JPS62146902A - オレフイン不飽和側鎖基を有するポリビニルアルコ−ルおよびその製造方法およびそれにより製造されたオフセツト印刷版 - Google Patents

オレフイン不飽和側鎖基を有するポリビニルアルコ−ルおよびその製造方法およびそれにより製造されたオフセツト印刷版

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JPS62146902A
JPS62146902A JP28221786A JP28221786A JPS62146902A JP S62146902 A JPS62146902 A JP S62146902A JP 28221786 A JP28221786 A JP 28221786A JP 28221786 A JP28221786 A JP 28221786A JP S62146902 A JPS62146902 A JP S62146902A
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methylolamide
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ギュンター、シュルツ
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、オレフィン不飽和側鎖基を有する改善したポ
リビニルアルコール、オレフィン不飽和カルボン酸のN
−メチロールアミドと反応させヒドロキシル基を一部エ
ーテル化してこのポリビニルアルコールを簡単に作る方
法、およびそれにより作られた印刷版用、レリーフ版用
ま・たはレジストパターン用および特にオフセット印刷
版用の感光記録材料に関する。
従来技術 例えばドイツ連邦共和国特許出願公開第3144905
号明細書または特開昭54−135 526号公報によ
れば、無水物またはメチロールアミドのようなオレフィ
ン不飽和化合物によりヒドロキシル基を一部エステル化
またはエーテル化して導入されたオレフィン不飽和側鎖
基を有するポリビニルアルコールを、印刷版のためまた
はスクリーン印刷原板のため使用することは公知である
しかしながら水性溶媒、特に水による所望の溶解度また
は洗浄能力を備えたこのようなポリビニルアルコールの
再現可能な、簡単かつ合理的な製造はまだ満足すべきと
ころに至っておらず、このことは、例えばオフセット印
刷板の記録材料に使用した場合はっきりと現れる。
発明の目的 本発明の課題は、再現可能に所望の特性を示すオレフィ
ン不飽和側鎖基を有するポリビニルアルコールを簡単か
つ合理的に製造することにあり、このことは、特に光重
合可能なまたは光調状化可能な記録材料に結合剤として
使用するために特に重要である。
発明の構成 オレフィン不飽和側鎖基を有し水性溶媒に溶解するポリ
ビニルアルコールは、エーテル化触媒の存在するところ
で、オレフィン不飽和カルボン酸の場合によってはエー
テル化またはエステル化したN−メチロールアミドによ
り水性溶媒に溶解する場合によっては変形したポリビニ
ルアルコールをエーテル化することにより、次のように
して特に有利に製造できることがわかった。すなわち反
応物を含む薄い固体層、なるべくマクロに均一な層をほ
ぼ150℃以下の温度、なるべくほぼ4,〇一100℃
の温度に加熱し、エーテル化触媒の存在するところで場
合によってはエーテル化またはエステル化した1−1 
5 0重量%の、特に5−100重重量のN−メチロー
ルアミドとポリビニルアルコールを反応させ、その際パ
ーセンテージは、(反応前の)ポリビニルアルコールの
量に対するものである。
本方法は、とりわけ有利にもポリビニルアルコールの反
応物がそれ程過剰に存在せず、がっエーテル化反応がか
なりの程度まで水と溶媒を除去した媒体中で、かつそれ
にもかがわらず実質的に均一に行われるという点で、不
飽和化合物によりポリビニルアルコールをエーテル化す
る公知の方法とは相違しており、その際エーテル化生成
物は、有利にも高い収率でかつ再現可能な特性を持って
得られる。
本発明による方法を有利に実施する際、ポリビニルアル
コール、N−メチロールメタクリルアミドのようなオレ
フィン不飽和カルボン酸のN−メチロールアミド、リン
酸のようなエーテル化触媒およびなるべく熱重合禁止剤
の混合物の水性溶媒中、の溶液を、支持体上に注入して
均一なフィルムとし、かつこれを乾燥する。その際存在
する水は、メチロール基との反応に関してポリビニルア
ルコールのヒドロキシル基と競合するので、ポリビニル
