JPS62151783A - 高精度移動テ−ブル装置 - Google Patents
高精度移動テ−ブル装置Info
- Publication number
- JPS62151783A JPS62151783A JP60291985A JP29198585A JPS62151783A JP S62151783 A JPS62151783 A JP S62151783A JP 60291985 A JP60291985 A JP 60291985A JP 29198585 A JP29198585 A JP 29198585A JP S62151783 A JPS62151783 A JP S62151783A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- moving table
- precision
- laser mirror
- deformable portion
- deformation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えば電子ビーム描画装置やステッパ或い
は精密測定機等における被処理物載置用の高精度移動テ
ーブル（ステージ）装置に関する。
は精密測定機等における被処理物載置用の高精度移動テ
ーブル（ステージ）装置に関する。
従来、前述の電子ビーム描画装置やステッパ或いは精密
測定機等に用いられる高精度移動テーブル装置は、被処
理物を載置固定して、Ｘ−Ｙ−Ｚ・θ軸線方向（Ｘ−Ｙ
軸線方向のみのものもある）に移動して正確に位置決め
するものである。そのうちＸ−Ｙ軸線方向の移動・位置
決めを行う移動テーブル装置部の構成は、第５図及び第
６図に示す如く、最下段のベース１上にガイドウェイ２
を介してＸ軸線方向に直線的に往復移動自在なＸテ−プ
ル３が設けられ、更にこのＸテーブル３上にガイドウェ
イ４を介して該Ｘ軸線方向と直交するＹ軸線方向に往復
移動自在なＹテーブル５が設けられて、このＹテーブル
５の上面にホルダーの如き被処理物固定具６が設けられ
ている。そしてこの固定具６に被処理物（図示せず）を
載置セットした状態で、前記Ｘテーブル３及びＹテーブ
ル５が図示しない駆動手段により各々ガイドウェイ２゜
４に沿って定められた方向に移動することで、該固定具
６にセットした被処理物をＸ−Ｙ両軸線方向に移動でき
るようになっている。
測定機等に用いられる高精度移動テーブル装置は、被処
理物を載置固定して、Ｘ−Ｙ−Ｚ・θ軸線方向（Ｘ−Ｙ
軸線方向のみのものもある）に移動して正確に位置決め
するものである。そのうちＸ−Ｙ軸線方向の移動・位置
決めを行う移動テーブル装置部の構成は、第５図及び第
６図に示す如く、最下段のベース１上にガイドウェイ２
を介してＸ軸線方向に直線的に往復移動自在なＸテ−プ
ル３が設けられ、更にこのＸテーブル３上にガイドウェ
イ４を介して該Ｘ軸線方向と直交するＹ軸線方向に往復
移動自在なＹテーブル５が設けられて、このＹテーブル
５の上面にホルダーの如き被処理物固定具６が設けられ
ている。そしてこの固定具６に被処理物（図示せず）を
載置セットした状態で、前記Ｘテーブル３及びＹテーブ
ル５が図示しない駆動手段により各々ガイドウェイ２゜
４に沿って定められた方向に移動することで、該固定具
６にセットした被処理物をＸ−Ｙ両軸線方向に移動でき
るようになっている。
またその上段のＹテーブル５上面にはＸ−Ｙ軸線方向の
位置測定用の平面り形をしたレーザミラー７が取付けら
れ、このレーザミラー７と図示しないが別途定盤等に固
定したレーザ干渉計との間でのレーザ値の変化量をもっ
てＸ−Ｙ軸線方向の移動距離を算出し、これにて位置Ｍ
ｌ定しながら被処理物を正確に位置決めするようにＸテ
ーブル３及びＹテーブル５の移動制御を行うようになっ
ている。
位置測定用の平面り形をしたレーザミラー７が取付けら
れ、このレーザミラー７と図示しないが別途定盤等に固
定したレーザ干渉計との間でのレーザ値の変化量をもっ
てＸ−Ｙ軸線方向の移動距離を算出し、これにて位置Ｍ
ｌ定しながら被処理物を正確に位置決めするようにＸテ
ーブル３及びＹテーブル５の移動制御を行うようになっ
ている。
ところで、こうした従来の装置では、前述の如くＹテー
ブル５上面に直接被処理物固定具６と共に位置測定用の
レーザミラー７を取付け、その被処理物固定具６とレー
ザミラーとの間の距離は変動しないものとして、該レー
ザミラー７と別途固定のレーザ干渉計との間でのレーザ
値の変化量から移動距離を計算処理して位置測定してい
る。しかし前記Ｙテーブル５が移動の際などに変形を生
じると、被処理物固定具６とレーザミラー７との間の距
離が変動し、その分だけ位置測定値に誤差が生じて、こ
れが精度低下の原因となり、高精度な移動テーブル装置
としては好ましくない問題があった。
ブル５上面に直接被処理物固定具６と共に位置測定用の
