JPS6215246B2 - - Google Patents
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- JPS6215246B2 JPS6215246B2 JP53027764A JP2776478A JPS6215246B2 JP S6215246 B2 JPS6215246 B2 JP S6215246B2 JP 53027764 A JP53027764 A JP 53027764A JP 2776478 A JP2776478 A JP 2776478A JP S6215246 B2 JPS6215246 B2 JP S6215246B2
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Description
本発明は排ガス洗浄装置内における飽和湿度の
排ガス温度が75℃以上になる排ガス中に含まれる
HClおよびCl2等の酸性ガスを除去し、かつ系外
への排水量を排ガス（湿りガス）１m3Ｎ／Ｈ当り
0.5／Ｈ以下にする排ガス処理方法に関する。 従来の排ガス洗浄装置内における飽和湿度の排
ガス温度が75℃以上になる排ガス中に含まれる
HClおよびCl2等の酸性ガスを除去し、かつ系外
への排水量を排ガス（湿りガス）１m3Ｎ／Ｈ当り
0.5／Ｈ以下にする排ガス処理方法に関して
は、第１図に示す様に充填物を用いた吸収塔ある
いは高圧損により液滴を微細化して吸収させるペ
ンチユリータイプの吸収塔が用いられる。第１図
において、１は排ガス導入口、２はラシリング等
の充填物を有する吸収塔充填部、３は吸収タン
ク、４は吸収塔循環液循環ポンプ、５，６，７は
薬液供給口であり、５は循環ポンプ吐出側にあ
り、６は循環ポンプ吸入側にあり、７は吸収塔タ
ンク内にある。８は循環液抜取り口であり、一般
に循環ポンプ吐出側にある。９は排ガス排出口、
１０は工水供給口である。 次に第１図のフローについて説明する。排ガス
は吸収塔に排ガス導入口１より入り、吸収塔充填
部２を通り排ガス排出口９より出ていく。薬液は
５，６あるいは７に設けられた薬液供給口より吸
収塔に供給する。また工水は工水供給口１０より
供給する。吸収塔タンクにたまつた循環液は吸収
塔循環液ポンプ４により吸収塔充填部２の上部に
引き上げ、吸収塔充填部２の上部よりスプレー
し、吸収塔充填部２においてガスと液を接触し排
ガス中の有害ガスを薬液に吸収させる。 たとえば、塩酸回収装置については、圧延鋼板
の表面付着スケールを除去する装置よりの廃液中
には塩化第１鉄、第２鉄が含まれていて、本廃液
を流動床式反応炉、あるいはその他の方法によつ
て高温分解して酸化鉄を回収するが、一方同時に
発生するHClは水洗浄によつてHCl水として回収
する。この場合回収塩酸及び回収装置の経済性よ
り一般にコンパクトな回収装置で濃度の高い塩酸
を回収するので、回収装置出口HClガス濃度は数
百ppmから千数百ppmとなつている。この排ガ
ス中にはHCl及びCl2の有害ガスおよびばいじん
が多量に含まれているのでそのまま大気放出する
ことはできず、何等かの排ガス処理対策の必要に
迫られている。 そこで酸洗ラインからくる廃酸中の酸化鉄と塩
酸を回収する工程より発生するHCl及びCl2等の
有害ガスを多量に含む排ガスを処理する装置の開
発を種々試みたところ、石灰スラリー、カセイソ
ーダー溶液あるいはアンモニア溶液等のアルカリ
金属あるいはアルカリ土類金属を吸収剤とした吸
収液にて排ガスを洗浄する方法が効果があること
が判明した。しかしこの場合、問題となるのは、
排ガスは塩酸回収工程において、塩酸水として回
収するため水洗浄を行なつているので、水分が飽
和であり、かつ温度が75℃以上である。よつて排
ガス洗浄装置においても温度は低下せず75℃以上
であり、かつ大気に放出するHClガス濃度は、法
律及び条例の規制により数ppm以下にすること
が要求される。また排水量は排水中のCOD、SS
等法律上の規制より少なくしなければならない。
よつて薬液をOne―Passで捨てて、排水量を多く
できない。たとえば、通常の充填物中の液ガス比
である2.0〜4.0／m3Ｎであると、排ガス１m3
Ｎ／Ｈ当りOne―Pass方式であると、排水量は
2.0〜4.0／Ｈと多い。そこで従来の薬液を循環
して再利用する方法がとられている。一般に、排
ガス中の水分８〜30％、温度180〜150℃程度の排
ガスである石灰焚ボイラー排ガスあるいはゴミ焼
却炉排ガスの場合、洗浄装置内においては、75℃
以下の飽和湿度の排ガスとなりその排ガス中の
SO2，HCl，HF，Cl2を処理する場合、吸収容量
係数（吸収能力）は800〜900Kg―mol／m3・hr・
atmとれ、装置はコンパクトである。しかしなが