アルコールのエーテル化は極めてわずかしか起こらない
。この競合反応は所望の反応を妨害するが、エーテル化
反応に不可逆的な損失を生じるわけではない。なぜなら
メチロール基の反応は水と同じメチロール基を与えるか
らである。この特続いて150°C以下の、なるべく4
0−100°Cの温度でかなりの程度まで水を除去した
フィルムを熱処理すれば、反応平衡は、ポリビニルアル
コールの所望のエーテル化生成物の側へ大幅に移すこと
ができ、かつエーテル化生成物または反応したN−メチ
ロールアミドの収率が増加する。フィルムの熱処理の際
、エーテル化の際に生じた水を、例えば負圧の形成によ
り乾燥させることは有利であり、それにより所望の反応
生成物の収率をさらに増加できる。エーテル化生成物の
収率は、一般に使用したN−メチロールアミドに対して
ほぼ30−70重量%である。
本発明による方法および処理生成物の特別な利点は、実
際に均一に経過する反応中に、分子内に共重合可能なま
たは光網状化可能なオレフィン不飽和側鎖基が極めて均
一に分散した処理生成物が得られるということにあり、
このことは、一方では網状化していない状態のエーテル
化ポリビニルアルコールの溶解度に、また他方において
光網状化した状態の処理生成物の耐噴流性に有利に作用
する。
N−メチロールアミド化合物の量、温度および加熱期間
、および生じた反応水の除去に関する選ばれた反応条件
に応じて、結果としてエーテル化したポリビニルアルコ
ールは、はぼ1−40重量%、特に10−25重量%の
側部にある一CH2−NH−Co−R一群を含んでいる
反応していないN−メチロールアミド化合物は、必要な
らば例えば透析によりエーテル化ポリビニルアルコール
から分離できる。
本発明による方法の極めて有利な別の実施形態において
、反応は、光重合開始剤、熱重合禁止剤の存在するとこ
ろで、かつ場合によっては別の、なるべくビニルアルコ
ール構造体とは反応しない光重合可能な少なくとも1つ
のオレフィン不飽和化合物の存在するところで行うこと
ができ、その際反応中にはそれ程の重合が行われないよ
うにし、すなわち反応の際に生じる混合物がまだ水性溶
媒または水中で現像でき、または光重合可能な混合物の
使用を妨げる網状化が始まらないようにする。このこと
は、特に熱重合禁止剤の種類と量、使用したモノマーの
種類、および反応温度の選択により制御でき、その際十
分な耐熱性を有する光重合開始剤をいっしょに使用する
ことを前提とするこ゛とは明らかである。この反応の際
にオレフィン不飽和カルボン酸の場合によってはエーテ
ル化またはエステル化したN−メチルアミドを多量に使
用すると、光重合可能な混合物中に光重合可能なモノマ
ーとして反応しない成分が残ることがある。ポリビニル
アルコール、N−メチロールアミド、酸性エーテル化触
媒、光重合開始剤、熱重合禁止剤、および場合によって
は付加的なモノマーおよび色素、軟化剤等のような通常
の添加物の混合物から、場合によってはラッカを塗った
ーまたはアルミニウム板、ポリエステルフィルム等のよ
うな適当な支持体上に、注入または押し出しにより感光
層を作ることができ、これら感光層は、乾燥後、例えば
このようにして作られる感光印刷版の所望の特性および
用途に応じて、所望の程度のエーテル化反応に達するま
で、加熱により反応を、すなわちポリビニルアルコール
とN−メチロールアミド間のエーテル化反応を行うこと
ができる水性溶媒に溶解するポリビニルアルコールとし
ては、ビニルエステル−ポリマーまたは一コポリマーか
らけん化、部分けん化またはエステル交換によって製造
できるような、10 kg/mol−1000kg/m
ol、特に15 kg/II+ol−50kg/mol
の分子量を有するなるべく水溶性のポリビニルアルコー
ルが考えられる。一般にけん化度は60−99、特に7
5−75−9O%である。ビニルアルコール−構造ユニ
ット以外の残基は、ビニルエステル構造ユニット、特に
ビニルアセテート−またはビニルプロピオネート−構造
ユニットであると有利であるが、例えばビニルエステル
−構造ユニットがけん化しまたはエステル交換している
場合には、または前にビニルアルコール−構造ユニツ1
へが、その他に別の基を導入するように反応した場合、
すなわち変形ポリビニルアルコールを作った場合、別の
基であってもよい。水または水−アルコール−混合物中
で十分な溶解度を有するならば、例えばドイツ連邦共和
国特許第1081225号明細書および第109445
7号明細書またはドイツ連邦共和国特許出願公開第28
46647号明細書に記載されたような、けん化、一部
