyl, diacetyl, and β-chloroanthraquinone. The method of using the adhesive sheet according to the present invention will be explained below. When the adhesive sheet 1 according to the present invention is provided with a peeling ↑1 sea 1- on the upper surface, the sheet is removed, and then the adhesive sheet 1 is placed with the thickener layer 3 facing upward, As shown in FIG. 3, a diced and etched semiconductor wafer A is adhered to the upper surface of the adhesive layer 3. In this pasted state, wafer A is subjected to various processes such as dicing, cleaning, drying, and expanding. At this time, since the wafer chips are sufficiently adhered and held to the adhesive sheet by the adhesive layer 3, the wafer dip does not fall off during the above steps. Next, each wafer chip is picked up from the adhesive sheet and mounted on a predetermined base. At this time, either before or during the pick-up, ultraviolet (UV) or electron beam (E
Ionizing radiation B such as B) is applied to the adhesive layer 3 of the adhesive sheet 1.
The radiation polymerizable compound contained in the adhesive layer 3 is polymerized and cured. When the radiation-polymerizable compound is polymerized and cured by irradiating the adhesive layer 3 with radiation in this manner, the adhesive strength of the adhesive is greatly reduced, and only a small amount of adhesive strength remains. It is preferable that the radiation q' line be applied to the adhesive sheet 1 from the side on which the base material 2σ] adhesive layer is not provided. Therefore, as mentioned above, when using Uv as the radiation Q4 radiation, 12 must be optically transparent; however, when using B as the radiation, the base material 2 must necessarily be optically transparent. In this way, the adhesive layer 3 of the wafer chips A I, A 2, The adhesive sheet is transferred to a pick-up station (not shown), and as shown in FIG.
Push up ...... and this chip A1...
is picked up using air tweezers 6, for example, and mounted on a predetermined base. When wafer chips A1, A2, etc. are picked up in this way, they can be easily picked up without any adhesive attached to the wafer chip surface, resulting in good quality without contamination. of chips. Note that radiation irradiation can also be performed at a pickup station. It is not necessarily necessary to irradiate the entire surface of the wafer A to which the wafer A is attached at once, and some parts may be irradiated several times. For example, wafer chip A1 to be picked up, A2... For each - item, radiation q4 is applied only to the corresponding scene.
After lowering the adhesive force of the adhesive in that area by using a tube, the wafer chips A1 and A2 are removed by a push-up needle 5.
It is also possible to pick up items one by one by pushing them up. FIG. 6 shows a modification of the above-mentioned radiation irradiation method. In this case, the push-up needle 5 is hollow, and a radiation source 7 is provided in the hollow part to perform radiation irradiation and pickup. We are making it possible to do this at the same time.
In this way, the device can be simplified and at the same time the pick-up operation time can be shortened. Note that in the above semiconductor wafer processing, the expanding process may not be performed and the wafer chips A1, A2, . . . may be subjected to a pick-up process immediately after dicing, cleaning, and drying. The adhesive sheet 1 according to the present invention is particularly preferably used when subjecting a semiconductor wafer to a dicing process to a pick-up process as described above, but this adhesive sheet 1 can also be used when mask-dobbing an object to be coated. 1. In the adhesive sheet according to the present invention, in addition to the adhesive and the radiation polymerizable compound, the adhesive layer includes a compound that is colored by radiation irradiation on at least one of the front and back surfaces of the base material. Or, because the adhesive sheet is added to the base material, the sheet is colored after being irradiated with radiation, which increases the detection accuracy when detecting the wafer depth with the optical sensor and prevents malfunctions when picking up wafer chips. It never occurs. Further, whether or not the adhesive sheet has been irradiated with radiation can be immediately determined by visual inspection. When urethane acrylate type A oligomer is used as the radiation-polymerizable compound in the adhesive sheet, the adhesive sheet 1 exhibits extremely excellent performance. EXAMPLES The present invention will be explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Example 1 An undercoat composition containing vinyl acetate-vinyl chloride copolymer as a main component. 4.4',4°"-trisdimethylaminotrifluoride was used as a type of leuco dye to color the 100ffi sector at the ultraviolet point QJ. After adding phenylmethane to 5 hand-sewn parts, it was applied to one side of a polyethylene terephthalate film with a thickness of 50 uTrL as a base material to a dry thickness of 1 to 2 μm.