らガス温度が極端に高いかあるいは湿度が高い排
ガスは、洗浄装置内においてガス温度が高くな
る。装置内温度が高いところで低濃度の排ガス中
の有害ガスを吸収する場合、液側の抵抗が大き
く、吸収容量係数（吸収能力）は小さくなり、装
置は大きくなる。たとえば、装置内温度84℃で、
出口塩酸ガス濃度5ppmの場合は、吸収容量係数
（吸収能力）は100〜200Kg―mol／m3・hr・atmし
かとれず、従つて装置規模も通常の５〜６倍も必
要となつた。また排ガス洗浄装置での排ガス温度
を低下させるため熱交換器を用いて、循環液温度
を75℃以下にして吸収試験を行なつたところ、熱
交換器等の付属設備が膨大になり、かつユーテイ
リテイーも莫大となり、全く実用性はなかつた。 本発明は上記の点に鑑みて、排ガス洗浄装置内
における飽和湿度の排ガス温度が75℃以上の温度
のままで、かつ排水量を少なくした、排ガス処理
方法、において効率よく吸収できる様に種々考案
された方法である。すなわち実験で温度が高くか
つHCl及びCl2等の濃度が低くなれば、吸収液の
活性度が低い状態では、吸収効率は悪くなるが、
吸収液の活性度を高くしておけば吸収効率は悪く
ならない事が判明した。またさらに低濃度のHCl
及びCl2に対しては、補給用の新しい薬液しか利
用できなくなり、かつ少ない液量でも効率よく吸
収することが判明した。吸収液の活性度について
は、実施例１の(1)式に述べてあるNa利用率ある
いは吸収液中のSS濃度あるいはPH等も関係して
いる。 そこで排ガス洗浄装置内に吸収部を３ブロツク
以上設置して最上段吸収部上部より補給用の新し
い薬液をスプレーさせると共に、そのスプレーさ
れた薬液を、下段吸収部内を循環している循環液
と混合して循環させ、さらにその抜取り液を再下
段吸収部内を循環している循環液と混合して循環
する方法により、排ガス中のHCl及びCl2等の酸
性ガスの濃度の高いガスを、最下段の活性度の低
い循環液で吸収させた後、上段においてHCl及び
Cl2等の濃度の低くなつたガスを活性度の高い循
環液で吸収させる事およびHCl及びCl2等の濃度
のさらに低くなつたガスに対して補給用の新しく
最も活性度の高い薬液を少量最上段吸収部よりス
プレーさせる事により、少ない吸収部容積により
HCl及びCl2を効率よく吸収することを考案し
た。 本発明は排ガス洗浄装置内における飽和湿度の
排ガス温度が75℃以上になる排ガス中に含まれる
HCl及びCl2等の酸性ガスを除去し、かつ系外へ
の排水量を排ガス１m3Ｎ／Ｈ（湿りガス）当り、
0.5／Ｈ以下にする排ガス処理方法において、
下部に排ガス入口、上部に処理済ガス出口を有す
る竪型排ガス洗浄装置内に吸収部を３ブロツク以
上設け、最上段吸収部上部より補給用の薬液を液
ガス比1.0／Ｎm3以下でスプレーさせると共に
そのスプレーされた薬液をその下の段の吸収部内
を循環している薬液と混合して該吸収部上部より
スプレーすることにより該吸収部内に薬液を循環
させ、その循環薬液を活性度が余り低下しないう
ちに抜取り、その抜取り液を更に下の段の吸収部
内を循環している薬液と混合して該吸収部上部よ
りスプレーすることにより該吸収部内に薬液を循
環させるという操作を最下段吸収部まで行い上記
排ガス中のHCl及びCl2等の酸性ガスを除去する
ことを特徴とした排ガス処理方法を提供する。 次に本発明を一実施の態様として吸収部に充填
物を詰めた場合を第２図にしたがつて説明する。
１は排ガス導入口、２はラシリング等の充填物が
吸収塔につまつている吸収塔下段充填部、３は吸
収塔下段タンク、４は吸収塔下段循環ポンプ、８
は吸収塔下段循環液抜取りラインであり、９は排
ガス排出口、１１は吸収塔最上段充填部薬液供給
口、１２は吸収塔下段充填部と同じラシリング等
の充填物が詰まつている吸収塔最上段充填部、１
３はラシリング等の充填物が吸収塔につまつてい
る吸収塔上段充填部、１４は吸収塔上段タンク、
１５は吸収塔上段循環ポンプ、１６は吸収塔上段
充填部１３の上部に設置されている吸収塔上段充
填部薬液供給口、１７は吸収塔上段循環ポンプ１
５の吐出側に連結している吸収塔上段循環液抜取
りラインおよび１８は吸収塔下段充填部２の上部
に設置されている吸収塔下段充填部薬液供給口で
ある。 ここで本発明の作用を第２図にそつて述べる。
排ガス導入口１よりHCl及びCl2を含んだ排ガス
を吸収塔に導入する。薬液は、吸収塔最上段充填
部薬液供給口１１より吸収塔に供給する。供給さ
れた薬液は、吸収塔最上段充填部１２においてス
プレーされ下部からはいつてくる排ガスと接触し
て排ガス中の有害ガスを吸収する。さらに吸収塔
最上段充填部１２を通過した薬液は吸収塔上段充
填部１３にはいりそこで下部からはいつてくる排
ガスと接触して排ガス中の有害ガスを吸収して吸
