JPS62148827A - 半導体圧力センサ - Google Patents

半導体圧力センサ

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JPS62148827A
JPS62148827A JP28982885A JP28982885A JPS62148827A JP S62148827 A JPS62148827 A JP S62148827A JP 28982885 A JP28982885 A JP 28982885A JP 28982885 A JP28982885 A JP 28982885A JP S62148827 A JPS62148827 A JP S62148827A
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JP
Japan
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cap
semiconductor element
sensitive semiconductor
pressure
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Application number
JP28982885A
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English (en)
Inventor
Haruo Yamauchi
山内 治男
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Azbil Corp
Original Assignee
Azbil Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感圧半導体素子を利用した圧力センサに関す
る。
〔従来の技術〕
この種の半導体圧力センサとして、既に、感圧半導体素
子をガラスチューブ等からなる筒状ホルダを介してヘッ
ダに固定したものが提案されている(例えば特開昭59
−210338号公報)。筒状ホルダを長くとることに
より、ヘッダへの固着の影響で感圧半導体素子に与えら
れる歪を軽減することができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
このような半導体圧力センサにおいて、数百Kf/dも
の静圧にも耐える機械的強度を確保し、かつ感圧半導体
素子部を有効に保護し得る構造として、リードピンが気
密固定されたヘッダを有底筒状に形成し、その内部に感
圧半導体素子を収容してしまうことが望ましい。
その場合、上記ヘッダの開放端部に、感圧半導体素子を
覆うようにキャップを配置すれば、上記感圧半導体素子
の保護は万全となり、このキャップを金属製とし感圧半
導体素子と接続することにより両者間の電位差をなくす
ことができ望ましい。
ところが、このようなセンサを圧カドランスジューサ本
体に組み込もうとすると、上述したようにキャップを金
属とした場合には、何らかの絶縁手段を別に講じる必要
が生ずる。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、内面にのみ導電性物質が被着された絶縁物か
らなるキャップを用いたものである。
〔作用〕
少なくとも感圧半導体素子の上面を覆う部分の内面に導
電性物質が被着してあればそれをシールド用として利用
することができ、他方外面は絶縁物からなるためそのま
まで外部との絶縁が保たれる。
〔実施例〕
第2図(a)は本発明の一実施例を示す側面図、同図(
b)はそのb−b断面図である。図において、11はス
テンレス鋼からなる有底円筒状のヘッダで、底部を貫い
てリードピン12が、ガラスシール部111において気
密に固定されている。同様に底部内面に設けた凹部には
スリーブ13がろう付けしてあり、このスリーブ13に
1端を嵌装するようにガラスチューブからなる円筒ホル
ダ14が固定されている。スリーブ13には、ガラスと
熱膨張係数の近いコバールが用いられている。
円筒ホルダ14の他端に、ピエゾ抵抗素子を形成したシ
リコンダイアフラムからなる感圧半導体素子15が固着
されている。周知のように、ンリコン単結晶はヒステリ
シス特性がなく非常に良好な弾性体であることからスト
レンゲージとしてきわめて有用である。ヘッダ11への
固定による歪をこの感圧半導体素子15に伝え々いため
、円筒ホルダ14は十分な長さに形成しである。
ヘッダ11内部の空間には、シリコンオイルからなる封
入液が封入されるが、この封入液は、ヘッダ11その他
の構成部材に比較して熱膨張係数が著しく大きく動作上