It was coated and dried to form an undercoat layer of 7rL. On the undercoat layer, an acrylic adhesive (1001 parts of a copolymer of 1-butyl acrylate and acrylic acid), 100 parts of a urethane acrylate oligomer with molecules of 3000 to 10000, and a curing agent (di 25 parts of isocyanate type) and 101 parts of UV curing reaction initiator (benzophenone type) were mixed, and viscous 'Ir A1
Dry as a layer and apply it to a dry thickness of 10μ71'L.
TL 2.100'C for 1 minute, but 3 4 (14
The sticky seams 1~ of the present invention, which are used for construction, have been completed. Ultraviolet light (LJ V ) is applied to the adhesive layer of the obtained adhesive sheet.
was illuminated for 2 seconds with an air-cooled high-pressure mercury lamp (80 wy'cm, illuminance, iJ distance 10 cm). The transparent pressure-sensitive adhesive sheet was colored bluish-purple when exposed to UV light. When the color difference △ (L*a*b*) was measured using an 8M color computer (manufactured by Suga Testimonial +a), the color difference was 21.6. Paste the "Siri" know 1 ha on ♀1,
After dicing, ultraviolet irradiation was performed under the conditions described above, and a 4-no-light (SX-23R, Thanks fe1M
), it was possible to easily detect the wafer depth. Furthermore, the wafer depth is exposed to light sensor 9-
When I picked up the device while using it, no malfunctions occurred at all. Comparative Example 1 A pressure-sensitive adhesive sheet was formed in the same manner as in Example 1, except that the undercoat layer that changed to i color by ultraviolet irradiation was not formed in j3 of Example 1 above, and the color difference due to ultraviolet rays was examined. After 1iff of ultraviolet irradiation of the resulting pressure-sensitive adhesive sheet, (1) the color difference ΔF (L"a*b") was 2.0 or less, and no coloring due to the ultraviolet point Q4 was observed. Furthermore, when a silicon wafer was pasted onto this adhesive sheet and, after glazing, ultraviolet rays were irradiated and detection was performed using an optical sensor, there were cases where sufficient detection was not possible. Furthermore, when picking up wafer chips using an optical sensor, malfunctions sometimes occurred.

【図面の簡単な説明】 第1図および第2図は本発明に係る粘着シートの断面図
であり、第3図〜第6図は該粘着シートを半導体ウェハ
のダイシング工程からビックアップ工程までに用いた場
合の説明図である。 1・・・粘着シー1−12・・・基材、3・・・粘着剤
層、4・・・放射線点!、11首邑層、A・・・ウェハ
、B・・・敢q4線。 代理人  弁理士  銘木  俊=一部1  第1図 I   JE2図 第3図 M4図 第5図 手続補JF訓 昭和61年11月 70 1h訂庁長官  黒 1)明 7jf   殿粘着シー
ト 名称  エフエスケー株式会ネ] 自発補正 6、補正のλ−1象 7、補正の内容 明細書を以下のにうに補正する。 (1)第5頁第3行 (補正前) トリメチロールプロパンアクリレ−1− (補正後) トリメチロールプロパントリアクリレート (2)第9頁第21行 く補正前) 導電率が低く (補正後) (削除) (3)第12頁第2行 (補正前) トリメチロールプロパンアクリレート (補正後) トリメチロールプロパントリアクリレート (4)第15頁第17行 (補正前) 化合物物 (補正後) 化合物 (5)第18頁第211 (補正前) ジシクロキシシルメタン−4,4°−ジイ
ソシアナ−1へ (補正後) シシクロヘニSシルメタン−4,4−ジイ
ソシアナート