レーザミラー７を取付け、その被処理物固定具６とレー
ザミラーとの間の距離は変動しないものとして、該レー
ザミラー７と別途固定のレーザ干渉計との間でのレーザ
値の変化量から移動距離を計算処理して位置測定してい
る。しかし前記Ｙテーブル５が移動の際などに変形を生
じると、被処理物固定具６とレーザミラー７との間の距
離が変動し、その分だけ位置測定値に誤差が生じて、こ
れが精度低下の原因となり、高精度な移動テーブル装置
としては好ましくない問題があった。
つまり、被処理物固定具６をＸ−Ｙ軸線方向に移動せし
める際に、各チー、プルのガイドウェイ２゜４の加工精
度や、各テーブル３．５のガイドウェイ取付面の加工精
度や、テーブル移動による重量バランスの変化等から、
プリロード変動等が起り、Ｙテーブル５に歪みなどの変
形が発生する。これにより該Ｙテーブル５の被処理物固
定具６及びレーザミラー７の取付面（上側表面）に引張
り又は圧縮現象が起きて伸縮が生じ、被処理物固定具６
ては前記テーブルは通常非磁性体である必要からアルミ
ニウム製などの剛性の低い材料で作うしているので、移
動の際に変形が起き易い。そのテーブル表面の伸縮によ
る被処理物固定具６とレーザミラー７との間の距離変動
が０．０５μｍ程度となると、位置精度が３σで０．１
μｍ以下等に要求されているこの種の高精度移動テーブ
ル装置ではもはや無視できない状況となって来ている。
める際に、各チー、プルのガイドウェイ２゜４の加工精
度や、各テーブル３．５のガイドウェイ取付面の加工精
度や、テーブル移動による重量バランスの変化等から、
プリロード変動等が起り、Ｙテーブル５に歪みなどの変
形が発生する。これにより該Ｙテーブル５の被処理物固
定具６及びレーザミラー７の取付面（上側表面）に引張
り又は圧縮現象が起きて伸縮が生じ、被処理物固定具６
ては前記テーブルは通常非磁性体である必要からアルミ
ニウム製などの剛性の低い材料で作うしているので、移
動の際に変形が起き易い。そのテーブル表面の伸縮によ
る被処理物固定具６とレーザミラー７との間の距離変動
が０．０５μｍ程度となると、位置精度が３σで０．１
μｍ以下等に要求されているこの種の高精度移動テーブ
ル装置ではもはや無視できない状況となって来ている。
また前記Ｙテーブル５の変形によりレーザミラ＝７を取
付けている表面が伸縮すると、該レーザミラー７の平面
度が単体時λ／２０〜λ／１０程度のものが悪化されて
、移動位置の測定誤差を招き、装置の精度低下の要因と
なっている。
付けている表面が伸縮すると、該レーザミラー７の平面
度が単体時λ／２０〜λ／１０程度のものが悪化されて
、移動位置の測定誤差を招き、装置の精度低下の要因と
なっている。
なお、第５図に示す如く、Ｙテーブル５の一部に断面縦
割にスリット８を設けて、これにて前記ガイドウェイ４
とテーブル３．５の加工誤差を吸収して、Ｙテーブル５
の変形を減する効果を得ようとしたものがあるが、これ
はいわゆる弾性を利用したスプリングプリロードと称す
るもので、スリット８を設けた部分が低剛性となるので
振動に対して弱い問題があり、又そこを高剛性に近づけ
るとＹテーブル５を歪ませる問題となって、いずれにし
ても精度向上にはあまり役立っていない問題があった。
割にスリット８を設けて、これにて前記ガイドウェイ４
とテーブル３．５の加工誤差を吸収して、Ｙテーブル５
の変形を減する効果を得ようとしたものがあるが、これ
はいわゆる弾性を利用したスプリングプリロードと称す
るもので、スリット８を設けた部分が低剛性となるので
振動に対して弱い問題があり、又そこを高剛性に近づけ
るとＹテーブル５を歪ませる問題となって、いずれにし
ても精度向上にはあまり役立っていない問題があった。
この発明はそうした従来の問題を解決して、移動に伴い
テーブルが変形しても、該テーブル上の被処理物固定具
と位置測定用のレーザミラーとの間の距離の変動を大幅
に低減できて、正確な位置７１ＩＩＩ定が可能となる高
精度の移動テーブル装置を提供することを目的とする。
テーブルが変形しても、該テーブル上の被処理物固定具
と位置測定用のレーザミラーとの間の距離の変動を大幅
に低減できて、正確な位置７１ＩＩＩ定が可能となる高
精度の移動テーブル装置を提供することを目的とする。
この発明の高精度テーブル装置は、上記目的を達成すべ
く、ガイドウェイを介して移動せられるテーブルの上部
に、該テーブルの移動に伴う変形が伝わり難い部分的結
合により非変形部を一体又は別体的に設け、この非変形
部上に被処理物固定具及び位置測定用レーザミラーを取
付けて構成したものである。
く、ガイドウェイを介して移動せられるテーブルの上部
に、該テーブルの移動に伴う変形が伝わり難い部分的結
合により非変形部を一体又は別体的に設け、この非変形
部上に被処理物固定具及び位置測定用レーザミラーを取
付けて構成したものである。
