JPS62149434A - 複層式セラミツク多孔体の製造方法 - Google Patents
複層式セラミツク多孔体の製造方法Info
- Publication number
- JPS62149434A JPS62149434A JP29086785A JP29086785A JPS62149434A JP S62149434 A JPS62149434 A JP S62149434A JP 29086785 A JP29086785 A JP 29086785A JP 29086785 A JP29086785 A JP 29086785A JP S62149434 A JPS62149434 A JP S62149434A
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- Japan
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- porous body
- particles
- ceramic
- ceramic porous
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフィルター、隔膜に利用できる複層式セラミッ
ク多孔体の製造方法に関する。
ク多孔体の製造方法に関する。
従来復層式セラミック多孔体は粒径の異なるセラミック
粒子スラリーを時間差をおいて型に流し込むか、あるい
は多孔質支持体に流し込む壊込み法により製造されてい
た。
粒子スラリーを時間差をおいて型に流し込むか、あるい
は多孔質支持体に流し込む壊込み法により製造されてい
た。
しかし鋳込法に用いられろセラミンク粒子スラリーは比
較的濃度が濃いため、該粒子同志が凝集して２次粒子に
なり易い。そこで、複層式セラミック多孔体をフィルタ
ーに使用するような場合、透過孔径が揃っている方が望
ましいが。
較的濃度が濃いため、該粒子同志が凝集して２次粒子に
なり易い。そこで、複層式セラミック多孔体をフィルタ
ーに使用するような場合、透過孔径が揃っている方が望
ましいが。
１次粒子同志の間にできる空隙即ち透過孔径は小さく、
２次粒子同志の間にできる透過孔径は大きいので、これ
らが共存する鋳込法では当然透過孔径の揃ったものはで
きにくいという欠点があった。また鋳込法では平均粒径
１μｍ以下の微細な粒子からなるスラリーを用いて堆積
層を形成しようとするとスラリー中の空気を完全に除去
できないため堆積層形成時（こ該空気を抱き込んでしま
い、後段の工程である焼成工程に３いて該空気が膨張し
てボッピンクを起し、それがピンボールとして残り不良
品となってしまうという欠点があった。
２次粒子同志の間にできる透過孔径は大きいので、これ
らが共存する鋳込法では当然透過孔径の揃ったものはで
きにくいという欠点があった。また鋳込法では平均粒径
１μｍ以下の微細な粒子からなるスラリーを用いて堆積
層を形成しようとするとスラリー中の空気を完全に除去
できないため堆積層形成時（こ該空気を抱き込んでしま
い、後段の工程である焼成工程に３いて該空気が膨張し
てボッピンクを起し、それがピンボールとして残り不良
品となってしまうという欠点があった。
このような欠点を解決し、要望にこたえるためｌこは、
セラミック粒子をセラミック多孔体、よりなる支持層上
に緻密に堆積させろことが必！＋２であると考え、その
方法について説意研究した結果、下記の本発明に到達し
た。
セラミック粒子をセラミック多孔体、よりなる支持層上
に緻密に堆積させろことが必！＋２であると考え、その
方法について説意研究した結果、下記の本発明に到達し
た。
本発明はセラミック多孔体を濾過体としてセラミック粒
子の分散液をクロスフロー濾過すること（こより、該多
孔体表面にセラミック粒子の薄い堆積層を形成させ、こ
れを乾燥、焼成することを特徴とする複層式セラミック
多孔体の製造方法を提供するものである。
子の分散液をクロスフロー濾過すること（こより、該多
孔体表面にセラミック粒子の薄い堆積層を形成させ、こ
れを乾燥、焼成することを特徴とする複層式セラミック
多孔体の製造方法を提供するものである。
本発明でいうクロスフロー濾過とは、濾過原液を加圧下
でヂ材表面に流し、Ｐ液はＰ材裏面より、Ｐ材と平行に
流れる原液に対して直角方向に流れる濾過をいう。
でヂ材表面に流し、Ｐ液はＰ材裏面より、Ｐ材と平行に
流れる原液に対して直角方向に流れる濾過をいう。
本発明に用いるセラミック粒子としてはアルミナ、チタ
ニア、ムライトｔどその種類は特に限定しないが、小孔
径のフィルタを製造するには粒子が小さく粒度分布が狭
いものの方がより透過孔径の揃った多孔体ができるため
望ましい。
ニア、ムライトｔどその種類は特に限定しないが、小孔
径のフィルタを製造するには粒子が小さく粒度分布が狭
いものの方がより透過孔径の揃った多孔体ができるため
望ましい。
またセラミック粒子の代りにセラミックの前、枢体であ
るゾルまたはゲル粒子を用いることも可能である。
るゾルまたはゲル粒子を用いることも可能である。
分散−としては水、アルコール等が用いられる。セラミ
ック粒子の分散液は粒子の凝集が生じなければその固液
１濃度は限定されないが２通常１０重＠φ以下、好まし
くは１重量係以下である。
