JPS62152619A - 放電加工方法 - Google Patents

放電加工方法

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JPS62152619A
JPS62152619A JP26268785A JP26268785A JPS62152619A JP S62152619 A JPS62152619 A JP S62152619A JP 26268785 A JP26268785 A JP 26268785A JP 26268785 A JP26268785 A JP 26268785A JP S62152619 A JPS62152619 A JP S62152619A
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JP
Japan
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machining
electrode
workpiece
motion
discharge machining
Prior art date
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JP26268785A
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English (en)
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JPH0547334B2 (ja
Inventor
Toshihiko Furukawa
利彦 古川
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SODEITSUKU KK
Sodick Co Ltd
Original Assignee
SODEITSUKU KK
Sodick Co Ltd
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Publication date
Application filed by SODEITSUKU KK, Sodick Co Ltd filed Critical SODEITSUKU KK
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は放電加工方法に関し、更に詳細に述べると放電
加工能率を著しく改善することができるようにした放電
加工間隙に関する。
〔従来の技術〕
一般に、放電加工能率を改善するためには、被加工物と
加工用電極との間の放電加工間隙において発生するチッ
プを良好に排除し、放電加工間隙における有効放電率を
上げればよいことが周知である。上述の目的に適った放
電加工方法の1つとして、被加工物又は加工用電極に所
要の並進運動を与え、これによシ放電加工間隙を加工形
状に泪って順次移動させ、チップの排除に役立たせるよ
うにした放電加工方法が知られている。また、このほか
の方法として放電加工間隙に噴流を与えチ、プを強制的
に排除する方法或いは加工用電極だジャンプ動作を与え
、これによるポンプ効果でチップを排除する方法等が知
られている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
加工用電極と被加工物との間に並進運動を与える方法に
よると加工を中断することなくテッグの排除を期待する
ことができるが、このような並進運動は通常比較的ゆっ
くシした速度で行なわれるので、加工形状にもよるが、
チップの排除能力は小さいものである。一方、噴流によ
るチップの排除は特別な装置を必要とする上に、加工用
ii1 % fて溝、孔などを形成する必要が生じ、コ
ストが高くなる傾向を有している。加工用電極をノヤン
ノさせる方法は、チップの排除能力は大きいが、ジャン
グ中加工が中断してしまうという不具合いを有している
本発明の目的は、したがって、放電加工を中断させるこ
となしに、加工チップの排除を有効に行なうことができ
、放電加工能率を著しく向上させることができる放電加
工方法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的を達成するための本発明の内容は、被加工物を
所望の形状に放電加工するため被加工物と加工用電極と
の間にその所望の形状を得るのに必要な相対運動を与え
ると共に、上記加工用電極と上記被加工物との間に所定
の振幅の相対並進運動を与えるようにした放電加工方法
において、所定の運動パターンを有し上記振幅よシは小
さい振幅の補助運動を上記並進運動に重畳させて行なわ
せるようにした点に特徴を有する。
〔作 用〕
相対並進運動に補助運動が重畳されると、加工用電極と
被加工物との間の放電加工間隙長が放電加工中に変化し
、これによシチップの排除か有効に行なわれる。
〔実施例〕
次に具体的な加工例について本発明の詳細な説明する。
第1図には、線型の加工用電極1を用いて被加工物2に
穴あけ加工を行なう場合の様子が示されている。加工用
電極1は図示しない加工ヘッドに固着され、一方、被加
工物2は図示しない加工テーブルに取シ付けられている
。加工用電極1は加工ヘッドによって2軸方向に移動す
ることができ、−万、被加工物2は加工テーブルによっ
てX−Y平面内において移動することができる。図示の
例は、加工用電極lによって被加工物2に加工穴3を形
成した後、本発明の方法によシ所謂寄せ加工を行なう場
合の加工例である。第1図において0点は加工用電極へ
の中心でsb、この中心点Oが矢印a、b、c、dによ
り示される軌跡に従って移動するように、被加工物2が
加工用電極1に対して相対的【並進運動せしめられる。
この結果、加工用電極1による寄せ加工が実行される。
これと同時に、加工用電極1が、そのx−y平面内にお
ける被加工物2との相対運動方向と直角の平面内で補助
運動を行なう。この補助運動は、第2図に示されるよう
に、被加工物2と加工用電極1との間で相対的に行なわ
れる並進運動a、b。
C及びdの方向に直角な平面内において加工用電極1が
所定の半径rで円を描く運動となっている。
この円運動の半径rは、加工用電極1が上述の並進運動
によりその加工孔3の内面に最も近づいたときの両者間
の距離J(第1図参照)よりも小さい所定の値に定めら
れる。したがって、並進運動に補助運動が重畳されても
、加工用電極1が被加工物2と接触することはない。補
助連動の重畳による放t/lO工間隙長の変化が間隙の
放電状iK及ぼす影響をなるべく小さく抑えるため、r
の値は距離lの釣手勺程度に抑えるのが好ましい。
また、上述の如く、加工用電極1と被加工物2との間の
相対並進運動に上述の補助運動を重畳させると、その結
果得られる両者間の相対運動は第2図に符号RMで示さ
れるように螺旋状の運動となる。この螺旋のピッチは補
助運動である円運動の周期と並進運動の速度とによシ定
まるものであシ、加工間隙の状態に基づいて適宜に定め
ることができる。この場合1円運動は連続して行なって
もよいし、所定の時間間隔で間欠的に行なってもよい。
第3図には、円運動を間欠的に行なった場合の運動軌跡
の一例が示されている。
このように、加工用電極1と被加工物2との間において
相対的に行なわれる並進運動に円運動その他の任意の運
動・母ターンの補助連動を重畳させると、加工用電極1
と被加工物2との間に形成される放電加工間隙長が比較
的短かい時間間隔で変動し、これにより放電加工間隙間
に残留しているチップを良好に排除することができる。
この結果、放電加工間隙【おける短絡事故の発生が激減
し、放電加工能率が著しく改善される。
上述の加工例においては、補助運動として円運動を行な
う場合について説明したが、補助運動の運動・母ターン
はこれに限定されるものではなく、例えば第4図(、)
乃至第4図(c)に例示されるように、+9口、X及び
その他の任意の・fターンとすることができる。さらに
、本発明の方法に用いられるこの補助運動は、相対並進
運動の方向と直角の平面内で実行されることに限定され
るものではなく。
相対並進運動の方向に対する任意の1つ又は複数の平面
内、例えば相対並進運動の方向を含む平面内で行なう場
合も本発明の方法の範囲内に含まれるものである。
〔効 果〕
本発明の方法によれば、上述の如く、被加工物と加工用
電極との間に相対的な並進運動を与えて寄せ加工の如き
放電加工を行なう際に、これ(で重畳される補助運動に
よシ加工間隙内の加エチッグが良好に排除きれ、放電加
工能率を著しく向上させることができ、良好な加工を行
なうことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明てよる放電加工を行なう際の並進運動の
運動軌跡の一例を説明するための加工用電極と被加工物
との横断面図、第2図は第1図に示す並進運動に補助運
動を重畳させた場合の合成運動軌跡を示す線図、第3図
は他の合成運動軌跡の例を示す線図、第4図(a)乃至
第4図(c)は補助運動のその他の運動・母ターンの例
を示す図である。 出願人   株式会社 ソ デ ィ ッ り代理人  
 弁理士  高 野 昌 俊第1図 第2図 (a)   (b)   (c) +口×