上記構成により、ガイドウェイを介して移動せられるテ
ーブルが該ガイドウェイやその取付面等の加工精度など
により変形を生じても、そのテーブルの変形はこの上部
に部分的結合により設けた非変形部には殆ど伝わらず、
これにて該非変形部上に取付けた被処理物固定具と位置
測定用レーザミラーとの間の距離が従来のように変動す
ることが無くなり、位置の測定誤差が非常に少なくなっ
て大幅な精度の向上が図れるようになる。
ーブルが該ガイドウェイやその取付面等の加工精度など
により変形を生じても、そのテーブルの変形はこの上部
に部分的結合により設けた非変形部には殆ど伝わらず、
これにて該非変形部上に取付けた被処理物固定具と位置
測定用レーザミラーとの間の距離が従来のように変動す
ることが無くなり、位置の測定誤差が非常に少なくなっ
て大幅な精度の向上が図れるようになる。
以下この発明の一実施例を第１図及び第２″図により説
明する。なお図中前述した第５図及び第６図のものと同
一構成をなすものには同一符号を付して説明の簡略化を
図ることにする。しかして図中１０はＸテーブル３上に
ガイドウェイ４を介してＹ軸線方向に往復移動可能に設
けられたＹテーブルで、このＹテーブル１０は上部に非
変形部１１が下面中央部のみにて部分的結合されて設け
られている。即ち、従来のものと略同様の厚みのＹテー
ブル１０上にこれよりやや薄い板状をなした非変形部１
１が中央の部分的結合部１２のみにて一体に結合して成
形されている。なおそのＹテーブル１０の上面と非変形
部１１の下面との間には前記中央の部分的結合部１２を
除いて隙間１３が切削等により形成されている。この隙
間１３の１１１ｔはＹテーブル１０が変形した時に被変
形部１１下面に接触しない程度とされている。こうした
Ｙテーブル１Ｇ上の非変形部１１１面に被処理物固定具
６と位置測定用のレーザミラー７とか取付は固定されて
いる。
明する。なお図中前述した第５図及び第６図のものと同
一構成をなすものには同一符号を付して説明の簡略化を
図ることにする。しかして図中１０はＸテーブル３上に
ガイドウェイ４を介してＹ軸線方向に往復移動可能に設
けられたＹテーブルで、このＹテーブル１０は上部に非
変形部１１が下面中央部のみにて部分的結合されて設け
られている。即ち、従来のものと略同様の厚みのＹテー
ブル１０上にこれよりやや薄い板状をなした非変形部１
１が中央の部分的結合部１２のみにて一体に結合して成
形されている。なおそのＹテーブル１０の上面と非変形
部１１の下面との間には前記中央の部分的結合部１２を
除いて隙間１３が切削等により形成されている。この隙
間１３の１１１ｔはＹテーブル１０が変形した時に被変
形部１１下面に接触しない程度とされている。こうした
Ｙテーブル１Ｇ上の非変形部１１１面に被処理物固定具
６と位置測定用のレーザミラー７とか取付は固定されて
いる。
而して、上述した構成であれば、被処理物固定具６をＸ
−Ｙ軸線方向に移動せしめる際に、各テーブルのガイド
ウェイ２，４の加工精度や、各テーブル３，１０のガイ
ドウェイ取付面の加工精度や、テーブル移動による重量
バランスの変化等から、プリロード変動等が起って、Ｙ
テーブル１０に歪みなどの変形が発生しても、その中央
の狭い断面積の部分的結合部１２のみで結合している非
変形部１１には該Ｙテーブル１０の変形がそのまま伝わ
ることが無く、即ちＹテーブル１０の変形は部分的結合
部１２以外の部分からは一切非変形部１１に対して影響
を与えることが無い。従って非変形部１１の変形は殆ど
無く、この上面に取付けられている被処理物固定具６と
レーザミラー７との間の距離の変動は略零となり、これ
にてＸ及びＹ軸線方向の移動の位置ＤＩ定値に誤差が生
じるようなことなく、装置の精度向上か可能となる。
−Ｙ軸線方向に移動せしめる際に、各テーブルのガイド
ウェイ２，４の加工精度や、各テーブル３，１０のガイ
ドウェイ取付面の加工精度や、テーブル移動による重量
バランスの変化等から、プリロード変動等が起って、Ｙ
テーブル１０に歪みなどの変形が発生しても、その中央
の狭い断面積の部分的結合部１２のみで結合している非
変形部１１には該Ｙテーブル１０の変形がそのまま伝わ
ることが無く、即ちＹテーブル１０の変形は部分的結合
部１２以外の部分からは一切非変形部１１に対して影響
を与えることが無い。従って非変形部１１の変形は殆ど
無く、この上面に取付けられている被処理物固定具６と
レーザミラー７との間の距離の変動は略零となり、これ
にてＸ及びＹ軸線方向の移動の位置ＤＩ定値に誤差が生
じるようなことなく、装置の精度向上か可能となる。
また前記ＹテーブルｌＯが変形しても非変形部１１のレ
ーザミラー７を取付けている表面が変形するようなこと
が無いので、該レーザミラー７の平面度が悪化して位置
測定の精度低下を招くようなこともなくなる。
ーザミラー７を取付けている表面が変形するようなこと