ック粒子の分散液は粒子の凝集が生じなければその固液
１濃度は限定されないが２通常１０重＠φ以下、好まし
くは１重量係以下である。
またセラミック粒子の分散液に必要に応じて焼結助剤１
粒成長抑制剤などの添加物を同時に分散しておいても、
緻密な堆積層を形成するにあたって特に問題となること
はない。
粒成長抑制剤などの添加物を同時に分散しておいても、
緻密な堆積層を形成するにあたって特に問題となること
はない。
支持体層となるセラミック多孔体は分散したセラミック
粒子を濾過てきるものであれば特に限定されないが、焼
結することによってその表面に形成された堆積層と結合
するものであり。
粒子を濾過てきるものであれば特に限定されないが、焼
結することによってその表面に形成された堆積層と結合
するものであり。
しかも該堆積層を形成するセラミック粒子とほぼ同程度
の熱膨張係数を有するものであることは他の濾過方法で
堆積層を形成するよりも、緻密になるためである。
の熱膨張係数を有するものであることは他の濾過方法で
堆積層を形成するよりも、緻密になるためである。
例えば、平均粒径約０．５μｍのアルミナ微粉末を０．
０５〜０．５重量％の固液濃度に調整し。
０５〜０．５重量％の固液濃度に調整し。
流速０−５〜Ｉ−５”７’ｓｅｅ 、濾過圧１〜ａ Ｋ
４ｔ／ｃｒ＆で１０〜４０分間クロスフロー戸遇すると
、肉厚１０〜５０μｍの堆積層が形成される。
４ｔ／ｃｒ＆で１０〜４０分間クロスフロー戸遇すると
、肉厚１０〜５０μｍの堆積層が形成される。
実施例１
セラミック多孔体よりなる支持層として鋳込み法で製造
した外径１９關〆、内径１６ｍ＋ｘ５Ｌ長さ１１５ｍｍ
、最大透過孔径１２μｍ、平均透過孔径７μｍ、透過係
数４ 、０ ｍｅ／Ｓ、 ａ ｔｍ ・ｃｎｌのアルミ
ナ製フィルターを用い、この支持層の内表面に平均粒径
０．５μｍの市販アルミナ（昭和軽金属■製。
した外径１９關〆、内径１６ｍ＋ｘ５Ｌ長さ１１５ｍｍ
、最大透過孔径１２μｍ、平均透過孔径７μｍ、透過係
数４ 、０ ｍｅ／Ｓ、 ａ ｔｍ ・ｃｎｌのアルミ
ナ製フィルターを用い、この支持層の内表面に平均粒径
０．５μｍの市販アルミナ（昭和軽金属■製。
７６０３Ｇ−１）に蒸留水を加えて遠心分離し。
０．７μｍ以上の粒子を除いた後、固液濃度を０．１重
ｉ％に調整し、流速１７１Ｌ／ Ｓ （！ Ｃｒ 濾過
圧２Ｋｑｆ７／（ｆｆｌで約３０分間クロスフロー濾過
を行い、ｃｔ−アルミナの微粒子からなる緻密な堆積層
を形成した。
ｉ％に調整し、流速１７１Ｌ／ Ｓ （！ Ｃｒ 濾過
圧２Ｋｑｆ７／（ｆｆｌで約３０分間クロスフロー濾過
を行い、ｃｔ−アルミナの微粒子からなる緻密な堆積層
を形成した。
これを１３００℃で焼成したところフィルタ一層の厚さ
約４０μｍ、ＸｆＬ均透過孔径０．２０μｍ、最大透過
孔径ｏ、３３μｍ、純水透過係数６Ｘ１ｏ−３ｍｅ／６
−ａｔｍ−ｃ！の複層式セラミック多孔体が得られた。
約４０μｍ、ＸｆＬ均透過孔径０．２０μｍ、最大透過
孔径ｏ、３３μｍ、純水透過係数６Ｘ１ｏ−３ｍｅ／６
−ａｔｍ−ｃ！の複層式セラミック多孔体が得られた。
実施例２
図のような断面が１辺２０ ｍ１ｍの６角形で、その中
に直径１０ ｍｍの円柱状の穴が７本通っている蓮根状
のアルミナ質多孔体を用いてその内側に緻密な二次層を
形成した。
に直径１０ ｍｍの円柱状の穴が７本通っている蓮根状
のアルミナ質多孔体を用いてその内側に緻密な二次層を
形成した。
この蓮根状のアルミナ質多孔体は平均透過孔径１０μｍ
、最大透過孔径２３μｍ、純水透過係数１０ ｍｅ／ｓ
−ａ ｔｍ−ｃｌｔ以上（内表面積あたり）である。
、最大透過孔径２３μｍ、純水透過係数１０ ｍｅ／ｓ
−ａ ｔｍ−ｃｌｔ以上（内表面積あたり）である。
これを実施例１と同じようにして同じアルミナ微粉末の
分散液を流速１ ｍ／ ＳｅＣ＋ 濾過圧２ Ｋｑｆ／
ｄで約３０分間クロスフロー濾過した。
分散液を流速１ ｍ／ ＳｅＣ＋ 濾過圧２ Ｋｑｆ／
ｄで約３０分間クロスフロー濾過した。
これを１３００°Ｃで焼成したところ、フィルタ一層の
厚さ約３５μｍ、最大透過孔径０．３０μｍ。
厚さ約３５μｍ、最大透過孔径０．３０μｍ。
平均透過孔径０．２４ μｆｆｌ＋純水透過係ｅ１６
Ｘ ｌＯ−”ｍＶｓ −ａｔｍ −Ｗ （内表面積あた
り）の複層式セラミック多孔体が得られた。
Ｘ ｌＯ−”ｍＶｓ −ａｔｍ −Ｗ （内表面積あた
り）の複層式セラミック多孔体が得られた。
比較例
実施例１に用いたと同じアルミナ製フィルタ−とアルミ
ナ粒子を用いて鋳込み法で堆積層を形成した。
ナ粒子を用いて鋳込み法で堆積層を形成した。
アルミナ粒子５０ｇを蒸留水に分散して固液Ｊｆ、５重
量係のスラリーとし、これを下端を塞いだアルミナ製フ
ィルターに流し込み、内側堆積層を形成した。これを乾
燥した後再びスラリーを流し込み堆積層の厚みをます。
量係のスラリーとし、これを下端を塞いだアルミナ製フ
ィルターに流し込み、内側堆積層を形成した。これを乾
燥した後再びスラリーを流し込み堆積層の厚みをます。
この操作を３回くり返した後、１３００°Ｃで焼成し、
実施例と同等の約４０μｍ厚のフィルタ一層を形成した
。
実施例と同等の約４０μｍ厚のフィルタ一層を形成した
。
この複層フィルターの平均透過孔径は０．３０μｍ、最
