KR100634722B1 - 이동식 갠트리 위치 측정 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (27)
- 작업 영역(9)(작업 공간)에 대한 배치 헤드 디바이스(8)(작업 지점)의 위치를 결정하기 위한 위치 측정 시스템으로서,상기 위치 측정 시스템은 적어도 제 1 및 제 2 측정 모듈들을 포함하고, 상기 제 1 측정 모듈은 중간 요소(3)에 대해 상기 작업 지점의 제 1 세트의 변위들을 측정할 수 있으며, 상기 제 1 세트의 측정된 변위들은 제 1 선형 자유도에서 비교적 큰 변위(X)와, 상기 제 1 자유도 이외에 5개의 자유도 중에 적어도 두개에서 비교적 작은 변위들(Y1', Y2')을 포함하고, 상기 제 2 측정 모듈은 상기 작업 공간에 대해 상기 중간 요소의 제 2 세트의 변위들을 측정할 수 있으며, 상기 제 2 세트의 측정된 변위들은 상기 제 1 자유도와는 다른 제 2 선형 자유도에서 비교적 큰 변위(Y1)를 포함하고, 또한 상기 제 2 자유도 이외에 5개의 자유도 중에 적어도 두개에서 비교적 작은 변위들(X'1, X'2)을 포함하는, 위치 측정 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 자유도에서 상기 작업 공간에 대한 상기 중간 요소의 변위(Y2)를, 상기 제 2 모듈에 의해 이루어진 상기 측정 위치로부터 상기 제 2 자유도와 수직하게 오프셋된 위치에서, 부가로 측정할 수 있는 부가적인 측정 장치를 포함하는, 위치 측정 시스템.
- 제 2 항에 있어서, 상기 부가적인 측정은 상기 위치 측정 시스템의 자기 교정을 위해 사용되는 여분의 변위 정보를 포함하는, 위치 측정 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 작업 공간은 3차원 용적이고, 상기 제 1 세트의 변위들은 상기 중간 요소의 제 1 부분에 대한 작업 지점의 것이며, 상기 제 2 세트의 변위들은 상기 작업 공간에 대한 중간 요소의 제 2 부분의 것이고, 상기 위치 측정 시스템은 상기 중간 요소의 제 2 부분에 대한 상기 중간 요소의 제 1 부분의 제 3 세트의 변위들을 측정할 수 있는 적어도 제 3 측정 모듈을 포함하며, 상기 제 3 세트의 측정된 변위들은 상기 제 1 및 제 2 자유도와는 다른 제 3 선형 자유도에서 비교적 큰 변위를 포함하고, 또한 상기 제 3 자유도 이외에 5개의 자유도 중에 적어도 두개에서 비교적 작은 변위들을 포함하는, 위치 측정 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 각 측정 모듈은 복수의 광학적으로 부호화된 스케일들과 복수의 광학적 판독 헤드들로 구성되고, 상기 각 모듈의 스케일들과 헤드들은 직교 방향으로 증분 변위들의 측정으로 변위들을 측정할 수 있는, 위치 측정 시스템.
- 제 5 항에 있어서, 상기 광학적으로 부호화된 스케일들은 절대 직교 그리드에 대해 미리 교정되는, 위치 측정 시스템.
- 제 5 항에 있어서, 상기 광학적으로 부호화된 스케일들은 실질적으로 제로 열팽창 계수를 갖는 기판상에서 제조되는, 위치 측정 시스템.
- 제 5 항에 있어서, 상기 광학적으로 부호화된 스케일들은 높은 열전도성을 갖는 기판상에서 제조되는, 위치 측정 시스템.
- 제 5 항에 있어서, 상기 광학적으로 부호화된 스케일들은 광학적 격자들인, 위치 측정 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 각 측정 모듈은 길이 방향으로 실질적으로 편평한 측면을 갖는 기판상에서 일방향으로 상기 길이방향으로 연장하는 광학적으로 부호화된 격자를 포함하고, 상기 편평 측면은 상기 격자의 평면에 대해 실질적으로 수직하며, 상기 모듈은 상기 격자의 길이 방향에서 변위들을 측정할 수 있는 적어도 하나의 광학적 판독 헤드와 상기 편평 측면의 평면에 대한 변위들을 측정할 수 있는 적어도 하나의 비접촉 센서를 또한 포함하는, 위치 측정 시스템.