収塔上段タンク１４に溜められる。吸収塔上段タ
ンク１４に溜められた薬液は、吸収塔上段循環ポ
ンプ１５によつて吸収塔上部充填部１３の上部に
設置されている、吸収塔上段充填部薬液供給口１
６よりスプレーされる。スプレーされた薬液は、
吸収塔上部充填部において下部からはいつてくる
排ガスと接触して排ガス中の有害ガスを吸収す
る。また吸収塔上段循環ポンプ１５の吐出側にあ
る吸収塔上段循環液抜取ライン１７より吸収塔上
段タンク１４に溜められた薬液の１部は吸収塔上
段循環ポンプ１５によつて、吸収塔下段タンク３
に供給される。吸収塔下段タンク３に溜められた
薬液は、吸収塔下段循環ポンプ４により吸収塔下
段充填部２の上部に設置されている吸収塔下段充
填部薬液供給口１８よりスプレーされる。スプレ
ーされた薬液は、吸収塔下段充填部２において、
排ガス導入口１より吸収塔に導入された排ガスと
接触して排ガス中のHCl及びCl2を吸収する。吸
収塔下段充填部２を通過した薬液は吸収塔下段タ
ンク３に溜められる。また吸収塔下段循環ポンプ
４の吐出側にある吸収塔下段循環液抜取りライン
８より、吸収塔下段タンク３に溜められた薬液の
１部は吸収塔系外に搬出される。 本発明は、上記のような構成をとつて吸収液の
活性度を高くする事により、次の様な効果が奏せ
られる。 １ 排ガス洗浄装置内における飽和湿度の排ガス
温度が75℃以上になる排ガスに含まれるHCl及
びCl2を効率よく吸収する。 ２ HCl及びCl2の濃度が低いところで、吸収液
の活性度が高くなるので効率よく吸収できる。 ３ 非常に少ない液流量、液ガス比1.0／m3Ｎ
以下で効率よく吸収が行なわれる。 ４ 排水量は排ガス１m3Ｎ／Ｈ（湿りガス）当り
0.5／Ｈ以下にすることができる。 ５ 充填部高さは、従来と比較すると少なくなり
装置はコンパクトになる。 次に上記の排ガス処理方法に沿つて行なつた
HCl及びCl2を含み、吸収部に、充填物を詰めた
場合に従つてその効果を説明する。排ガス導入口
より排ガスを吸収塔に導入した。その排ガス組成
及びガス流量を表―１に示す。 比較例 従来方法（第１図）により表―１の排ガスを処
理した。 本装置の仕様は次の通りである。 装置仕様 塔 径 ２ｍφ 充填部高さ ８ｍ（２ｍを４段） 循環液流量 60m3／Ｈ 吸収塔タンク容量 ５m3 薬液はカセイソーダ20重量％を使用し、循環ポ
ンプ吐出側に供給した。また工水は５m3／Ｈで吸
収塔タンクに供給した。排水量は５m3／Ｈとなつ
た。装置出口排ガスの組成を表―１に示す。本装
置における塩酸ガスの吸収率は約82.4％であつ
た。本吸収塔タンク内の吸収液の活性度につい
て、たとえば吸収液中のNa利用率を表―２の分
析結果より(1)式より計算すると、53％であつた。 Na利用率＝〔ＮａＣｌ〕＊＋〔ＮａＣｌＯ〕／〔ＮａＣｌ〕＋〔ＮａＣｌＯ〕＋２〔Ｎａ２ＣＯ３〕＋〔ＮａＨＣ
Ｏ３〕×100(1) ＊〔 〕は濃度（mol／）を示す 吸収液の活性度としてその他、吸収液中のSS
濃度（高くなれば、活性度が低下している）ある
いは、PH（低くなれば活性度が低下している）も
関係している。 実施例 本発明の方法（第２図）により、比較例と同様
の排ガスを次の様に処理した。 本装置の仕様は次の通りである。 塔 径： ２ｍφ 充填部高さ：吸収塔上段充填部高さ ２ｍ 吸収塔下段充填部高さ ２ｍ 吸収塔最上段充填部高さ ２ｍ 循環液流量：吸収塔上段循環液流量 60m3／Ｈ 吸収塔下段循環液流量 60m3／Ｈ 吸収塔タンク容量：吸収塔上段タンク容量５m3 吸収塔下段タンク容量 ５m3 薬液は比較例と同様のカセイソーダを用いて、
吸収塔最上段充填部上部より、補給用の工水とい
つしよにスプレーした。その時の液流量は３m3／
Ｈ（液ガス比0.25／m3Ｎ）及び５m3／Ｈ（液ガ
ス比0.43／m3Ｎ）とし、排水量はおのおの３
m3／Ｈ及び５m3／Ｈとなつた。装置出口排ガス組
成を表―１に示す。本装置における塩酸ガスの吸
収率は液流量３m3／Ｈ時約99.4％、液流量５m3／
Ｈ時約99.6％であつた。本吸収液の活性度につい
て吸収液中のNa利用率を表―２の分析結果より
(1)式により計算すると吸収塔下段循環液58％、吸
収塔上段循環液5.5％、最上段充填部の下部にお
ける薬液1.4％であつた。すなわち、吸収塔内を
上、下２段に分割することにより、吸収剤カセイ
ソーダ供給量を比較例と同様に（吸収塔下部循環
液抜取りラインよりの吸収液中のNa利用率は58
％となつた。）少なくしても、上段循環液のNa利
用率が5.5％となり、活性度が高い状態を保て
る。活性度についてはその他吸収液中のSS濃度
についてSS濃度が高くなると活性度が悪くな
る、あるいはPHが低くなると活性度が悪くなる等
が関係している。 排ガス導入口より吸収塔に供給される排ガスの