けん化またはエステル交換したポリアルキレン酸化物−
ビニルエステル−グラフトコポリマーも良好に適してい
る。
オレフィン不飽和カルボン酸の場合によってはエーテル
化またはエステル化したN−メチロールアミドとしては
、オレフィン二重結合が光重合可能、光共重合可能また
は光網状化可能であるようなものが考えられる。クロト
ン酸、マレイン酸およびなるべくアクリル−およびメタ
クリル酸のように、3−10、なるべく3−4のC原子
を有するオレフィン不飽和カルボン酸の相応したN−メ
チロールアミドが特に適当である。N−ヒドロキシメチ
ル−またはN−メチロール基も、エーテル化またはエス
テル化でき、例えばN−メトキシメチル基またはN−エ
トキシメチル基を形成する。
N−メチロールアクリル−および−メタクリルアミドは
有利に使われる。オレフィン不飽和カルボン酸のN−メ
チロールアミドの量は、1−1.50重量%、特に5−
100重量%であり、光重合可能な層内で光重合開始剤
および場合によっては別のモノマーが存在するところで
反応を行う場合には、5−30重量%とすると有利であ
る。
エーテル化触媒としては、酸性無機化合物のような周知
の、なるべく酸性のエーテル化触媒が使用できる。例え
ば無側り特にリン酸、または無機酸の酸性塩、例えば硫
酸水素ナトリウムまたはVfLlu二水素ナトリウムが
挙げられる。有機強酸、特にフタル酸、p−ドルオール
スルホン酸またはオキサル酸も適している。リン酸およ
び芳香属スルホン酸は有利である。これらは、一般に反
応物の量の0.1−5重量%、なるべく0.5−3重量
%の量で使用する。
薄い固体層を150℃以下、特に40−100℃の温度
に加熱する期間は、反応物の種類と量、エーテル化触媒
の種類と量、ポリビニルアルコールのエーテル化度、お
よびなるべくマクロ的に均一であるようにする層内の別
の化合物の存在に応じて決まり、かつ一般にほぼ10分
〜はぼ3時間である。この期間は、所定の反応成分およ
び条件における簡単な予備実験によりわけなくつきとめ
ることができる。一般に反応は、がなりの程度まで水を
除去した層内で行われ、この層には、反応物用の無機お
よび特に有機溶媒もそれ程加えられていない。反応の際
に生じる水は、なるべく反応中に取り除く。
ポリマー処理生成物は、周知のように、例えば透析によ
り存在する低分子化合物から分離でき、かつ処理でき、
かつ例えば赤外線スペクトルまたは水素添加ヨウ素数の
測定により特性を調べることができる。
本発明による反応のための光重合可能な層の別の成分、
例えば熱重合禁止剤、光重合開始剤に関して、別の光重
合可能な化合物に関して、その他の添加物、例えば色素
または軟化剤に関して、または層支持体に関して、およ
び形成された光重合可能または光網状化可能な記録材料
の後続処理および用途に関しては、ドイツ連邦共和国特
許出願公開節3144905号、第3322994号明
細書、およびヨーロッパ特許出願公開箱71236号明
細書を参照されたい。
ポリマー結合剤としてオレフィン不飽和側鎖基を含む本
発明により製造されたポリビニルアルコールによれば、
周知のように有利な感光記録材料が製造でき、かつレリ
ーフ印刷版のようなレリーフ版、特にオフセット印刷版
に加工できる。像に応じて露光した後に未露光層成分は
、なるべく水により良好に洗浄可能であり、露光した層
成分は、改善された網状化密度により印刷版の現像の際
大きな耐噴流性を有する。水現像可能なオフセット印刷
版の製造に対する適性は、注目に値するものである。
実施例の説明 次に例により本発明を説明する。例に挙げた部およびパ
ーセントは、特にことわらない限り重量を表すものとす
る。容積部封部は、リットル対キログラムと同じである
例1 100部のポリビニルアルコール(ケン化ポリビニルア
アセテート;分子量はぼ20 kg/mol ;けん化
度はぼ80mo1%)を130部の水に溶解する。2部
の2.6−ジー第3ブチル−4−メチル−フェノール、
2部の69%水溶液リン酸および18.7部のN−メチ
ロールアクリルアミドを、溶液に加え、かつ溶解する。
その結果得られた溶液を、はぼ1.5+amの厚さのフ
ィルムになるように注入し、かつこのフィルムを室温で
乾燥する。
続いてこのフィルムを100℃で1部2時間熱処理する
。このフィルムを小さな片に分割し、9倍の量の0.0
7%力性ソーダ水溶液に溶解し、かつ透析により未反応
N−メチロールアクリルアミドを分離する。その結果得
られたポリマー溶液は、はぼ15μmの乾燥厚のフィル
ムになるように注入する。このフィルムの赤外線スペク
トルは、1650.1620および1520 c+n 