- 제 10 항에 있어서, 상기 비접촉 센서는 용량성, 전도성 또는 광학적 센서인, 위치 측정 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 측정 모듈의 제 1 부분은 상기 작업 지점에 대해 운동학적으로 고정되고, 상기 제 1 측정 모듈의 제 2 부분은 상기 중간 요소의 적어도 하나의 부분에 대해 운동학적으로 고정되는, 위치 측정 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 측정 모듈의 제 1 부분은 상기 중간 요소에 대해 운동학적으로 고정되고, 상기 제 2 측정 모듈의 제 2 부분은 상기 작업 공간에 대해 운동학적으로 고정되는, 위치 측정 시스템.
- 제 1 항에 기재된 위치 측정 시스템을 포함하고, 운동학적으로 순차 체인에 연결된 적어도 제 1 및 제 2 이동 액츄에이터를 포함하며, 상기 작업 공간에 상기 작업 지점을 위치하기 위해 작동하는 다축 위치 설정 장치로서,상기 제 1 액츄에이터는 상기 중간 요소에 대해 상기 작업 지점을 이동시키고, 상기 제 2 액츄에이터는 상기 작업 공간에 대해 상기 중간 요소를 이동시키는, 다축 위치 설정 장치.
- 제 14 항에 있어서, 상기 위치 설정 장치는 갠트리 비임에 의해 지지된 캐리지를 갖는 갠트리 테이블이고, 상기 캐리지는 상기 작업 지점을 운반하며, 상기 갠트리 비임은 상기 중간 요소이고, 상기 제 1 액츄에이터는 상기 갠트리 비임에 대해 상기 캐리지와 상기 작업 지점을 이동시키기 위해 작동하며, 상기 제 2 액츄에이터는 상기 작업 공간에 상기 작업 지점을 위치 설정하도록 상기 작업 공간에 대해 상기 갠트리 비임을 이동시키기 위해 작동하고, 상기 갠트리 비임의 이동은 상기 갠트리 비임에 대해 상기 캐리지와 작업 지점의 이동과 평행하지 않는, 다축 위치 설정 장치.
- 제 15 항에 있어서, 상기 갠트리 테이블은 H형 구성을 갖는 XY 위치 설정 테이블이고, 상기 캐리지는 X 축 방향으로 상기 갠트리 비임을 따라 이동하며, 상기 비임은 실질적으로 평행한 두개의 Y축 트랙들을 따라 상기 테이블에 걸쳐서 이동하기 위해 각 단부에서 지지되고, 상기 X 및 Y 축은 실질적으로 수직한, 다축 위치 설정 장치.
- 제 15 항에 있어서, 상기 갠트리 테이블은 T형 구성을 갖는 XY 위치 설정 테이블이고, 상기 캐리지는 X 축 방향으로 상기 갠트리 비임을 따라 이동하며, 상기 비임은 Y축 트랙을 따라 상기 테이블에 걸쳐서 이동하기 위해 일 단부에서 지지되고, 상기 X 및 Y 축은 실질적으로 수직한, 다축 위치 설정 장치.