湿度が高い場合、蒸発水補給用工水は多くとれな
い。また、公害防止プラントでは、各種の規制よ
り一般に系外への排水量を多くとれなくかつ蒸発
水補給用工水以上の補給用工水は直接排水となる
ので、制限されて通常１m3Ｎ／Ｈガスに対して
0.5／Ｈ以下にしなければならない。よつて吸
収塔最上段に吸収塔循環液が循環している充填部
以外に充填部を設置しても、排ガスと接触して
One―Passで流れる液量は多くとれなく、従つて
有害ガスの吸収も極端に悪いと考えられていた。
通常本発明が適用される飽和湿度の排ガス温度が
75℃以上となる排ガスについても、排ガス温度が
極めて高いか、あるいは温度が極めて高い様な場
合においても排水量との関係で補給用薬液は液ガ
ス比で1.0／m3Ｎ／以上とならない。本実施例
の液ガス比0.25及び0.43／m3Ｎは、一般的なガ
ス洗浄装置の循環液流量より極端に少なく（通常
液ガス比で2.0〜4.0／m3Ｎである。）本来なら
ほとんどその吸収効果はないものが、効率よく
HCl及びCl2を吸収している。これは、補給用薬
液を吸収塔最上段充填部上部より、スプレーする
ことにより、最上段充填部で排ガスと接触する薬
液のNa利用率は極端に低く、1.4％であつたこと
が原因である。すなわち、薬液の活性度が高くな
り、排ガス中のHCl及びCl2の濃度が5ppm以下と
低く、かつ吸収液温度が84℃と高いにもかかわら
ず効率よく吸収したと考えられる。
排ガス温度が75℃以上になる排ガス中に含まれる
HClおよびCl2等の酸性ガスを除去し、かつ系外
への排水量を排ガス（湿りガス）１m3Ｎ／Ｈ当り
0.5／Ｈ以下にする排ガス処理方法に関する。 従来の排ガス洗浄装置内における飽和湿度の排
ガス温度が75℃以上になる排ガス中に含まれる
HClおよびCl2等の酸性ガスを除去し、かつ系外
への排水量を排ガス（湿りガス）１m3Ｎ／Ｈ当り
0.5／Ｈ以下にする排ガス処理方法に関して
は、第１図に示す様に充填物を用いた吸収塔ある
いは高圧損により液滴を微細化して吸収させるペ
ンチユリータイプの吸収塔が用いられる。第１図
において、１は排ガス導入口、２はラシリング等
の充填物を有する吸収塔充填部、３は吸収タン
ク、４は吸収塔循環液循環ポンプ、５，６，７は
薬液供給口であり、５は循環ポンプ吐出側にあ
り、６は循環ポンプ吸入側にあり、７は吸収塔タ
ンク内にある。８は循環液抜取り口であり、一般
に循環ポンプ吐出側にある。９は排ガス排出口、
１０は工水供給口である。 次に第１図のフローについて説明する。排ガス
は吸収塔に排ガス導入口１より入り、吸収塔充填
部２を通り排ガス排出口９より出ていく。薬液は
５，６あるいは７に設けられた薬液供給口より吸
収塔に供給する。また工水は工水供給口１０より
供給する。吸収塔タンクにたまつた循環液は吸収
塔循環液ポンプ４により吸収塔充填部２の上部に
引き上げ、吸収塔充填部２の上部よりスプレー
し、吸収塔充填部２においてガスと液を接触し排
ガス中の有害ガスを薬液に吸収させる。 たとえば、塩酸回収装置については、圧延鋼板
の表面付着スケールを除去する装置よりの廃液中
には塩化第１鉄、第２鉄が含まれていて、本廃液
を流動床式反応炉、あるいはその他の方法によつ
て高温分解して酸化鉄を回収するが、一方同時に
発生するHClは水洗浄によつてHCl水として回収
する。この場合回収塩酸及び回収装置の経済性よ
り一般にコンパクトな回収装置で濃度の高い塩酸
を回収するので、回収装置出口HClガス濃度は数
百ppmから千数百ppmとなつている。この排ガ
ス中にはHCl及びCl2の有害ガスおよびばいじん
が多量に含まれているのでそのまま大気放出する
ことはできず、何等かの排ガス処理対策の必要に
迫られている。 そこで酸洗ラインからくる廃酸中の酸化鉄と塩
酸を回収する工程より発生するHCl及びCl2等の
有害ガスを多量に含む排ガスを処理する装置の開
発を種々試みたところ、石灰スラリー、カセイソ
ーダー溶液あるいはアンモニア溶液等のアルカリ
金属あるいはアルカリ土類金属を吸収剤とした吸
収液にて排ガスを洗浄する方法が効果があること
が判明した。しかしこの場合、問題となるのは、
排ガスは塩酸回収工程において、塩酸水として回
収するため水洗浄を行なつているので、水分が飽
和であり、かつ温度が75℃以上である。よつて排
ガス洗浄装置においても温度は低下せず75℃以上
であり、かつ大気に放出するHClガス濃度は、法
律及び条例の規制により数ppm以下にすること
が要求される。また排水量は排水中のCOD、SS
等法律上の規制より少なくしなければならない。
よつて薬液をOne―Passで捨てて、排水量を多く
できない。たとえば、通常の充填物中の液ガス比
である2.0〜4.0／m3Ｎであると、排ガス１m3