exp(−1>のところにアクリルアミド−基のスペク
l〜ル帯を示す。1620 cm exp(−1)の帯
は、C−C二重結合に相当するものであり、吸光はほぼ
8 mm exp(−])である。メチロールエーテル
基の収率は、反応生成物中のほぼ10%の−CH2−N
H−Co−CH= CH2一群の含有量に相当し、N−
メチロールアクリルアミドに対して62%である。
例2 例1により作られた78部の変形ポリビニルアルコール
を、0,5部の水酸化ナトリウムおよび0.2部のN−
ニトロソシクロへキシルヒドロキシルアミンのカリウム
塩と共に104部の水に溶解する。溶液に、37部のn
−プロパツール、25部の1.2−ビス−(アリルアミ
ドメチロキシ)−エタン、1.2部のベンジルジメチル
ケタルおよび002部のドウアシン バージシュ ロー
ト TH(C,1,50240)を加える。その結果得
られる溶液を、鋼板上にほぼ1.5mmの厚さの層にな
るように注入し、かつ室温で乾燥する。それから層は、
通常のように陰画の下で像に応じて露光され、かつ未露
光層成分をほぼ40°Cの水で洗い流す。露光した層成
分は、良好な耐洗浄性および耐噴流性の点で優れており
、かつその結果得られたレリーフは、印刷の際の良好な
機械的特性の点で優れている。
例3 例1と同様に処理したが、2,6−ジー第3ブチル−4
−メチルフェノールの代わりに、0.3部のN−ニトロ
ンシクロへキシルヒドロキシルアミンのカリウム塩を使
用し、かつ注入したフィルムを窒素により100℃で1
時間熱処理する。薄いポリマーフィルムの赤外線スペク
トルは、1゛620 cm exp(−1)のところに
ほぼ17mm exp (−1)の吸光を示した。その
結果得られた反応生成物はほぼ’19.5重I#γの−
CIJ−−Ml−J−pc>−CI(= CI−12一
群を含んでいる。
例4 例1と同様に処理したが、はぼ25 kg/molの分
子量と88%のけん化度を有する100部のポリビニル
アルコール、および22.8部のN−メチロールメタク
リルアミドを使用する。その結果得られた薄いポリマー
フィルムの赤外線スペクトルは、1620 cm ex
p(−])のところにほぼ9+n+++exp(−1)
の吸光を示した。その結果得られた反応生成物は、はぼ
11重量%(7)  CH2NH−Co−C(CH3)
 −CH2一群を含んている。収率は、使用したN−メ
チロールメタクリルアミドに対して50mo1%である
例5 例1と同様に処理したが、はぼ25 kg/molの分
子量とほぼ82mo1%のけん化度を有する1、 00
部のポリビニルアルコール、および10.7部のN−メ
チロールメタクリルアミドを使用する。その結果得られ
る薄いポリマーフィルムの赤外線スペクトルは、1.6
20 mm exp(−])のところにほぼ7mmex
p(川)の吸光を示す。反応生成物は、はぼ8重量%−
CH2N HCOC(CH3) −CH2一群を含んで
いる。
例6 例1と同様に処理したが、ポリエチレンオキシドをベー
スにしたビニルアセテートの部分けん化した100部の
グラフトコポリマーを使用し、その際このコポリマーは
、はぼ25%のオキシエチレン基の成分およびほぼ24
 kg/molの総合分子量を有し、かつこのコポリマ
ーではほぼ80mo1%までアセテート基かけん化して
いる。さらに14.5部のN−メチロールメタクリルア
ミド、およびエーテル化触媒として2部のp−)ルオー
ルスルポン酸を使用する。その結果得られた薄いポリマ
ーフィルムの赤外線スペクトルは、1620c+nex
p(−1)のところにほぼ18 mm exp(−])
の吸光を示した。
例7 例6により製造した78部の変形グラフトコポリマーを
例2と同様に処理してレリーフ印刷版にしたが、支持体
としてアルミニウム板を使用゛した。凸版は、さらに長
く貯蔵した後にもわずかなもろさしか示さない。
例8 67部の80mo1%けん化ポリビニルアセテート(分
子量はぼ20 kg/mol) 、1 、5部のp−ド
ルオールスルホン酸、0.5部のN−ニトロソシクロへ
キシルヒドロキシルアミンのカリウム塩、30部のN−
メチロールアクリルアミド、1.2部のベンジルジメチ
ルケタル、0.02部のドウアシン バージシュ ロー
ト TH(C,I。
50240) 、および0.03部のロダミン B(C
I 、  451170 )を、170部の水に溶解す
る。
溶液を、支持体としてのアルミニウム板上に注入して1
−2mmの厚さの層とし、かつ室温で乾燥する。それか
らこのようにして作った原板をほぼ1.5時間にわたっ