が無いので、該レーザミラー７の平面度が悪化して位置
測定の精度低下を招くようなこともなくなる。
なお、この発明は上記実施例のみに限定されることはな
い。例えば上記実施例のものにおいてＹテーブル１０に
対する非変形部１１の部分的結合部１２は両者の中央部
に四角形状としたが、それ以９外に横断面円形状でも可
であり、また第３図に示した如くＹテーブルに対してこ
の移動方向（Ｙ軸線方向）に長く帯状に亘る部分的結合
部１２Ａで非変形部１１を結合しても同様の効果が得ら
れる。
い。例えば上記実施例のものにおいてＹテーブル１０に
対する非変形部１１の部分的結合部１２は両者の中央部
に四角形状としたが、それ以９外に横断面円形状でも可
であり、また第３図に示した如くＹテーブルに対してこ
の移動方向（Ｙ軸線方向）に長く帯状に亘る部分的結合
部１２Ａで非変形部１１を結合しても同様の効果が得ら
れる。
更には、第４図に示す如く、互いに別体に成形したＹテ
ーブル移動Ｂと板状非変形部１１Ｂとを上下に重ねて、
その和瓦の中央部付近にその少なくとも一方から突出し
た凸状部を部分的結合部１２Ｂとして、そこで数本のボ
ルト１４或いはその他接着等により両者結合して構成し
ても良い。
ーブル移動Ｂと板状非変形部１１Ｂとを上下に重ねて、
その和瓦の中央部付近にその少なくとも一方から突出し
た凸状部を部分的結合部１２Ｂとして、そこで数本のボ
ルト１４或いはその他接着等により両者結合して構成し
ても良い。
この場合も該ボルト１４による部分的結合部１２Ｂ以外
は相互間に隙間１３Ｂを存するようになす。
は相互間に隙間１３Ｂを存するようになす。
こうした構成のものでも前述したと同様な効果か得られ
る。
る。
また、前述した非変形部１１．ＩＩＢを熱膨張係数の小
さい材料とすれば、熱変形の影響も減らすことができ、
更に剛性の高い材質とすればより一層の高精度なものと
なせる。
さい材料とすれば、熱変形の影響も減らすことができ、
更に剛性の高い材質とすればより一層の高精度なものと
なせる。
この発明は上述した如く、ガイドウェイを介して移動せ
られるテーブルの上部に、該テーブルの移動に伴う変形
が伝わり難い部分的結合により非変形部を設け、この非
変形部上に被処理物固定具及び位置測定用レーザミラー
を取付けた構成としたから、テーブルが移動に伴いガイ
ドウェイやその取付面等の加工精度などにより変形を生
じても、そのテーブルの変形はこの上部に部分的結合に
より設けた非変形部には殆ど伝わらず、これにて該非変
形部上に取付けた被処理物固定具と位置測定用レーザミ
ラーとの間の距離が従来のように変動することが無くな
り、位置の測定誤差が非常に少なくなって大幅な精度の
向上が図れる非常に高精度の移動テーブル装置となる。
られるテーブルの上部に、該テーブルの移動に伴う変形
が伝わり難い部分的結合により非変形部を設け、この非
変形部上に被処理物固定具及び位置測定用レーザミラー
を取付けた構成としたから、テーブルが移動に伴いガイ
ドウェイやその取付面等の加工精度などにより変形を生
じても、そのテーブルの変形はこの上部に部分的結合に
より設けた非変形部には殆ど伝わらず、これにて該非変
形部上に取付けた被処理物固定具と位置測定用レーザミ
ラーとの間の距離が従来のように変動することが無くな
り、位置の測定誤差が非常に少なくなって大幅な精度の
向上が図れる非常に高精度の移動テーブル装置となる。
第１図はこの発明の一実施例を示す一部断面した側面図
、第２図は第１図の平面図、第３図はこの発明の他の実
施例を示す平面図、第４図はこの発明の更に他の実施例
を示す一部断面した側面図、第５図は従来例を示す側面
図、第６図は同従来例の平面図である。 １・・ベース、２，４・・・ガイドウェイ、３，５゜１
０・・・テーブル、６・・・被処理物固定具、７・・・
位置測定用レーザミラー、１１．ＩＩＢ・・・非変形部
、１２．１２Ａ、１２Ｂ・・・部分的結合部、１３゜１
３Ｂ・・・隙間。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図 第３図 第４図
、第２図は第１図の平面図、第３図はこの発明の他の実
施例を示す平面図、第４図はこの発明の更に他の実施例
を示す一部断面した側面図、第５図は従来例を示す側面
図、第６図は同従来例の平面図である。 １・・ベース、２，４・・・ガイドウェイ、３，５゜１
０・・・テーブル、６・・・被処理物固定具、７・・・
位置測定用レーザミラー、１１．ＩＩＢ・・・非変形部
、１２．１２Ａ、１２Ｂ・・・部分的結合部、１３゜１
３Ｂ・・・隙間。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図 第３図 第４図
Claims (4)
- （１）少なくとも一軸方向に移動可能なテーブル上に位
置測定用レーザミラー及び被処理物固定具が備えられて