大透過孔径は０．８１μｍ、純水透過係数は７ ・４
Ｘ １ａ−２ｍｌ／ｓ −ａ ｔ ｍ−ｃｒ／ｒであっ
た。
大透過孔径は０．８１μｍ、純水透過係数は７ ・４
Ｘ １ａ−２ｍｌ／ｓ −ａ ｔ ｍ−ｃｒ／ｒであっ
た。
式セラミック多孔体が得られるため精密濾過用フィルタ
ーおよび電気分解用隔膜などに用いることができる。
ーおよび電気分解用隔膜などに用いることができる。
図は実施例２に使用した蓮根状アルミナ質多孔体の概略
図である。
図である。
Claims (1)
- セラミック多孔体を濾過体としてセラミック粒子の分散
液をクロスフロー濾過することにより、該多孔体表面に
セラミック粒子の薄い堆積層を形成させ、これを乾燥、
焼成することを特徴とする複層式セラミック多孔体の製
造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29086785A JPS62149434A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 複層式セラミツク多孔体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29086785A JPS62149434A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 複層式セラミツク多孔体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62149434A true JPS62149434A (ja) | 1987-07-03 |
| JPH0583516B2 JPH0583516B2 (ja) | 1993-11-26 |
Family
ID=17761522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29086785A Granted JPS62149434A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 複層式セラミツク多孔体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62149434A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000045944A1 (fr) * | 1999-02-01 | 2000-08-10 | Ngk Insulators, Ltd. | Procede de fabrication d'un filtre comportant un film ceramique poreux comme film de separation |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS548471A (en) * | 1977-06-22 | 1979-01-22 | Hitachi Ltd | Selection method for transistor |
| JPS61238315A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-23 | Ngk Insulators Ltd | 複層フイルタの製造方法 |
-
1985
- 1985-12-25 JP JP29086785A patent/JPS62149434A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS548471A (en) * | 1977-06-22 | 1979-01-22 | Hitachi Ltd | Selection method for transistor |
| JPS61238315A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-23 | Ngk Insulators Ltd | 複層フイルタの製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000045944A1 (fr) * | 1999-02-01 | 2000-08-10 | Ngk Insulators, Ltd. | Procede de fabrication d'un filtre comportant un film ceramique poreux comme film de separation |
| US6509060B1 (en) | 1999-02-01 | 2003-01-21 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for manufacturing filter having ceramic porous film as separating film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0583516B2 (ja) | 1993-11-26 |
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