JPS62144024A - 変位検出装置 - Google Patents
変位検出装置Info
- Publication number
- JPS62144024A JPS62144024A JP60285172A JP28517285A JPS62144024A JP S62144024 A JPS62144024 A JP S62144024A JP 60285172 A JP60285172 A JP 60285172A JP 28517285 A JP28517285 A JP 28517285A JP S62144024 A JPS62144024 A JP S62144024A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scale
- reflected light
- linear scale
- optical pickup
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Indicating Or Recording The Presence, Absence, Or Direction Of Movement (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野」
この発明は、例えば精密位置決めテーブルに必要とされ
るリニアスケールを用いた変位検出装置に関するもので
ある。
るリニアスケールを用いた変位検出装置に関するもので
ある。
〔従来の技術）
第３図は従来のリニアスケールを用いた変位検出装置を
示す断面図であり、図において、（１）は光源、（２）
は光源（１）からの放射光線を平行光線とする−ｉ Ｉ
Ｊメートレンズ、（３）はコリメートレンズ（２）から
の平行光線が透過するガラス板からなるリニアスケール
で、メインスケール（４） トインデンクススケール（
５ａ） （５ｂ）とから構成されている。（６）はリニ
アスケール（３）のメインスケール（４）とインデック
スケール（５ａ） （５ｂ、）にそれぞれ真空蒸着され
た光を遮断格子目盛で、光辿過都とは交互Ｖこ等間隔で
並んでいる。（７ａ）Ｈメインスケール（４）とインデ
ックススクール（５ａ）とを透過した光源（１）からの
光、ｖＡを受光しその光量を箪気信りに変換する受光素
子、（７ｂ）はメインスクール（４）とインデックスス
ケール（５ｂ）とを透過した光源（１）からの光線を受
光しその光量を電気信号に変換する受光素子である。ま
た、受光素子（７ａ）に受光される光線と受光素子（７
ｂ）に受光される光線との位相が７だけずれるようにイ
ンデックススクール（５ａ） （！： （５ｂ）はメイ
ンスクール（４Ｊのピッチに対して互いのピッチが１ピ
ッチずれて設定されている。
示す断面図であり、図において、（１）は光源、（２）
は光源（１）からの放射光線を平行光線とする−ｉ Ｉ
Ｊメートレンズ、（３）はコリメートレンズ（２）から
の平行光線が透過するガラス板からなるリニアスケール
で、メインスケール（４） トインデンクススケール（
５ａ） （５ｂ）とから構成されている。（６）はリニ
アスケール（３）のメインスケール（４）とインデック
スケール（５ａ） （５ｂ、）にそれぞれ真空蒸着され
た光を遮断格子目盛で、光辿過都とは交互Ｖこ等間隔で
並んでいる。（７ａ）Ｈメインスケール（４）とインデ
ックススクール（５ａ）とを透過した光源（１）からの
光、ｖＡを受光しその光量を箪気信りに変換する受光素
子、（７ｂ）はメインスクール（４）とインデックスス
ケール（５ｂ）とを透過した光源（１）からの光線を受
光しその光量を電気信号に変換する受光素子である。ま
た、受光素子（７ａ）に受光される光線と受光素子（７
ｂ）に受光される光線との位相が７だけずれるようにイ
ンデックススクール（５ａ） （！： （５ｂ）はメイ
ンスクール（４Ｊのピッチに対して互いのピッチが１ピ
ッチずれて設定されている。
次に動作について説明する。光源（１）からの放射Ｚｋ