[Brief Description of the Drawings] Figures 1 and 2 are cross-sectional views of the adhesive sheet according to the present invention, and Figures 3 to 6 show the adhesive sheet used in the process from the dicing process of semiconductor wafers to the stand-up process. It is an explanatory view when used. 1... Adhesive sheet 1-12... Base material, 3... Adhesive layer, 4... Radiation point! , 11th layer, A... wafer, B... q4 line. Agent Patent Attorney Shun Meiki = Part 1 Figure 1 I JE2 Figure 3 M4 Figure 5 Procedure Supplement JF Instruction November 1986 70 1h Correction Office Commissioner Black 1) Ming 7jf Adhesive sheet name FSK Co., Ltd. ] Voluntary amendment 6, amendment λ-1 diagram 7, and the detailed description of the amendment are amended as follows. (1) Page 5, line 3 (before correction) Trimethylolpropane acrylate-1- (after correction) Trimethylolpropane triacrylate (2) Page 9, line 21 (before correction) Low conductivity (after correction) (Deleted) (3) Page 12, line 2 (before amendment) Trimethylolpropane acrylate (after amendment) Trimethylolpropane triacrylate (4) Page 15, line 17 (before amendment) Compound (after amendment) Compound ( 5) Page 18, No. 211 (Before correction) To dicyclooxylmethane-4,4°-diisocyanate-1 (After correction) CyclohenySylmethane-4,4-diisocyanate

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基材面上に粘着剤と放射線重合性化合物とからな
る粘着剤層を塗布してなる粘着シートにおいて、基材面
の少なくとも一面に放射線照射により着色する化合物を
塗布したことを特徴とする粘着シート。
(1) A pressure-sensitive adhesive sheet formed by coating a pressure-sensitive adhesive layer made of a pressure-sensitive adhesive and a radiation-polymerizable compound on a base material surface, characterized in that a compound that is colored by radiation irradiation is coated on at least one surface of the base material surface. adhesive sheet.
(2)放射線照射により着色する化合物がロイコ染料で
ある特許請求の範囲第1項に記載の粘着シート。
(2) The pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein the compound that is colored by radiation irradiation is a leuco dye.
(3)ロイコ染料が4,4’,4”−トリスジメチルア
ミノトリフェニルメタンである特許請求の範囲第2項に
記載の粘着シート。
(3) The adhesive sheet according to claim 2, wherein the leuco dye is 4,4',4''-trisdimethylaminotriphenylmethane.
(4)放射線重合性化合物が、ウレタンアクリレート系
オリゴマーである特許請求の範囲第1項に記載の粘着シ
ート。
(4) The adhesive sheet according to claim 1, wherein the radiation polymerizable compound is a urethane acrylate oligomer.
(5)基材面に粘着剤と放射線重合性化合物とからなる
粘着財層を塗布してかる粘着シートにおいて、基材中に
放射線照射により着色する化合物を添加したことを特徴
とする粘着シート。
(5) A pressure-sensitive adhesive sheet comprising a base material surface coated with a pressure-sensitive adhesive layer consisting of a pressure-sensitive adhesive and a radiation-polymerizable compound, the pressure-sensitive adhesive sheet characterized in that a compound that is colored by radiation irradiation is added to the base material.
(6)放射線照射により着色する化合物がロイコ染料で
ある特許請求の範囲第5項に記載の粘着シート。
(6) The adhesive sheet according to claim 5, wherein the compound that is colored by radiation irradiation is a leuco dye.
(7)ロイコ染料が4,4’,4”−トリスジメチルア
ミノトリフェニルメタンである特許請求の範囲第5項に
記載の粘着シート。
(7) The adhesive sheet according to claim 5, wherein the leuco dye is 4,4',4''-trisdimethylaminotriphenylmethane.
(8)放射線重合性化合物がウレタンアクリレート系オ
リゴマーである特許請求の範囲第5項に記載の粘着シー
ト。
(8) The adhesive sheet according to claim 5, wherein the radiation polymerizable compound is a urethane acrylate oligomer.
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