て90℃に加熱する。板は、それから像に応じて紫外線
で露光し、かつ水で洗浄する。その結果得られた印刷レ
リーフは、露光範囲において極めて良好な耐噴流性およ
び良好な機械的特性を示した。
例9 例8と同様に処理したが、ここに示したけん化ポリビニ
ルアセテートの代わりに、ポリエチレンオキシドをベー
スにしたビニルアセテ−I・の77部のグラフトコポリ
マー(分子量はぼ35 kg/mol)を使用し、その
際このコポリマーのアセテート基はほぼ80mo1%ま
でけん化しており、かつエチレンオキシド−ユニットの
割合は25%であり、またN−メチロールアクリルアミ
ドの代わりに20部のN−メチロールメタクリルアミド
を使用し、かつp−)ルオールスルホン酸の代わりに、
エーテル化触媒として1.5部の69%リン酸水溶液を
使用する。その結果得られた印刷レリーフは、長期間貯
蔵した後にももろくならず、がっ良好な機械的特性を有
する。像に応じて露光した版の洗浄は、薄めた重炭酸ナ
トリウム水溶液で行われる。
例10 アセテート基がほぼR5mo1%寸て・けZ、イl/+
たボリエヂレンオキシドをベースにしたビニルアセテー
トの100部のグラフトコポリマーを、0゜25部の2
,6−ジー第3ブチル−4−メチルフェノールと共に1
75部の水に溶解し、かっこの溶液に、0.04部のN
−ニトロソシクロへキシルヒドロキシルアミンのカリウ
ム塩、33部のN−メチロールメタクリルアミド、およ
び1.3部のリン酸を加える。注入および乾燥によりア
ルミニウム板上にこの溶液から作った1−2、mmの厚
さのフィルムを2時間80℃で熱処理する。その結果得
られた生成物の赤外線スペクトルは、1625 cm 
exp(−1)のところにほぼ1 ]、 mm exp
(−1)の吸光を示した。
例11 ポリビニルアセテートがら作った45部の水溶性ポリビ
ニルアルコール(けん化℃83mo1%。
分子量25 kg/mol> 、35部のN−メチロー
ルアクリルアミド、7.5部のベンジルジメチルケタル
、0.5部のリン酸、および1部のロダミンB(C,I
。45]70)を、水−イツブロバノール(70: 3
0)混合物に溶解して10%溶液とする。溶液は、オフ
セットタイプのアルミニウム板上に注入し、溶媒混合物
に通気しかつ乾燥した層を80℃で15分間熱処理した
後、2.0μmの厚さの層が形成されるようにする。こ
のようにして作られたオフセット印刷版は、1m離した
3部wのハロゲン化物高圧フィラメントによって標準陰
画を通して像に応じて25秒間露光し、かつそれから流
通洗浄器内で7のpH値を有する流水により25秒間現
像する。通常のゴム被覆の後にこのようにして得られた
オフセット印刷版によれば、オフセット印刷機において
優れた印刷結果が得られ、その際長い印刷時間の後にも
磨耗のこん跡は認められなかった。
例12 ポリビニルアセテートから作った43部のポリビニルア
ルコールくけん化度80mo1%;分子量はぼ20 k
g/mol) 、43部のN−メチロールアクリルアミ
ド、5部の1.1.1−)リメチロールプロパンートリ
アクリレート、7部のベンジルジメチルケタル、0.2
部のN−ニトロソ−シクロへキシルヒドロキシルアミン
、0.5部の69%リン酸水溶液、1部のベンガル−ロ
ーザ(C,T、  45440) 、および0.5部の
ロダミンB(C。
1、 45170)を、例11と同様に水−イツブロバ
ノール(70: 30)混合物に溶解し、かつ溶液と支
持体により、例11と同様にオフセット印刷原板とオフ
セラ)・印刷版を作る。像に応じて露光されたオフセッ
ト印刷版は、良好な耐洗浄性および洗浄水(pHはぼ4
.5−5.5>に対する耐久性の点で優れている。オフ
セット印刷版の機械的特性とオフセット印刷原板の感度
は、例11により作ったものよりもさらに優れている。
例13 例12と同様に処理したが、N−メチロールアクリルア
ミドの代わりに同量のN−メチロールメタクリルアミド
を使用し、0.5部ではなく1゜5部の69%リン酸水
溶液をエーテル化触媒として使用する。その結果得られ
た印刷凸版は例12により作ったものと同様に良好な特
性を示す。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ヒドロキシル基の一部がエーテル化触媒の存在す
    るところでオレフィン不飽和カルボン酸の場合によって
    はエーテル化またはエステル化したN−メチロールアミ
    ドと反応した水性溶媒に溶解するポリビニルアルコール
    において、 エーテル化触媒の存在するところで場合によってはエー