ｎ、コルメートレンズ（２）によって平行光線となり、
リニアスケール（３）に照射される。ここで、メインス
ケール（４）を固定し、光源（１）とコリメートレンズ
（２）、インデックススクール（５ａ） （５ｂ）、受
光素子（７ａ） （７ｂ）を一体として保持したｃ＋Ｊ
′ＧＪ台（図示せず）を図示Ｘ２又はＹ２の測定方向へ
動かすと、コリメートレンズ（２）からの千行光称がメ
インスケール（４）トインデツクヌスケール（５ａ）
（５ｂ）に真空蒸着された格子目盛（６）によって断続
的に遮断され、この断続的なコリメートレンズ（２〕か
らの平行光線の遮断によるリニアスケール（３）を透過
する光量の変化を受光素子（７ａ） （７ｂ）がそれぞ
れ電気信号に変換する。仮に、上記可動台がＸ２の方向
へ切いたとすると、受光素子（７ａ）によって変換され
た電気信うｌｄ波形整形器（図示せ丁）を辿り第４図Ａ
のようなパルス信うになり、受光素子（７ｂ）によって
変換された亀気信ちＶｉ波形金形器２ｉ−辿り第４−Ｂ
のようなパルス信号になる。また、上記可動台がＹ２の
方向へ動いたとすると、受光素子（７ａ） Ｋよって変
換された電気信号は波形整形器を辿り第４図Ａのような
パルス信りになり、受光素子（７ｂ）によって変換され
た電気信号は波形整形器を通り第４図Ｃのようなパルス
信号になる。ここで、受光素子（７ａ）からのパルス信
り（第４図Ａ）Ｋ対する受光素子（７ｂ）のパルス信号
（第４図Ｂ又はＣ）の位相かどららに７たけずｎている
かによって上記可動台の変位方向を検出し、受光素子（
７ａ）からのパルス信号又は受光素子（７ｂ）からのパ
ルス信号のパルス数を積算することによって上記可動台
の変位を検出する。さらに、受光素子（７ａ）からのパ
ルス信号と受光素子（７ｂ）からのパルス信りの徘陣的
論理和を収ることによって、変位検出精度を２倍にする
ことができる。（第４図において、ＤはＡとＢとの排雌
的論理和を収ったものである。）〔発明が解決しようと
する問題点」 従来の変位検出装置は以上のようにリニアスケールを真
空蒸４Ｖ’Ｃよる格子目盛によって構成しているので、
目盛ピッチを小きくすることが難しく、これにより分＃
能を高めるために上記装置以外に特殊な回路を必要する
など価格が高くなり、またリニアスケールを透過する光
量の変化が滑らかであるので高速の測長が内錐であるな
どの問題点があった。
ｎ、コルメートレンズ（２）によって平行光線となり、
リニアスケール（３）に照射される。ここで、メインス
ケール（４）を固定し、光源（１）とコリメートレンズ
（２）、インデックススクール（５ａ） （５ｂ）、受
光素子（７ａ） （７ｂ）を一体として保持したｃ＋Ｊ
′ＧＪ台（図示せず）を図示Ｘ２又はＹ２の測定方向へ
動かすと、コリメートレンズ（２）からの千行光称がメ
インスケール（４）トインデツクヌスケール（５ａ）
（５ｂ）に真空蒸着された格子目盛（６）によって断続
的に遮断され、この断続的なコリメートレンズ（２〕か
らの平行光線の遮断によるリニアスケール（３）を透過
する光量の変化を受光素子（７ａ） （７ｂ）がそれぞ
れ電気信号に変換する。仮に、上記可動台がＸ２の方向
へ切いたとすると、受光素子（７ａ）によって変換され
た電気信うｌｄ波形整形器（図示せ丁）を辿り第４図Ａ
のようなパルス信うになり、受光素子（７ｂ）によって
変換された亀気信ちＶｉ波形金形器２ｉ−辿り第４−Ｂ
のようなパルス信号になる。また、上記可動台がＹ２の
方向へ動いたとすると、受光素子（７ａ） Ｋよって変
換された電気信号は波形整形器を辿り第４図Ａのような
パルス信りになり、受光素子（７ｂ）によって変換され
た電気信号は波形整形器を通り第４図Ｃのようなパルス
信号になる。ここで、受光素子（７ａ）からのパルス信
り（第４図Ａ）Ｋ対する受光素子（７ｂ）のパルス信号
（第４図Ｂ又はＣ）の位相かどららに７たけずｎている
かによって上記可動台の変位方向を検出し、受光素子（
７ａ）からのパルス信号又は受光素子（７ｂ）からのパ
ルス信号のパルス数を積算することによって上記可動台