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、被加工物を所望の形状に放電加工するため前記被加
    工物と加工用電極との間に前記所望の形状を得るのに必
    要な相対運動を与えると共に、前記加工用電極と前記被
    加工物との間に所定の振幅の相対並進運動を与えるよう
    にした放電加工方法において、所定の運動パターンを有
    し前記振幅よりは小さい振幅の補助運動を前記並進運動
    に重畳させて行なわせるようにしたことを特徴とする放
    電加工方法。
JP26268785A 1985-11-25 1985-11-25 放電加工方法 Granted JPS62152619A (ja)

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JP26268785A JPS62152619A (ja) 1985-11-25 1985-11-25 放電加工方法

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JPS62152619A true JPS62152619A (ja) 1987-07-07
JPH0547334B2 JPH0547334B2 (ja) 1993-07-16

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6478728A (en) * 1987-09-21 1989-03-24 Hitachi Seiko Kk Electric discharge machine
US5214002A (en) * 1989-10-25 1993-05-25 Agency Of Industrial Science And Technology Process for depositing a thermal CVD film of Si or Ge using a hydrogen post-treatment step and an optional hydrogen pre-treatment step
JP2006142479A (ja) * 2006-01-23 2006-06-08 Makino Milling Mach Co Ltd 放電加工機及び放電加工機のジャンプ制御方法

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