Ｎ／Ｈ当りOne―Pass方式であると、排水量は
2.0〜4.0／Ｈと多い。そこで従来の薬液を循環
して再利用する方法がとられている。一般に、排
ガス中の水分８〜30％、温度180〜150℃程度の排
ガスである石灰焚ボイラー排ガスあるいはゴミ焼
却炉排ガスの場合、洗浄装置内においては、75℃
以下の飽和湿度の排ガスとなりその排ガス中の
SO2，HCl，HF，Cl2を処理する場合、吸収容量
係数（吸収能力）は800〜900Kg―mol／m3・hr・
atmとれ、装置はコンパクトである。しかしなが
らガス温度が極端に高いかあるいは湿度が高い排
ガスは、洗浄装置内においてガス温度が高くな
る。装置内温度が高いところで低濃度の排ガス中
の有害ガスを吸収する場合、液側の抵抗が大き
く、吸収容量係数（吸収能力）は小さくなり、装
置は大きくなる。たとえば、装置内温度84℃で、
出口塩酸ガス濃度5ppmの場合は、吸収容量係数
（吸収能力）は100〜200Kg―mol／m3・hr・atmし
かとれず、従つて装置規模も通常の５〜６倍も必
要となつた。また排ガス洗浄装置での排ガス温度
を低下させるため熱交換器を用いて、循環液温度
を75℃以下にして吸収試験を行なつたところ、熱
交換器等の付属設備が膨大になり、かつユーテイ
リテイーも莫大となり、全く実用性はなかつた。 本発明は上記の点に鑑みて、排ガス洗浄装置内
における飽和湿度の排ガス温度が75℃以上の温度
のままで、かつ排水量を少なくした、排ガス処理
方法、において効率よく吸収できる様に種々考案
された方法である。すなわち実験で温度が高くか
つHCl及びCl2等の濃度が低くなれば、吸収液の
活性度が低い状態では、吸収効率は悪くなるが、
吸収液の活性度を高くしておけば吸収効率は悪く
ならない事が判明した。またさらに低濃度のHCl
及びCl2に対しては、補給用の新しい薬液しか利
用できなくなり、かつ少ない液量でも効率よく吸
収することが判明した。吸収液の活性度について
は、実施例１の(1)式に述べてあるNa利用率ある
いは吸収液中のSS濃度あるいはPH等も関係して
いる。 そこで排ガス洗浄装置内に吸収部を３ブロツク
以上設置して最上段吸収部上部より補給用の新し
い薬液をスプレーさせると共に、そのスプレーさ
れた薬液を、下段吸収部内を循環している循環液
と混合して循環させ、さらにその抜取り液を再下
段吸収部内を循環している循環液と混合して循環
する方法により、排ガス中のHCl及びCl2等の酸
性ガスの濃度の高いガスを、最下段の活性度の低
い循環液で吸収させた後、上段においてHCl及び
Cl2等の濃度の低くなつたガスを活性度の高い循
環液で吸収させる事およびHCl及びCl2等の濃度
のさらに低くなつたガスに対して補給用の新しく
最も活性度の高い薬液を少量最上段吸収部よりス
プレーさせる事により、少ない吸収部容積により
HCl及びCl2を効率よく吸収することを考案し
た。 本発明は排ガス洗浄装置内における飽和湿度の
排ガス温度が75℃以上になる排ガス中に含まれる
HCl及びCl2等の酸性ガスを除去し、かつ系外へ
の排水量を排ガス１m3Ｎ／Ｈ（湿りガス）当り、
0.5／Ｈ以下にする排ガス処理方法において、
下部に排ガス入口、上部に処理済ガス出口を有す
る竪型排ガス洗浄装置内に吸収部を３ブロツク以
上設け、最上段吸収部上部より補給用の薬液を液
ガス比1.0／Ｎm3以下でスプレーさせると共に
そのスプレーされた薬液をその下の段の吸収部内
を循環している薬液と混合して該吸収部上部より
スプレーすることにより該吸収部内に薬液を循環
させ、その循環薬液を活性度が余り低下しないう
ちに抜取り、その抜取り液を更に下の段の吸収部
内を循環している薬液と混合して該吸収部上部よ
りスプレーすることにより該吸収部内に薬液を循
環させるという操作を最下段吸収部まで行い上記
排ガス中のHCl及びCl2等の酸性ガスを除去する
ことを特徴とした排ガス処理方法を提供する。 次に本発明を一実施の態様として吸収部に充填
物を詰めた場合を第２図にしたがつて説明する。
１は排ガス導入口、２はラシリング等の充填物が
吸収塔につまつている吸収塔下段充填部、３は吸
収塔下段タンク、４は吸収塔下段循環ポンプ、８
は吸収塔下段循環液抜取りラインであり、９は排
ガス排出口、１１は吸収塔最上段充填部薬液供給
口、１２は吸収塔下段充填部と同じラシリング等
の充填物が詰まつている吸収塔最上段充填部、１
３はラシリング等の充填物が吸収塔につまつてい
る吸収塔上段充填部、１４は吸収塔上段タンク、
１５は吸収塔上段循環ポンプ、１６は吸収塔上段
充填部１３の上部に設置されている吸収塔上段充
填部薬液供給口、１７は吸収塔上段循環ポンプ１
５の吐出側に連結している吸収塔上段循環液抜取
りラインおよび１８は吸収塔下段充填部２の上部