の変位を検出する。さらに、受光素子（７ａ）からのパ
ルス信号と受光素子（７ｂ）からのパルス信りの徘陣的
論理和を収ることによって、変位検出精度を２倍にする
ことができる。（第４図において、ＤはＡとＢとの排雌
的論理和を収ったものである。）〔発明が解決しようと
する問題点」 従来の変位検出装置は以上のようにリニアスケールを真
空蒸４Ｖ’Ｃよる格子目盛によって構成しているので、
目盛ピッチを小きくすることが難しく、これにより分＃
能を高めるために上記装置以外に特殊な回路を必要する
など価格が高くなり、またリニアスケールを透過する光
量の変化が滑らかであるので高速の測長が内錐であるな
どの問題点があった。
この発明はかかる問題点を解消するためになされたもの
で、高精度で、高速の測長ができる安価な変位検出装置
を得ることを目的とする。
で、高精度で、高速の測長ができる安価な変位検出装置
を得ることを目的とする。
［問題点を解決するための手段］
この発明に係わる変位検出装置は、二定ピッチで直線状
に配列された微細穴によって構成される目盛ビット群を
設けたリニアスケールと、リニアスケールの直上を移動
しながら少なくさも２つの測定用光線をリニアスケール
上のそれぞれの異なった地点に照射するとともにそれぞ
れの照射地点（以下、スポットと称す。）からの反射光
を受光する光ピックアップを備え、この光ピンクアップ
における少なくとも２つの反射光受光信号の位相が互い
にずれるようにしたものである。
に配列された微細穴によって構成される目盛ビット群を
設けたリニアスケールと、リニアスケールの直上を移動
しながら少なくさも２つの測定用光線をリニアスケール
上のそれぞれの異なった地点に照射するとともにそれぞ
れの照射地点（以下、スポットと称す。）からの反射光
を受光する光ピックアップを備え、この光ピンクアップ
における少なくとも２つの反射光受光信号の位相が互い
にずれるようにしたものである。
〔作用Ｊ
この発明においては、リニアスケールの目盛ヒント群が
微細穴によって形成されるから、目盛ピッチを小さくす
ることができ、しかも光ピックアツブが少なくとも２つ
の照射光線をリニアスケール上の異なった地点に照射し
、この照射地点からの反射光の光量を検出し、この光量
の微細穴によるｆ化によってビット数音カクントすると
ともに、少なくとも２つの反射光の位相のずれを算出す
る。
微細穴によって形成されるから、目盛ピッチを小さくす
ることができ、しかも光ピックアツブが少なくとも２つ
の照射光線をリニアスケール上の異なった地点に照射し
、この照射地点からの反射光の光量を検出し、この光量
の微細穴によるｆ化によってビット数音カクントすると
ともに、少なくとも２つの反射光の位相のずれを算出す
る。
［実施例］
第１図はこの発明の一実施例によるリニアスケールを用
いた変位検出装置を示す斜視図であり、図においｒ、（
ｓ）はリニアスケール、（９）はリニアスケール（８）
上に設けられた一定ピッチで直線状に一列に配列された
微細穴の目盛ビットで、光デイスク製造方法と同様にレ
ーデ光を用いた微細加工により形成される。（１０）は
リニアスケール（８）上の３つのスポット（ｌｌａ）
（ｌｌｂ） （ｌｌｃ）に測定用光線を照射し、このス
ポット（Ｌｌａ） （ｌｌｂ） （ｌｌｃ）からの反射
光を受光する光ピックアップである。また、３つのスポ
ット（ｌｌａ） （ｌｌｂ） （ｌｉｅ）の内掛なくと
も２つのスポットは目盛ビット（９）上を通過し、この
２つのスボ■ 。
いた変位検出装置を示す斜視図であり、図においｒ、（
ｓ）はリニアスケール、（９）はリニアスケール（８）
上に設けられた一定ピッチで直線状に一列に配列された
微細穴の目盛ビットで、光デイスク製造方法と同様にレ
ーデ光を用いた微細加工により形成される。（１０）は
リニアスケール（８）上の３つのスポット（ｌｌａ）
（ｌｌｂ） （ｌｌｃ）に測定用光線を照射し、このス
ポット（Ｌｌａ） （ｌｌｂ） （ｌｌｃ）からの反射
光を受光する光ピックアップである。また、３つのスポ
ット（ｌｌａ） （ｌｌｂ） （ｌｉｅ）の内掛なくと