不安定要素となりやすいため、その量は極力少なく抑え
たい。このため、ヘッダ11と円筒ホルダ14との間の
空隙にはスペーサ16を配置しである。このスペーサ1
6は、A t、 03を92係含むセラミック(京セラ
@)八−473)からなシ、リードピン12が通る貫通
孔161を備えている。リードピン12は、ガラスシー
ルされる関係上、熱膨張係数がそのガラスに近い50%
N1−F、合金を用い、その熱膨張係数は約5xto−
2℃である。これに対し、スペーサ6の熱膨張係数は約
BxlO/’Cであり、リードピン12のそれよりは太
きいがヘッダ11よりは小さくとっである。
また、1Tはスペーサ16と同様のセラミックからなる
板で、同じくリードピン12の貫通孔171を備えてい
る。各リードピン12は、この端子板17上に施された
メタリゼーション膜からなる電極およびボンディングワ
イヤ18を介して感圧半導体素子15上の各電極パッド
と電気的に接続されている。19はフッ素系樹脂製のス
プリングで、端子板17は、このスプリング19を介し
てスペーサ16の端面に配置されている。
さらに、有底円筒状のヘッダ11の開放端部に、感圧半
導体素子15を覆うように有底円筒状のキャップ20が
配置されている。このキャップ20は、その外周面がヘ
ッダ11の内周面に接するようにヘッダ11内に嵌装さ
れている。キャップ20はまた、その底部に開口201
を有しており、この間口201が、感圧半導体素子15
に対する一方の圧力導入路となる。ヘッダ11にはスリ
ーブ13および円筒ホルダ14の内部を介して感圧半導
体素子15の他面に至る他方の圧力導入路112.11
3が設けである。
ここで、スペーサ16のへラダ11内周面に接する外周
面にはへラダ11の開放端側端部から底部側端部へ向け
て延在する凹部162を2箇所に(図では1箇所しか表
われていない)設け、ここからディスペンサーを挿入し
、接着剤を当該凹部162の終端部に付与してスペーサ
16をヘッダ11へ固定するよってしである。また、ヘ
ッダ11底部に接する面には凸部163および凹部16
4を設け、広い面積にわたって平面どうしが接触するの
を避けて、真空引きの段階でガスが容易に抜けるように
しである。
このようなスペーサ16に対し、スプリング19を介し
て端子板17を配置したが、これにより、端子板1Tと
感圧半導体素子15のボンディング面相互の位置関係に
多少のばらつきがあっても、上記スプリング19の変形
によってこれを吸収することか可能となるため、ポンデ
ィングの自動化が容易となる。また、ポンディング時の
熱による応力の影響を緩和する機能も有する。
ここで、キャップ20は、スペーサ16および端子板1
7と同様のセラミック製で、内面に、ボンディングワイ
ヤ1Bとリードピン12とを電気的に接続するために端
子板17上に形成した電極と同様のメタリゼーション膜
が施されている。
第1図はこのキャップ20の構成を示し、同図(a)は
左側面図、同図(b)はそのb−b断面図である。
本体は前述したセラミックからなる成形品で有底円筒状
の形状を有し、その底部に開口201を備えている。ま
たその内面には、同図において1点鎖線で示したように
メタリゼーション膜202が形成されている。このメタ
リゼーション膜202は、本実施例ではモリブデン−マ
ンガン合金からなる下層と、ニッケルからなる中間層お
よび金からなる上層の3層構造とし、総膜厚は最大で2
5μmとする。このうち下層はセラミックとの結合を強
固にするためで膜厚は0.1/zm以上必要である。ま
た、上層の金は半田付けを容易にするためで、膜厚は0
.2μm以上、中間層のニッケルは金の半田中への拡散
を防止するためのもので、膜厚は2μm以上とする。ニ
ッケル層に直接半田付けを行なおうとするとフラックス
が多量に必要となり、その成分のイオンが後に悪影響を
与えることと々って好ましく々い。
第3図は端子板1Tの構成を示し、同図(、)は右側面
図、同図(b)はそのb−b断面図である。端子板17
の突出した上面にはメタリゼーション膜202と同様の
3層構造(膜厚は下層、中間層、上層が各0.1μm以
上、2μm以上、1μm以上)のメタリゼーション膜1
72(1721〜172a)が各貫通孔171を中心に
形成され、第4図に示したようにこれらのメタリゼーシ
ョン膜を介して感圧半導体素子15と各リードピン12
との接続が行なわれるが、そのうち感圧半導体素子15
のシリコン基板に接続するメタリゼーション膜1726
については、上面の周縁まで延長して形成しであるとと
もに、別に、同じく上記周縁まで形成したメタリゼーシ
ヨン膜172゜が設けである。
前述したキャップ20の開口201は、これらのメタリ
ゼーション膜1726および172o  に対応して配
置してあり、当該キャップ20を、その開放端部が端子
板17の周辺段差部173に当接するようにヘッダ11
に嵌め込んだ後、上記開口201から半田ごてを挿入し
、上記メタリゼーション膜1726および172゜とメ
タリゼーション膜202とを半田付けすることにより、
両者を電気的に接続すると同時にキャップ20を機械的
に固定する。
これらの固定部に予め半田を施しておき、上記開口20
1から熱風を送って半田を溶融させ固着してもよい。
このようにキャップ20を内面で固定できるため、当該
キャップ20はへラダ11の内周面に嵌装する形にでき
、センサ外形を小さくすることができる。また、メタリ
ゼーション膜202と感圧半導体素子15のシリコン基
板との間の電位差をなくすことができ、キャップ−シリ
コン基板間で封入液中のイオンの泳動が生じるのを防ぐ
ことができる。この意味では、メタリゼーション膜20
2は少なくとも感圧半導体素子15の上面を覆うように
形成しておく必要がある。なお、メタリゼーション膜1
72s と1720の2箇所で接続したのは、1箇所で
は安定に固定することが困難なためである。
他方、キャップ20の本体はセラミック製であることか
ら、センサ外部(圧カドランスジューサ本体)との間に
大きな電位差が生じた場合にセンサ内部のシリコンおよ
び回路部の破壊を防ぐ機能を有している。
以上、ヘッダ11を有底筒状に一体形成した場合を例に
説明したが、例えば底部と側壁部とを別体に形成し、溶
接により接合して有底筒状とした場合にも、本発明は同
様に適用可能である。もちろん、一体形成した方が溶接
等の工程が省け、また耐圧も太きいものが得られるため
に肉厚が薄くて済み、外径を小さくできる利点がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によねば、内面にのみ導電
性物質が被着された絶縁物からなるキャップを用いたこ
とにより、当該キャップと感圧半導体素子間の電位差を
なくす一方、センサ外部との間に大きな電位差が生じた
場合に内部の破壊を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第4図は本発明の一実施例を示す図で、第
1図(a)はキャップの左側面図、同図(b)は同図(
−)のb−b断面図、第2図(IL)はセンサの側面図
、同図(b)は同図(a)のb−b断面図、第3図(a
)は端子板の右側面図、同図(b)は同図C)のb−b
断面図、第4図は感圧半導体素子と端子板との接続を示
す側面図である。 11・・拳・ヘッダ、12・・・−リードピン、14・
・・・円筒ホルダ、15・・・・感圧半導体素子、16
.−・・スペーサ、17.・0.端子板、20・・番・
キャップ、202・・・・メタリゼーション膜。 特許出願人 山武ハネウェル株式会社 代 理 人  山  川  政  樹(はか2名)第1
図 (a)(b) −b 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 底部を貫いて気密固定されたリードピンを有する有底筒
    状ヘッダと、このヘッダの底部内面に筒状ホルダを介し
    て固定された感圧半導体素子と、上記有底筒状ヘッダの
    開放端部に上記感圧半導体素子を覆うように配置された
    キャップとを有し、キャップは、内面にのみ導電性物質
    が被着された絶縁物からなることを特徴とする半導体圧
    力センサ。
JP28982885A 1985-12-23 1985-12-23 半導体圧力センサ Pending JPS62148827A (ja)

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JP28982885A JPS62148827A (ja) 1985-12-23 1985-12-23 半導体圧力センサ

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JP28982885A JPS62148827A (ja) 1985-12-23 1985-12-23 半導体圧力センサ

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JPS62148827A true JPS62148827A (ja) 1987-07-02

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JP28982885A Pending JPS62148827A (ja) 1985-12-23 1985-12-23 半導体圧力センサ

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