    テル化またはエステル化した1−150重量%のN−メ
    チロールアミドとの反応が、反応物を含む薄い固体層を
    150℃以下の温度に加熱することによって行われ、そ
    の際パーセンテージは、反応前のポリビニルアルコール
    の量に対するものであることを特徴とする、オレフィン
    不飽和側鎖基を有するポリビニルアルコール。
  2. (2)印刷版、レリーフ版またはレジストパターンを製
    造するために感光記録材料として使われる、特許請求の
    範囲第1項記載のポリビニルアルコール。
  3. (3)エーテル化触媒の存在するところでオレフィン不
    飽和カルボン酸の場合によってはエーテル化またはエス
    テル化したN−メチロールアミドにより水性溶媒に溶解
    する場合によっては変形したポリビニルアルコールをエ
    ーテル化することによってオレフィン不飽和側鎖基を有
    する水性溶媒に溶解するポリビニルアルコールを製造す
    る方法において、 反応物を含む薄い固体層をほぼ150℃以下の温度に加
    熱し、エーテル化触媒の存在するところで場合によって
    はエーテル化またはエステル化した1−150重量%の
    N−メチロールアミドとポリビニルアルコールを反応さ
    せ、その際パーセンテージは、使用したポリビニルアル
    コールの量に対するものであることを特徴とする、オレ
    フィン不飽和側鎖基を有するポリビニルアルコールの製
    造方法。
  4. (4)ポリビニルアルコールを5−100重量%の量の
    場合によってはエーテル化またはエステル化したN−メ
    チロールアミドと反応させる、特許請求の範囲第3項記
    載の方法。
  5. (5)反応をマクロに均一な層内で行う、特許請求の範
    囲第3または4項記載の方法。
  6. (6)反応をかなりの程度まで水を除去しかつ溶媒を除
    去した層内で行う、特許請求の範囲第3−5項の1つに
    記載の方法。
  7. (7)反応用の層を層厚に応じてほぼ10分−3時間加
    熱する、特許請求の範囲第3−6項の1つに記載の方法
  8. (8)光重合開始剤、熱重合禁止剤および場合によって
    は少なくとも1つの別の光重合可能なオレフィン不飽和
    化合物の存在するところで、さ程重合が生じないように
    反応を行う、特許請求の範囲第3−7項の1つに記載の
    方法。
  9. (9)支持体とポリビニルアルコールを含んだ感光記録
    層とを有するオフセット印刷版において記録層が、オレ
    フィン不飽和側鎖基を有し水性溶媒に溶解するポリビニ
    ルアルコールを含み、このポリビニルアルコールが、反
    応物を含む薄い固体層を150℃以下の温度に加熱し、
    エーテル化触媒の存在するところで、オレフィン不飽和
    カルボン酸の場合によってはエーテル化またはエステル
    化した1−150重量%の少なくとも1つのN−メチロ
    ールアミドを反応させ、ポリビニルアルコールのヒドロ
    キシル基の一部をエーテル化することによって作られ、
    その際パーセンテージが、反応前のポリビニルアルコー
    ルの量に対するものであることを特徴とする、オレフィ
    ン不飽和側鎖基を有するポリビニルアルコールにより作
    られたオフセット印刷版。
JP28221786A 1985-11-30 1986-11-28 オレフイン不飽和側鎖基を有するポリビニルアルコ−ルおよびその製造方法およびそれにより製造されたオフセツト印刷版 Pending JPS62146902A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6428630A (en) * 1987-06-13 1989-01-31 Basf Ag Resin composition cross linkable by photopolymerization
JPS6429836A (en) * 1987-06-13 1989-01-31 Basf Ag Heating type keep plate cross linkable by photopolymerization
JP4783531B2 (ja) * 1999-06-07 2011-09-28 互応化学工業株式会社 水性エマルジョン型の感光性樹脂組成物
WO2018133213A1 (zh) * 2017-01-20 2018-07-26 中国科学院化学研究所 一种改性聚乙烯醇及其合成方法、印刷用亲水版和应用以及印刷版