に設置されている吸収塔下段充填部薬液供給口で
ある。 ここで本発明の作用を第２図にそつて述べる。
排ガス導入口１よりHCl及びCl2を含んだ排ガス
を吸収塔に導入する。薬液は、吸収塔最上段充填
部薬液供給口１１より吸収塔に供給する。供給さ
れた薬液は、吸収塔最上段充填部１２においてス
プレーされ下部からはいつてくる排ガスと接触し
て排ガス中の有害ガスを吸収する。さらに吸収塔
最上段充填部１２を通過した薬液は吸収塔上段充
填部１３にはいりそこで下部からはいつてくる排
ガスと接触して排ガス中の有害ガスを吸収して吸
収塔上段タンク１４に溜められる。吸収塔上段タ
ンク１４に溜められた薬液は、吸収塔上段循環ポ
ンプ１５によつて吸収塔上部充填部１３の上部に
設置されている、吸収塔上段充填部薬液供給口１
６よりスプレーされる。スプレーされた薬液は、
吸収塔上部充填部において下部からはいつてくる
排ガスと接触して排ガス中の有害ガスを吸収す
る。また吸収塔上段循環ポンプ１５の吐出側にあ
る吸収塔上段循環液抜取ライン１７より吸収塔上
段タンク１４に溜められた薬液の１部は吸収塔上
段循環ポンプ１５によつて、吸収塔下段タンク３
に供給される。吸収塔下段タンク３に溜められた
薬液は、吸収塔下段循環ポンプ４により吸収塔下
段充填部２の上部に設置されている吸収塔下段充
填部薬液供給口１８よりスプレーされる。スプレ
ーされた薬液は、吸収塔下段充填部２において、
排ガス導入口１より吸収塔に導入された排ガスと
接触して排ガス中のHCl及びCl2を吸収する。吸
収塔下段充填部２を通過した薬液は吸収塔下段タ
ンク３に溜められる。また吸収塔下段循環ポンプ
４の吐出側にある吸収塔下段循環液抜取りライン
８より、吸収塔下段タンク３に溜められた薬液の
１部は吸収塔系外に搬出される。 本発明は、上記のような構成をとつて吸収液の
活性度を高くする事により、次の様な効果が奏せ
られる。 １ 排ガス洗浄装置内における飽和湿度の排ガス
温度が75℃以上になる排ガスに含まれるHCl及
びCl2を効率よく吸収する。 ２ HCl及びCl2の濃度が低いところで、吸収液
の活性度が高くなるので効率よく吸収できる。 ３ 非常に少ない液流量、液ガス比1.0／m3Ｎ
以下で効率よく吸収が行なわれる。 ４ 排水量は排ガス１m3Ｎ／Ｈ（湿りガス）当り
0.5／Ｈ以下にすることができる。 ５ 充填部高さは、従来と比較すると少なくなり
装置はコンパクトになる。 次に上記の排ガス処理方法に沿つて行なつた
HCl及びCl2を含み、吸収部に、充填物を詰めた
場合に従つてその効果を説明する。排ガス導入口
より排ガスを吸収塔に導入した。その排ガス組成
及びガス流量を表―１に示す。 比較例 従来方法（第１図）により表―１の排ガスを処
理した。 本装置の仕様は次の通りである。 装置仕様 塔 径 ２ｍφ 充填部高さ ８ｍ（２ｍを４段） 循環液流量 60m3／Ｈ 吸収塔タンク容量 ５m3 薬液はカセイソーダ20重量％を使用し、循環ポ
ンプ吐出側に供給した。また工水は５m3／Ｈで吸
収塔タンクに供給した。排水量は５m3／Ｈとなつ
た。装置出口排ガスの組成を表―１に示す。本装
置における塩酸ガスの吸収率は約82.4％であつ
た。本吸収塔タンク内の吸収液の活性度につい
て、たとえば吸収液中のNa利用率を表―２の分
析結果より(1)式より計算すると、53％であつた。 Na利用率＝〔ＮａＣｌ〕＊＋〔ＮａＣｌＯ〕／〔ＮａＣｌ〕＋〔ＮａＣｌＯ〕＋２〔Ｎａ２ＣＯ３〕＋〔ＮａＨＣ
Ｏ３〕×100(1) ＊〔 〕は濃度（mol／）を示す 吸収液の活性度としてその他、吸収液中のSS
濃度（高くなれば、活性度が低下している）ある
いは、PH（低くなれば活性度が低下している）も
関係している。 実施例 本発明の方法（第２図）により、比較例と同様
の排ガスを次の様に処理した。 本装置の仕様は次の通りである。 塔 径： ２ｍφ 充填部高さ：吸収塔上段充填部高さ ２ｍ 吸収塔下段充填部高さ ２ｍ 吸収塔最上段充填部高さ ２ｍ 循環液流量：吸収塔上段循環液流量 60m3／Ｈ 吸収塔下段循環液流量 60m3／Ｈ 吸収塔タンク容量：吸収塔上段タンク容量５m3 吸収塔下段タンク容量 ５m3 薬液は比較例と同様のカセイソーダを用いて、
吸収塔最上段充填部上部より、補給用の工水とい
つしよにスプレーした。その時の液流量は３m3／
Ｈ（液ガス比0.25／m3Ｎ）及び５m3／Ｈ（液ガ
ス比0.43／m3Ｎ）とし、排水量はおのおの３
m3／Ｈ及び５m3／Ｈとなつた。装置出口排ガス組
成を表―１に示す。本装置における塩酸ガスの吸
収率は液流量３m3／Ｈ時約99.4％、液流量５m3／
Ｈ時約99.6％であつた。本吸収液の活性度につい
て吸収液中のNa利用率を表―２の分析結果より
(1)式により計算すると吸収塔下段循環液58％、吸
収塔上段循環液5.5％、最上段充填部の下部にお