も２つのスポットは目盛ビット（９）上を通過し、この
２つのスボ■ 。
ントの間隔が測定方向に目盛ビット間隔より１ヒンチだ
け小さく設定されている。
け小さく設定されている。
以下、スポット（ｌｌａ） （ｌｌｂ）が目盛ビット（
９）上を通過し、このスポット（ｌｌａ）とスポット（
ｌｌｂ）の間隔が測定方向に目盛ビット間隔より７ピッ
チたけ小さく設定されているとして、この発明の一実施
例の動作について説明する。
９）上を通過し、このスポット（ｌｌａ）とスポット（
ｌｌｂ）の間隔が測定方向に目盛ビット間隔より７ピッ
チたけ小さく設定されているとして、この発明の一実施
例の動作について説明する。
例えば、リニアスケール（８）を固定し元ピンクアップ
（１０〕を図示Ｘｉ又はＹｌの測定方向に前かすと、光
ピンクアンプ（１０）から照射された光線のスポット（
ｌｌａ） （ｌｌｂ）による反射光がリニアスケール１
ｌＩＩ］（ｉ３）からの反射光と目盛ビット（９）の底
面（１２）からの反射光との干渉によって変化し、この
干渉によって変化したスポット（ｌｌａ） （ｌｌｂ）
からの反射光を光ピックアップ（１０）によって受光し
、それぞれの反射光の光量をそれぞれ電気信号に変換す
る。仮に、光ピックアップ（ｌＯ）がＸＩの方向へ動い
たとすると、スポット（ｌｌａ）からの反射光の光ピッ
クアップ（１０）によって変換された電気偏りは波形整
形器（図示せず）を通り第４図Ａのようなパルス借りに
なり、スポット（ｌｌｂ）からの反射光の光ピンタアン
プ（１０）によって変換された電気偏づは波形整形器を
通り第４図Ｂのようなパルス信号になる。また、光ピッ
クアップ（１０）がＹｌの方向へ切いたとすると、スポ
ット（１１ａ）からの反射光の光ヒツクアツブ（１０）
によって変換された電気信号は波形整形器を通り第４図
へのようなパルス信号になり、スポット（ｌｌｂ）から
の反射光の光ピンクアンプ（１０）によって変換された
電気偏りは波形整形器を通り第４図Ｃのようなパルス信
号になる。ここで、スポット（ｌｌａ）からの反射光の
光量を変換したパルス借り（第４図Ａ）に対するスポッ
ト（ｌｌｂ）からの反射光の光量を変換したパルス借づ
（第４図Ｂ又はＣ）の位相がどちらに医だけずれている
かによって光ピンクアンプ（ｌＯ）の変位方向を検出し
、スポット（１１ａ）からの反射光の光量を変換したパ
ルス借り又はスポット（ｌｌｂ）からの反射光の光量を
変換したパルス信号のパルス数を積算することによって
光ビンクアンフ（１０）の変位を検出する。さらに、ス
ポット（ｌｌａ）からの反射光の光量を変換したパルス
借づとスポット（ｌｌｂ）からの反射光の光量を変換し
たパルス借うの排他的論理和を収ることによって、変化
検出１＃度を２倍にすることができる。（第４図におい
て、ＤはＡとＢの排他的論理和を収ったものである。） なお、上記実施例ではスポット（ｌｌａ） （ｌｌｂ）
（Ｄ間隔を測定方向に目盛ビット間隔よりτピッチ小
さく設定したものを示したが、目盛ビット間隔よりのＯ
又は正数倍よりｉとツチずらしてもよい。また、上記実
施例では１列の目盛ヒツト群による検出例を示したが、
第２図に示すように、２列の平行な目盛ビット群に＆け
、その目盛ピッｔ−（９ａ）（９ｂ）を相対的に目盛ヒ
ント間隔より測定方向にｉとツチずらし、それぞれの目
盛ビット群に照射するスポット（ｌｌａ） （ｌｌｂ）
の間隔を測定方向に目盛ヒツト間隔の０又は正＆倍とな
るようにしてもよい。
（１０〕を図示Ｘｉ又はＹｌの測定方向に前かすと、光
ピンクアンプ（１０）から照射された光線のスポット（
ｌｌａ） （ｌｌｂ）による反射光がリニアスケール１
ｌＩＩ］（ｉ３）からの反射光と目盛ビット（９）の底
面（１２）からの反射光との干渉によって変化し、この
干渉によって変化したスポット（ｌｌａ） （ｌｌｂ）
からの反射光を光ピックアップ（１０）によって受光し
、それぞれの反射光の光量をそれぞれ電気信号に変換す
る。仮に、光ピックアップ（ｌＯ）がＸＩの方向へ動い
たとすると、スポット（ｌｌａ）からの反射光の光ピッ
クアップ（１０）によって変換された電気偏りは波形整
形器（図示せず）を通り第４図Ａのようなパルス借りに
なり、スポット（ｌｌｂ）からの反射光の光ピンタアン
プ（１０）によって変換された電気偏づは波形整形器を
通り第４図Ｂのようなパルス信号になる。また、光ピッ
クアップ（１０）がＹｌの方向へ切いたとすると、スポ
ット（１１ａ）からの反射光の光ヒツクアツブ（１０）
によって変換された電気信号は波形整形器を通り第４図
へのようなパルス信号になり、スポット（ｌｌｂ）から
の反射光の光ピンクアンプ（１０）によって変換された
電気偏りは波形整形器を通り第４図Ｃのようなパルス信
号になる。ここで、スポット（ｌｌａ）からの反射光の
光量を変換したパルス借り（第４図Ａ）に対するスポッ
ト（ｌｌｂ）からの反射光の光量を変換したパルス借づ
（第４図Ｂ又はＣ）の位相がどちらに医だけずれている
かによって光ピンクアンプ（ｌＯ）の変位方向を検出し
、スポット（１１ａ）からの反射光の光量を変換したパ
ルス借り又はスポット（ｌｌｂ）からの反射光の光量を
変換したパルス信号のパルス数を積算することによって
光ビンクアンフ（１０）の変位を検出する。さらに、ス
ポット（ｌｌａ）からの反射光の光量を変換したパルス
借づとスポット（ｌｌｂ）からの反射光の光量を変換し
たパルス借うの排他的論理和を収ることによって、変化
検出１＃度を２倍にすることができる。（第４図におい
て、ＤはＡとＢの排他的論理和を収ったものである。） なお、上記実施例ではスポット（ｌｌａ） （ｌｌｂ）
（Ｄ間隔を測定方向に目盛ビット間隔よりτピッチ小
さく設定したものを示したが、目盛ビット間隔よりのＯ
又は正数倍よりｉとツチずらしてもよい。また、上記実
施例では１列の目盛ヒツト群による検出例を示したが、
第２図に示すように、２列の平行な目盛ビット群に＆け
、その目盛ピッｔ−（９ａ）（９ｂ）を相対的に目盛ヒ
ント間隔より測定方向にｉとツチずらし、それぞれの目
盛ビット群に照射するスポット（ｌｌａ） （ｌｌｂ）
の間隔を測定方向に目盛ヒツト間隔の０又は正＆倍とな
るようにしてもよい。
さらに、上記実施例では２つのスポットによる検出例を
示したが、３つのスポットを用い、３つのスポット間隔
あるいは３列の目盛ビット群の相互の目盛ビットを測定
方向に目盛ビット間隔に対して１／６ビツチずれるよう
に設定し、３つのスポットにより検出するようにすれば
さらに高分解能の変位検出ができる。加えて、４つ以上
のスポットを用いても上記と同様の効果を秦す。
示したが、３つのスポットを用い、３つのスポット間隔
あるいは３列の目盛ビット群の相互の目盛ビットを測定
方向に目盛ビット間隔に対して１／６ビツチずれるよう
に設定し、３つのスポットにより検出するようにすれば
さらに高分解能の変位検出ができる。加えて、４つ以上
のスポットを用いても上記と同様の効果を秦す。
［発明の効果］
以上のように、この発明によれば例えばレーデ光により
微細穴をリニアスケールＫｍけ、このリニアスケール上
に光ピックアップから測定用光線を照射し、この照射に
よるリニアスケールからの反射光の光′Ｆｉ変化によっ
て変位検出するようにしたので、高速に測長できるとと
もに、高精度で安価なものが得られる効果がある。
微細穴をリニアスケールＫｍけ、このリニアスケール上
に光ピックアップから測定用光線を照射し、この照射に
よるリニアスケールからの反射光の光′Ｆｉ変化によっ
て変位検出するようにしたので、高速に測長できるとと
もに、高精度で安価なものが得られる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による変位検出装置を示す
斜視図、第２図はこの発明の也の実施例を示すリニアス
ケールの斜視図、第３図は従来の変位検出装置を示す断
面図、第４図は変位検出装置の出力借りを示す図である
。 図において、（８）はリニアスケール、（９）は目盛ビ
ット、（ｉｏ）は光ピックアップ、（ｌｌａ） （ｌｌ