- 작업 공간에 대해 작업 지점의 위치를 결정하기 위한 방법으로서,중간 요소에 대한 상기 작업 지점의 제 1 세트의 변위들을 측정하는 단계;상기 작업 공간에 대한 상기 중간 요소의 제 2 세트의 변위들을 측정하는 단계; 및상기 제 1 및 제 2 세트들의 변위들로부터 상기 작업 공간에 대한 상기 작업 지점의 위치를 결정하는 단계를 포함하고,상기 제 1 세트의 측정된 변위들은 제 1 선형 자유도에서 비교적 큰 변위와 상기 제 1 자유도 이외에 5개의 자유도 중에 적어도 두개에서 비교적 작은 변위들을 포함하며,상기 제 2 세트의 측정된 변위들은 상기 제 1 자유도와는 다른 제 2 선형 자유도에서 비교적 큰 변위를 포함하고, 또한 상기 제 2 자유도 이외에 5개의 자유도 중에 적어도 두개에서 비교적 작은 변위들을 포함하는, 위치 결정 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 작업 공간은 3차원 용적이고, 상기 제 1 세트의 변위들은 상기 중간 요소의 제 1 부분에 대한 작업 지점의 것이며, 상기 제 2 세트의 변위들은 상기 작업 공간에 대한 중간 요소의 제 2 부분의 것이고,상기 방법은 상기 중간 요소의 제 2 부분에 대한 상기 중간 요소의 제 1 부분의 제 3 세트의 변위들을 측정하는 단계를 포함하며, 상기 제 3 세트의 측정된 변위들은 상기 제 1 및 제 2 자유도와는 다른 제 3 선형 자유도에서 비교적 큰 변위를 포함하고, 또한 상기 제 3 자유도 이외에 5개의 자유도 중에 적어도 두개에서 비교적 작은 변위들을 포함하는, 위치 결정 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 변위들은 광학적으로 부호화된 스케일들과 광학적 판독 헤드들을 사용하여 직교 방향에서 측정되는, 위치 결정 방법.
- 제 20 항에 있어서, 상기 광학적으로 부호화된 스케일들은 실질적으로 제로 열팽창 계수를 갖는 기판상에서 제조되는, 위치 결정 방법.
- 제 20 항에 있어서, 상기 광학적으로 부호화된 스케일들은 높은 열전도성을 갖는 기판상에서 제조되는, 위치 결정 방법.
- 제 20 항에 있어서, 상기 광학적으로 부호화된 스케일들은 광학 격자들인, 위치 결정 방법.
- 제 18 항에 기재된 작업 지점의 위치를 결정하는 방법을 포함하는 작업 공간에 작업 지점을 위치 설정하는 방법으로서,상기 방법은 운동학적으로 순차 체인에 연결된 적어도 제 1 및 제 2 이동 액츄에이터들에 의해 상기 작업 지점을 이동시키는 단계를 포함하며,상기 제 1 액츄에이터는 상기 중간 요소에 대해 상기 작업 지점을 이동시키고, 상기 제 2 액츄에이터는 상기 작업 공간에 대해 상기 중간 요소를 이동시키는, 위치 설정 방법.
- 제 23 항에 있어서,중간 요소인 갠트리 비임에 의해 지지되고 상기 작업 지점을 운반하는 캐리지를 갖는 갠트리 테이블을 사용하는 단계;상기 갠트리 비임에 대해 상기 캐리지와 상기 작업 지점을 이동시키기 위해 상기 제 1 액츄에이터를 작동시키는 단계; 및상기 작업 공간에 상기 작업 지점을 위치시키도록 상기 작업 공간에 대해 상기 갠트리 비임을 이동시키기 위해 상기 제 2 액츄에이터를 작동시키는 단계를 포함하는, 위치 설정 방법.
- 제 24 항에 있어서, 상기 갠트리 테이블은 H형 구성을 갖고, 상기 비임은 상기 테이블에 걸쳐서 이동하기 위해 각 단부에서 지지되며,X축 방향으로 상기 갠트리 비임을 따라 상기 캐리지를 이동시키는 단계; 및실질적으로 평행한 두개의 Y축 트랙들을 따라 상기 갠트리 비임을 이동시키는 단계를 포함하고, 상기 X 및 Y 축은 실질적으로 수직한, 위치 설정 방법.
- 제 24 항에 있어서, 상기 갠트리 테이블은 T형 구성을 갖고, 상기 비임은 상기 테이블에 걸쳐서 이동하기 위해 일 단부에서 지지되며,X 축 방향으로 상기 갠트리 비임을 따라 상기 캐리지를 이동시키는 단계; 및Y 축 트랙을 따라 상기 갠트리 비임을 이동시키는 단계를 포함하고, 상기 X 및 Y 축은 실질적으로 수직한, 위치 설정 방법.
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