JP2019196421A (ja) * 2018-05-07 2019-11-14 株式会社日本触媒 光学材料用樹脂組成物及びその用途

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4978713A (en) * 1987-12-16 1990-12-18 Ciba-Geigy Corporation Polyvinyl alcohol derivatives containing pendant vinylic monomer reaction product units bound through ether groups and hydrogel contact lenses made therefrom
US4859780A (en) * 1988-02-26 1989-08-22 Ciba-Geigy Corporation Hydrophilic modifier monomers
US4965313A (en) * 1988-06-24 1990-10-23 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Novel photocurable and heat-curable polyvinyl butyral resin

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3129196A (en) * 1961-05-12 1964-04-14 Borden Co Alkoxylated polyvinyl alcohol and alkoxylated amide compositions
DE1472871A1 (de) * 1964-12-21 1969-03-20 Eastman Kodak Co Photographische Gelatine-Silberhalogenidemulsion
DE2060805A1 (de) * 1970-12-10 1972-06-15 Basf Ag Verfahren zur Veraetherung alkoholische Hydroxylgruppen tragender Verbindungen
US4421841A (en) * 1981-07-28 1983-12-20 Mitsubishi Chemical Industries Limited Photosensitive lithographic plate with sulfonate containing photosensitive polyester
DE3144905A1 (de) * 1981-11-12 1983-05-19 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Zur herstellung von druck- und reliefformen geeignetes lichtempfindliches auszeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von druck- und reliefformen mittels dieses aufzeichnungsmaterials

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6428630A (en) * 1987-06-13 1989-01-31 Basf Ag Resin composition cross linkable by photopolymerization
JPS6429836A (en) * 1987-06-13 1989-01-31 Basf Ag Heating type keep plate cross linkable by photopolymerization
JP4783531B2 (ja) * 1999-06-07 2011-09-28 互応化学工業株式会社 水性エマルジョン型の感光性樹脂組成物
WO2018133213A1 (zh) * 2017-01-20 2018-07-26 中国科学院化学研究所 一种改性聚乙烯醇及其合成方法、印刷用亲水版和应用以及印刷版
JP2019196421A (ja) * 2018-05-07 2019-11-14 株式会社日本触媒 光学材料用樹脂組成物及びその用途

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