なる高精度移動テーブルにおいて、ガイドウェイを介し
て移動するテーブルの上部に該テーブルの移動に伴う変
形が伝わり難い部分的結合により非変形部を設け、この
非変形部上に位置測定用レーザミラー及び被処理物固定
具を取付けて構成したことを特徴とする高精度移動テー
ブル装置。 - （２）非変形部は移動テーブルと部分的結合して一体に
成形されていることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の高精度移動テーブル装置。 - （３）非変形部は移動テーブルと別体に成形されて該移
動テーブル上に部分的結合されていることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の高精度移動テーブル装置。 - （４）非変形部は移動テーブルとの間に部分的結合部を
除いて該移動テーブルの変形時に接触を避ける隙間を存
していることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第
３項いずれかに記載の高精度移動テーブル装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60291985A JPS62151783A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 高精度移動テ−ブル装置 |
| US07/368,150 US4953965A (en) | 1985-12-26 | 1989-06-15 | High-accuracy traveling table apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60291985A JPS62151783A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 高精度移動テ−ブル装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62151783A true JPS62151783A (ja) | 1987-07-06 |
| JPH0560557B2 JPH0560557B2 (ja) | 1993-09-02 |
Family
ID=17776019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60291985A Granted JPS62151783A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 高精度移動テ−ブル装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62151783A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62127515U (ja) * | 1986-02-05 | 1987-08-13 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5958825A (ja) * | 1982-09-29 | 1984-04-04 | Hitachi Ltd | 測長誤差を少なくする機能を備えた移動装置 |
| JPS60160618A (ja) * | 1984-01-06 | 1985-08-22 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | Ｘ線リトグラフイー用のマスクリングアセンブリ |
-
1985
- 1985-12-26 JP JP60291985A patent/JPS62151783A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5958825A (ja) * | 1982-09-29 | 1984-04-04 | Hitachi Ltd | 測長誤差を少なくする機能を備えた移動装置 |
| JPS60160618A (ja) * | 1984-01-06 | 1985-08-22 | エスヴィージー・リトグラフィー・システムズ・インコーポレイテッド | Ｘ線リトグラフイー用のマスクリングアセンブリ |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62127515U (ja) * | 1986-02-05 | 1987-08-13 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0560557B2 (ja) | 1993-09-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |