JPS62148317A - SiO↓2の精製方法 - Google Patents
SiO↓2の精製方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/02—Pretreated ingredients
- C03C1/022—Purification of silica sand or other minerals
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はSiO2含有水性懸濁液を鉱酸を用いて浸出す
ることによるSiO2の精製方法および本発明記載の方
法により精製したSiO2に関するものである。
ることによるSiO2の精製方法および本発明記載の方
法により精製したSiO2に関するものである。
高純度二酸化ケイ素は多様な用途に、たとえば特別な固
有の吸収を待たず、光に対して高い透過性を示す高純度
ガラスの製造に必要である。他の応用分野は、精製Si
n、と純炭素とからの、アーク炉中での太陽電池用ケイ
素の製造である。この工程にはホウ素およびリンに関し
て高度に純粋な二酸化ケイ素が必要である。すなわち、
どちらの元素もlppm以下でなければならない。高純
度二酸化ケイ素の他の応用分野は、個々の元素による汚
染レベルがここでも最低であるべき石英の製造である。
有の吸収を待たず、光に対して高い透過性を示す高純度
ガラスの製造に必要である。他の応用分野は、精製Si
n、と純炭素とからの、アーク炉中での太陽電池用ケイ
素の製造である。この工程にはホウ素およびリンに関し
て高度に純粋な二酸化ケイ素が必要である。すなわち、
どちらの元素もlppm以下でなければならない。高純
度二酸化ケイ素の他の応用分野は、個々の元素による汚
染レベルがここでも最低であるべき石英の製造である。
ある種の鉱床中に存在する高純度石英のあるもの、たと
えばペグマタイト石英の選別、および火炎加水分解(f
lame hydrolysis)による、または四
塩化ケイ素と酸素とのプラスマトーチ(p I a s
m a t o r c h >中ての反応による
高純度5in2の製造に加えて、他の可能な純二酸化ケ
イ素の製造方法がある。硫酸処理、洗浄および浮i!(
flotation)による砂の製造は、米国特許第4
.401.638号に記載されている。他のSiO2精
製方法は西ドイツ3.215,981.西ドイツ3,1
23゜009および西ドイツ3,123,024に記載
されている。この方法においては、天然産5in2に周
期系の第1乃至第3主族の酸化物または炭酸塩を添加し
てガラスの熔融物を製造し、フィラメントに引き出し、
ついで、任意に焼きもどしくtempering)した
のちに、酸を用いて浸出(Ieach)する。この方法
は高純度のSiO2を与えるが、5in2の1部あたり
数部の環境問題になる金属塩も生成し、後処理に費用が
かかる。
えばペグマタイト石英の選別、および火炎加水分解(f
lame hydrolysis)による、または四
塩化ケイ素と酸素とのプラスマトーチ(p I a s
m a t o r c h >中ての反応による
高純度5in2の製造に加えて、他の可能な純二酸化ケ
イ素の製造方法がある。硫酸処理、洗浄および浮i!(
flotation)による砂の製造は、米国特許第4
.401.638号に記載されている。他のSiO2精
製方法は西ドイツ3.215,981.西ドイツ3,1
23゜009および西ドイツ3,123,024に記載
されている。この方法においては、天然産5in2に周
期系の第1乃至第3主族の酸化物または炭酸塩を添加し
てガラスの熔融物を製造し、フィラメントに引き出し、
ついで、任意に焼きもどしくtempering)した
のちに、酸を用いて浸出(Ieach)する。この方法
は高純度のSiO2を与えるが、5in2の1部あたり
数部の環境問題になる金属塩も生成し、後処理に費用が
かかる。
したがって、費用かかからず環境問題も生ずることなし
に実施し得る5in2の精製方法を開発することには、
かなりの利点がある。
に実施し得る5in2の精製方法を開発することには、
かなりの利点がある。
石英中の金属性不純物は、SiO□に組込まれていなけ
れば、鉱酸により容易に攻撃されるはずである。これら
の不純物はSiO2砂を鉱酸で処理ずればある程度まで
可溶であり、したがって除去することができる。
れば、鉱酸により容易に攻撃されるはずである。これら
の不純物はSiO2砂を鉱酸で処理ずればある程度まで
可溶であり、したがって除去することができる。
驚くべきことには、SiO□の鉱酸中懸濁液に、または
浸出中の鉱酸に一定量のフッ化水素酸を添加することに
より、精製効果が盟著に増加し得ることが見出だされた
。
浸出中の鉱酸に一定量のフッ化水素酸を添加することに
より、精製効果が盟著に増加し得ることが見出だされた
。
したがって、本発明は、SiO2倉有水性懸濁液を鉱酸
を用いて浸出する際に、フッ化水素酸を鉱酸に添加して
浸出することによるSiO□の精製方法に関するもので
ある。この方法により、かなり大きなパーセンテージの
不純物でも浸出を受けられるようになる。フッ化水素酸
は5in2と容易に反応するものなのであるから、Si
O2に対する酸溶液の精製効果が少量のフッ化水素酸の
添加により改良されることは、より一層驚くべきことな
のである。
を用いて浸出する際に、フッ化水素酸を鉱酸に添加して
浸出することによるSiO□の精製方法に関するもので
ある。この方法により、かなり大きなパーセンテージの
不純物でも浸出を受けられるようになる。フッ化水素酸
は5in2と容易に反応するものなのであるから、Si
O2に対する酸溶液の精製効果が少量のフッ化水素酸の
添加により改良されることは、より一層驚くべきことな
のである。
精製効果は個々の所要純度に応じて容易に最適化し得る
。SiO□を微細に分割するほど、特に浸出処理に先立
って磨砕した場合に精製効果が大きくなることが見出だ
された。また、浸出時間を延長しても精製効果は増加し
、約8乃至24時間後に一種の最適状態に達する。ある
種の応用に対しては、僅か1時間後に妥当な精製効果が
達成されるようなことも勿論あり得る。特に良好な浸出
効果は60℃以上の温度で得られる。加えて、溶液に移
動したより価値の高い元素、たとえばTi。
。SiO□を微細に分割するほど、特に浸出処理に先立
って磨砕した場合に精製効果が大きくなることが見出だ
された。また、浸出時間を延長しても精製効果は増加し
、約8乃至24時間後に一種の最適状態に達する。ある
種の応用に対しては、僅か1時間後に妥当な精製効果が
達成されるようなことも勿論あり得る。特に良好な浸出
効果は60℃以上の温度で得られる。加えて、溶液に移
動したより価値の高い元素、たとえばTi。
F e等が加水分解により沈澱することのないように、
浸出処理中は妥当な酸レベルか保たれなけれはならない
。したがって、引き続く洗浄段階においてら、最初は希
薄な鉱酸で洗浄し、続いて、この希薄な鉱酸を相当する
純度の水で置き換えなけれはならない。本発明記載の方
法によりSio2より除去される不純物にはAI、B、
Ca、Cr。
浸出処理中は妥当な酸レベルか保たれなけれはならない
。したがって、引き続く洗浄段階においてら、最初は希
薄な鉱酸で洗浄し、続いて、この希薄な鉱酸を相当する
純度の水で置き換えなけれはならない。本発明記載の方
法によりSio2より除去される不純物にはAI、B、
Ca、Cr。
(、:u、Fe、Mg、P、Ti等が含まれる。
本発明、l;[l!裁の方法において、添加するフッ化
水素酸の量は、十分な効果を挙げるために、一定の]°
α小値を超えていなければならない。僅か0.51:l
、;ヅB’j5加であっても本発明記載の特定の精製効
果を開始するのに、また、フッ化水素酸を添加しない場
合に得られるものよりも良好な浸出結果を与えるのに十
分である。フッ化水素酸が精製すべき二酸化ケイ素と反
応し、SiO2が六フッ化ケイ素酸に転化するので、可
能な限り少量のフッ1ヒ水素酸で所望の精製効果を得る
ための、あらゆる努力がなされなければならない。5i
Ozを基準にして6%までのHFの添加が妥当であるこ
とが実証されている。より多量を添加しても精製効果に
は極めて僅かの改良が生ずるのみであり、経済的理由か
らも6%HFを超えない添加が推奨される。
水素酸の量は、十分な効果を挙げるために、一定の]°
α小値を超えていなければならない。僅か0.51:l
、;ヅB’j5加であっても本発明記載の特定の精製効
果を開始するのに、また、フッ化水素酸を添加しない場
合に得られるものよりも良好な浸出結果を与えるのに十
分である。フッ化水素酸が精製すべき二酸化ケイ素と反
応し、SiO2が六フッ化ケイ素酸に転化するので、可
能な限り少量のフッ1ヒ水素酸で所望の精製効果を得る
ための、あらゆる努力がなされなければならない。5i
Ozを基準にして6%までのHFの添加が妥当であるこ
とが実証されている。より多量を添加しても精製効果に
は極めて僅かの改良が生ずるのみであり、経済的理由か
らも6%HFを超えない添加が推奨される。
したがって、5iOzを基準にして0.5乃至6%HF
の量でフッ化水素酸を添加する本発明記載の方法の具体
例が特に好ましい。0.5乃至6%のHFを用いる場合
にはSiO2の損失は0125乃至2.5重量%に過ぎ
ず、コストの面でも無視し得る。これよりかなり多量の
フッ化水素酸を用いるならば、生成した六フフ化ケイ素
酸をSiO□に戻すための後処理が必要になる。
の量でフッ化水素酸を添加する本発明記載の方法の具体
例が特に好ましい。0.5乃至6%のHFを用いる場合
にはSiO2の損失は0125乃至2.5重量%に過ぎ
ず、コストの面でも無視し得る。これよりかなり多量の
フッ化水素酸を用いるならば、生成した六フフ化ケイ素
酸をSiO□に戻すための後処理が必要になる。
六フッ化ケイ素酸から塩基、たとえばNHl。
N a OHまたはAI(○H)、を用いて5iOzを
沈澱させてもよく、Na2S i F、を沈澱させ、続
いて加熱することによりSiF+を製造してもよい。S
iO2もS ’i F 、も純粋な形状で得られ、続い
て、それぞれ炭素またはアルミニウムおよびナトリウム
で還元して、元素状のケイ素を得ることができる。生成
したフッ化物はフ・〉・化水素酸製造用の原料として用
いることもでき、また氷晶石に転化させろこともできる
。本発明記載の酸混合物(常にフッ死水″#酸を含有し
なければならない)を用いる5in2の酸浸出は、汚染
元素が局所的に高濃度になるのを避けるために、好まし
くは撹拌しながら、または自流中で行なう。向流浸出は
技術的には特に効果的な方法であり、酸の極めて効率的
な利用が可能になる。種々の点で消費されるHFの添加
により、浸出すべきSiO2と鉱酸との量比が改善され
る。
沈澱させてもよく、Na2S i F、を沈澱させ、続
いて加熱することによりSiF+を製造してもよい。S
iO2もS ’i F 、も純粋な形状で得られ、続い
て、それぞれ炭素またはアルミニウムおよびナトリウム
で還元して、元素状のケイ素を得ることができる。生成
したフッ化物はフ・〉・化水素酸製造用の原料として用
いることもでき、また氷晶石に転化させろこともできる
。本発明記載の酸混合物(常にフッ死水″#酸を含有し
なければならない)を用いる5in2の酸浸出は、汚染
元素が局所的に高濃度になるのを避けるために、好まし
くは撹拌しながら、または自流中で行なう。向流浸出は
技術的には特に効果的な方法であり、酸の極めて効率的
な利用が可能になる。種々の点で消費されるHFの添加
により、浸出すべきSiO2と鉱酸との量比が改善され
る。
本件方法を回分法で行なうならば、SiO2の酸に対す
る量比を一定に保つことが推奨される。
る量比を一定に保つことが推奨される。
濡れを均一にし、混合を十分にするために、この比はに
1乃至1,4に調節する。SiO2の酸に対する量比1
・25で、容易に撹拌でき、かつ極めて良好な精製効果
を有する懸濁液を得ろことが可能である。本件方法はま
た勿論、好ましくは共沸HCIを用い、これに少址のト
I Fを連続的に添加する抽出工程として実施する場合
にも、極めて良好な浸出結果が得られる。
1乃至1,4に調節する。SiO2の酸に対する量比1
・25で、容易に撹拌でき、かつ極めて良好な精製効果
を有する懸濁液を得ろことが可能である。本件方法はま
た勿論、好ましくは共沸HCIを用い、これに少址のト
I Fを連続的に添加する抽出工程として実施する場合
にも、極めて良好な浸出結果が得られる。
浸出効果はHFを添加する時期によっては影響を受けな
い。SiO2の精製にフッ化水素酸を含有する鉱酸を最
初から用いるか、または5jO2−鉱酸懸濁液を最初に
製造し、続いてこれにl−Tl’を添加するかには関係
なく、フッ化水素酸を添加しない場合よりも常に良好な
精製が得られろ。
い。SiO2の精製にフッ化水素酸を含有する鉱酸を最
初から用いるか、または5jO2−鉱酸懸濁液を最初に
製造し、続いてこれにl−Tl’を添加するかには関係
なく、フッ化水素酸を添加しない場合よりも常に良好な
精製が得られろ。
精製効果は鉱酸の選択にもある稈度依存する。
塩酸、@酸、および硝酸を単独で、まt:は混合物で用
いると、好ましい結果が得ちれる。環境的および経済的
要求の点からも、これら3種の酸の1つが選択される。
いると、好ましい結果が得ちれる。環境的および経済的
要求の点からも、これら3種の酸の1つが選択される。
これらの酸の沸点か寮なるために、加えるべき温度も異
なる。
なる。
5in2の単位重量あたりに要求さtする酸の量を最少
にするために、酸の再循環も考慮し得る。
にするために、酸の再循環も考慮し得る。
これは塩酸を再使用する前に、または浸出工程中に再添
加する場合に可能である。この場合には、酸を再生段階
に導入する前に数回のサイクルを完了させマ拝る。
加する場合に可能である。この場合には、酸を再生段階
に導入する前に数回のサイクルを完了させマ拝る。
本発明はまた、鉱酸を用いる浸出により精製しな、30
0 p p m未満の金属性不純物を片h゛するSiO
2に関するものである。
0 p p m未満の金属性不純物を片h゛するSiO
2に関するものである。
本発明の記載に従って得られる精製効果は下記実施例に
より示されるが1本件方法のこれらの態様はいかなるも
のであれ、本発明を限定するものと見てはならない。
より示されるが1本件方法のこれらの態様はいかなるも
のであれ、本発明を限定するものと見てはならない。
実施例 1
用いた処理容器は十分に絶縁した60リツトルのプラス
チック製ふた付き容2:)であり、プロペラ撹拌機、凝
縮器および閉光可能な導入管を備えている。
チック製ふた付き容2:)であり、プロペラ撹拌機、凝
縮器および閉光可能な導入管を備えている。
酸処理には25.3%塩酸2Q、”ikgを処理容器に
導入し、続いて二酸化ケイ+15.0kgして容器の内
容物を80℃に加熱1−1その後、40.0%のフッ化
水素酸約5.0kgを10分間かけて添加した。容器に
は、凝縮した水29kgを含めて、20.0%のI−1
c +と53%のHFとを含有する混合酸37.5kg
が人っていた。5in2の酸に対する量比は1・2.5
であった。この混合物を32℃に冷却しながら21時間
撹拌した。プラスチック製真空濾過器内で、炉布110
℃で予備乾燥し、さらに24時間2 ’) 0 ’Cに
保った。二酸化ケイ素13.fQkgが得られた。
導入し、続いて二酸化ケイ+15.0kgして容器の内
容物を80℃に加熱1−1その後、40.0%のフッ化
水素酸約5.0kgを10分間かけて添加した。容器に
は、凝縮した水29kgを含めて、20.0%のI−1
c +と53%のHFとを含有する混合酸37.5kg
が人っていた。5in2の酸に対する量比は1・2.5
であった。この混合物を32℃に冷却しながら21時間
撹拌した。プラスチック製真空濾過器内で、炉布110
℃で予備乾燥し、さらに24時間2 ’) 0 ’Cに
保った。二酸化ケイ素13.fQkgが得られた。
実施例 2(比較例)
実施例1の手順に従い、フッ化水素酸を全く添加してい
ない20%塩酸37.5kg中で15.0kI?の二酸
化ケイ素を98℃に加熱し、24時間撹拌し、401の
脱イオン水で洗浄し、予備乾燥したのち、200℃で2
4時間乾燥した。
ない20%塩酸37.5kg中で15.0kI?の二酸
化ケイ素を98℃に加熱し、24時間撹拌し、401の
脱イオン水で洗浄し、予備乾燥したのち、200℃で2
4時間乾燥した。
実施例 3
実施例1の手順に従い、20.0%のHCIと2.3%
のHFとを含有する混合酸37.5kg中で15.0k
gの二酸化ケイ素を98℃に加熱し、17.5時間撹拌
1−150 1の脱イオン水で洗浄し、110℃で65
時間乾燥した。
のHFとを含有する混合酸37.5kg中で15.0k
gの二酸化ケイ素を98℃に加熱し、17.5時間撹拌
1−150 1の脱イオン水で洗浄し、110℃で65
時間乾燥した。
実施例 4
実施例1の手1;1σに従い、フッ化水@酸を全く添加
していない25%硫酸20kg中で8.0kgの二酸化
ケイ素を87℃に加熱し、2325時間撹拌し、401
の脱イオン水で洗浄し、予備乾燥したのちに、200℃
で16時間乾燥した。
していない25%硫酸20kg中で8.0kgの二酸化
ケイ素を87℃に加熱し、2325時間撹拌し、401
の脱イオン水で洗浄し、予備乾燥したのちに、200℃
で16時間乾燥した。
実施例 5
実施例4の手順に従い、25%のH2S O4と1.2
%のHF(SiO2を基準にしテ3%)11Fに相当)
とを含有する混合酸20kg中で8.0kgの二酸化ケ
イ素を80℃に加熱し、28.5時間撹拌し、1301
の脱イオン水で洗浄し、予備乾燥したのち、700℃で
67時間乾燥する。
%のHF(SiO2を基準にしテ3%)11Fに相当)
とを含有する混合酸20kg中で8.0kgの二酸化ケ
イ素を80℃に加熱し、28.5時間撹拌し、1301
の脱イオン水で洗浄し、予備乾燥したのち、700℃で
67時間乾燥する。
−フ1 = =
二1
1 −。
エ +−40
; l 呂 k
=
叡 駅
実施例 6
実施例1の手順に従い、フッ化水索酸を全く添加してい
ない30%硝酸20kg中で8.01<gの二酸化ケイ
素を85℃に加熱し、27.75時間撹拌し、1201
の脱イオン水で洗浄し、予備乾燥したのち、200℃で
17時間乾燥した。
ない30%硝酸20kg中で8.01<gの二酸化ケイ
素を85℃に加熱し、27.75時間撹拌し、1201
の脱イオン水で洗浄し、予備乾燥したのち、200℃で
17時間乾燥した。
ヌ メ
実施例 7
実施例6の手順に従い、30%の)l N O、と1.
2%のHF(SiO2を基準にして3%のHFに相当)
とを含有する混合酸20kg中で8.0kgの二酸化ケ
イ素を88℃に加熱し、27.75時間撹拌し、予備乾
燥したのち、200℃で63.5時間軸燥しな。
2%のHF(SiO2を基準にして3%のHFに相当)
とを含有する混合酸20kg中で8.0kgの二酸化ケ
イ素を88℃に加熱し、27.75時間撹拌し、予備乾
燥したのち、200℃で63.5時間軸燥しな。
実施例 8
実施例1と比較するために、20%の)ICIと0.8
のトIF (S l 02を基準にして2%の)−IF
に相当)とを含有する混合酸に、二酸化ケイ素を1:2
.5の量比で混入した。98℃に加熱し、21時間処理
したのちに、この混合物を901の脱イオン水で洗浄し
、予備乾燥したのち、200℃で24時間乾燥した。
のトIF (S l 02を基準にして2%の)−IF
に相当)とを含有する混合酸に、二酸化ケイ素を1:2
.5の量比で混入した。98℃に加熱し、21時間処理
したのちに、この混合物を901の脱イオン水で洗浄し
、予備乾燥したのち、200℃で24時間乾燥した。
碍 −〜 −
fj l e 3 N
実施例 9
精製効果のフッ化水素酸濃度に対する依存性を試験する
ために、実施例1と同様な方法で、フッ化水素酸を種々
の址で添加して、塩酸中に二酸化ケイ素を1:1の量比
で混入し、65℃で1時間撹拌し、脱イオン水で洗浄し
、130℃で乾燥した。
ために、実施例1と同様な方法で、フッ化水素酸を種々
の址で添加して、塩酸中に二酸化ケイ素を1:1の量比
で混入し、65℃で1時間撹拌し、脱イオン水で洗浄し
、130℃で乾燥した。
−代 理 人 弁
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、SiO_2含有水性懸濁液を鉱酸を用いて浸出こと
によるSiO_2の精製方法において、SiO_2含有
懸濁液をフッ化水素酸と他の鉱酸との混合物を用いて浸
出することを特徴とする方法。 2、フッ化水素酸がSiO_2を基準にして0.5乃至
6%のHFであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の方法。 3、浸出を60℃以上の温度で行うことを 特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 4、上記他の鉱酸が塩酸、硝酸、硫酸またはこれらの混
合物であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の方法。 5、特許請求の範囲第1項記載の方法により得られる3
00ppm未満の金属不純物を含有する精製SiO_2
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19853545610 DE3545610A1 (de) | 1985-12-21 | 1985-12-21 | Verfahren zur reinigung von sio(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts) |
| DE3545610.8 | 1985-12-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62148317A true JPS62148317A (ja) | 1987-07-02 |
Family
ID=6289272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61299027A Pending JPS62148317A (ja) | 1985-12-21 | 1986-12-17 | SiO↓2の精製方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0230582A1 (ja) |
| JP (1) | JPS62148317A (ja) |
| DE (1) | DE3545610A1 (ja) |
| NO (1) | NO864957L (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103539129A (zh) * | 2013-10-30 | 2014-01-29 | 武汉大学 | 一种二氧化硅的提纯方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4123286C2 (de) * | 1991-07-13 | 1994-03-31 | Reinhard Knof | Vorrichtung zur Behandlung von kristallinem Siliziumdioxid-Granulat |
| US5438129A (en) * | 1993-09-27 | 1995-08-01 | Becton Dickinson And Company | DNA purification by solid phase extraction using partially fluorinated aluminum hydroxide adsorbant |
| US5853685A (en) * | 1996-08-28 | 1998-12-29 | Erickson; William R. | Process for the production of high purity silica from waste by-product silica and hydrogen fluoride |
| MA56293B1 (fr) * | 2022-04-12 | 2024-04-30 | Univ Mohammed Vi Polytechnique | Silice purifiee a partir de sous-produit industriel et son utilisation comme composant d’anode pour batteries lithium-ion |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5540545A (en) * | 1978-09-16 | 1980-03-22 | Mediks Kk | Artificial net inside system device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE512563A (ja) * | ||||
| GB1156066A (en) * | 1967-03-23 | 1969-06-25 | Pilkington Brothers Ltd | Improvements in or relating to the Production of Powdered Cristobalite. |
-
1985
- 1985-12-21 DE DE19853545610 patent/DE3545610A1/de not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-12-08 EP EP86117012A patent/EP0230582A1/de not_active Withdrawn
- 1986-12-09 NO NO864957A patent/NO864957L/no unknown
- 1986-12-17 JP JP61299027A patent/JPS62148317A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5540545A (en) * | 1978-09-16 | 1980-03-22 | Mediks Kk | Artificial net inside system device |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103539129A (zh) * | 2013-10-30 | 2014-01-29 | 武汉大学 | 一种二氧化硅的提纯方法 |
| CN103539129B (zh) * | 2013-10-30 | 2015-11-11 | 武汉大学 | 一种二氧化硅的提纯方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO864957D0 (no) | 1986-12-09 |
| NO864957L (no) | 1987-06-22 |
| DE3545610A1 (de) | 1987-06-25 |
| EP0230582A1 (de) | 1987-08-05 |
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