ける薬液1.4％であつた。すなわち、吸収塔内を
上、下２段に分割することにより、吸収剤カセイ
ソーダ供給量を比較例と同様に（吸収塔下部循環
液抜取りラインよりの吸収液中のNa利用率は58
％となつた。）少なくしても、上段循環液のNa利
用率が5.5％となり、活性度が高い状態を保て
る。活性度についてはその他吸収液中のSS濃度
についてSS濃度が高くなると活性度が悪くな
る、あるいはPHが低くなると活性度が悪くなる等
が関係している。 排ガス導入口より吸収塔に供給される排ガスの
湿度が高い場合、蒸発水補給用工水は多くとれな
い。また、公害防止プラントでは、各種の規制よ
り一般に系外への排水量を多くとれなくかつ蒸発
水補給用工水以上の補給用工水は直接排水となる
ので、制限されて通常１m3Ｎ／Ｈガスに対して
0.5／Ｈ以下にしなければならない。よつて吸
収塔最上段に吸収塔循環液が循環している充填部
以外に充填部を設置しても、排ガスと接触して
One―Passで流れる液量は多くとれなく、従つて
有害ガスの吸収も極端に悪いと考えられていた。
通常本発明が適用される飽和湿度の排ガス温度が
75℃以上となる排ガスについても、排ガス温度が
極めて高いか、あるいは温度が極めて高い様な場
合においても排水量との関係で補給用薬液は液ガ
ス比で1.0／m3Ｎ／以上とならない。本実施例
の液ガス比0.25及び0.43／m3Ｎは、一般的なガ
ス洗浄装置の循環液流量より極端に少なく（通常
液ガス比で2.0〜4.0／m3Ｎである。）本来なら
ほとんどその吸収効果はないものが、効率よく
HCl及びCl2を吸収している。これは、補給用薬
液を吸収塔最上段充填部上部より、スプレーする
ことにより、最上段充填部で排ガスと接触する薬
液のNa利用率は極端に低く、1.4％であつたこと
が原因である。すなわち、薬液の活性度が高くな
り、排ガス中のHCl及びCl2の濃度が5ppm以下と
低く、かつ吸収液温度が84℃と高いにもかかわら
ず効率よく吸収したと考えられる。
【表】
【表】
以上の比較例と実施例の結果の比較より、排ガ
ス洗浄装置内における飽和温度が84℃になり、か
つ系外への排水量を排ガス（湿りガス）１m3Ｎ／
Ｈ当り0.5m3／Ｈ以下にする排ガス処理方法にお
いて、本発明の方法が従来の方法より吸収塔充填
部高さが少ないにもかかわらず、HCl及びCl2の
除去率が極めて高いことが判明した。吸収部に充
填物を詰めないで、スプレー塔としても、本発明
の効果は、従来方法と比較して優れていた。な
お、各例には有害ガスとしてHCl及びCl2を含む
排ガスについて述べたが、本排ガスにSO2及び
HFの酸性ガスを注入して、同様の排ガス条件、
装置、運転条件で、試験を行なつた（排ガス中の
SO2濃度1200ppm、HF50ppm）。その結果、従来
方法については、SO2吸収率70％、HF吸収率60
％に対して本発明方法はSO2吸収率95％、HF吸
収率85％と、本発明の方法がきわめて効果あるこ
とが判明した。
ス洗浄装置内における飽和温度が84℃になり、か
つ系外への排水量を排ガス（湿りガス）１m3Ｎ／
Ｈ当り0.5m3／Ｈ以下にする排ガス処理方法にお
いて、本発明の方法が従来の方法より吸収塔充填
部高さが少ないにもかかわらず、HCl及びCl2の
除去率が極めて高いことが判明した。吸収部に充
填物を詰めないで、スプレー塔としても、本発明
の効果は、従来方法と比較して優れていた。な
お、各例には有害ガスとしてHCl及びCl2を含む
排ガスについて述べたが、本排ガスにSO2及び
HFの酸性ガスを注入して、同様の排ガス条件、
装置、運転条件で、試験を行なつた（排ガス中の
SO2濃度1200ppm、HF50ppm）。その結果、従来
方法については、SO2吸収率70％、HF吸収率60
％に対して本発明方法はSO2吸収率95％、HF吸
収率85％と、本発明の方法がきわめて効果あるこ
とが判明した。
第１図は従来法によるフローシートであり、第
２図は本発明方法によるフローシートである。
２図は本発明方法によるフローシートである。
Claims (1)
- １ 排ガス洗浄装置内における飽和湿度の排ガス
温度が75℃以上になる排ガス中に含まれる酸性ガ
スを除去し、かつ系外への排水量を排ガス１m3
Ｎ／Ｈ（湿りガス）当り0.5／Ｈ以下にする排
ガス処理方法において、下部に排ガス入口、上部
に処理済ガス出口を有する竪型排ガス洗浄装置内
に吸収部を３ブロツク以上設け、最上段吸収部上
部より補給用の薬液を液ガス比1.0／Ｎm3以下
でスプレーさせると共にそのスプレーされた薬液
をその下の段の吸収部内を循環している薬液と混
合して該吸収部上部よりスプレーすることにより
該吸収部内に薬液を循環させ、その循環薬液を活
性度が余り低下しないうちに抜取り、その抜取り
液を更に下の段の吸収部内を循環している薬液と
混合して該吸収部上部よりスプレーすることによ
り該吸収部内に薬液を循環させるという操作を最
下段吸収部まで行い、上記排ガス中の酸性ガスを
除去することを特徴とする排ガス処理方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2776478A JPS54120280A (en) | 1978-03-13 | 1978-03-13 | Treating method for exhaust gas |
| PCT/JP1979/000064 WO1979000754A1 (en) | 1978-03-13 | 1979-03-13 | Process for treating waste gases |
| DE19792940977 DE2940977A1 (de) | 1978-03-13 | 1979-03-13 | Process for treating waste gases |
| BR7907267A BR7907267A (pt) | 1978-03-13 | 1979-03-13 | Processo para tratar emissoes por um lavador de emissoes e processo para tratar gases de exaustao |
| GB7937961A GB2035827B (en) | 1978-03-13 | 1979-03-13 | Process for treating waste gases |
| US06/417,164 US4487748A (en) | 1978-03-13 | 1979-03-13 | Process for treating exhaust gases |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2776478A JPS54120280A (en) | 1978-03-13 | 1978-03-13 | Treating method for exhaust gas |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54120280A JPS54120280A (en) | 1979-09-18 |
| JPS6215246B2 true JPS6215246B2 (ja) | 1987-04-07 |
Family
ID=12230060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2776478A Granted JPS54120280A (en) | 1978-03-13 | 1978-03-13 | Treating method for exhaust gas |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4487748A (ja) |
| JP (1) | JPS54120280A (ja) |
| GB (1) | GB2035827B (ja) |
| WO (1) | WO1979000754A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JPS4949288A (ja) * | 1972-09-18 | 1974-05-13 | ||
| JPS51107278A (ja) * | 1975-03-19 | 1976-09-22 | Nippon Zeon Co | Haigasuchunoenkasuiso oyobi ensoojokyosuruhoho |
| JPS51135174A (en) * | 1975-05-19 | 1976-11-24 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | Method of treating exhaust water produced in the treatment of exhaust gases |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2035827A (en) | 1980-06-25 |
| GB2035827B (en) | 1983-01-12 |
| US4487748A (en) | 1984-12-11 |
| JPS54120280A (en) | 1979-09-18 |
| WO1979000754A1 (en) | 1979-10-04 |
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