ｂ） （ｌｉｅ）はスポットである。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
斜視図、第２図はこの発明の也の実施例を示すリニアス
ケールの斜視図、第３図は従来の変位検出装置を示す断
面図、第４図は変位検出装置の出力借りを示す図である
。 図において、（８）はリニアスケール、（９）は目盛ビ
ット、（ｉｏ）は光ピックアップ、（ｌｌａ） （ｌｌ
ｂ） （ｌｉｅ）はスポットである。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (4)
- （１）現在の位置と移動方向を検出する変位検出装置に
おいて、一定ピッチで直線状に配列された微細穴によつ
て構成される目盛ビット群を設けたリニアスケールと、
リニアスケールの直上を移動しながら少なくとも２つの
測定用光線をリニアスケール上のそれぞれ異なつた地点
に照射するとともにそれぞれの照射地点からの反射光を
受光する光ピックアップとを備え、この光ピックアップ
における少なくとも２つの反射光受光信号の位相が互い
にずれるようにした変位検出装置。 - （２）リニアスケールの目盛ビット群を一列に配列し、
且つ光ピックアップの少なくとも２つの光照射地点の間
隔を目盛ビット配列方向に上記目盛ビットの間隔と違え
ることによつて、少なくとも２つの反射光受光信号の位
相が互いにずれるようにしたことを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の変位検出装置。 - （３）リニアスケールの目盛ビット群を少なくとも２列
並行に設け、この平行な目盛ビット群の相互の目盛ビッ
ト位置をずらすことによつて、少なくとも２つの反射光
受光信号の位相が互いにずれるようにしたことを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の変位検出装置。 - （４）少なくとも２つの反射光受光信号の位相がπ／２
だけずれるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
第１項ないし第３項の何れかに記載の変位装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60285172A JPS62144024A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 変位検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60285172A JPS62144024A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 変位検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62144024A true JPS62144024A (ja) | 1987-06-27 |
Family
ID=17688030
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60285172A Pending JPS62144024A (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 変位検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62144024A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990001188A1 (en) * | 1988-07-28 | 1990-02-08 | Fanuc Ltd | Method of returning to origin |
| JPH0313816A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-22 | Teac Corp | ロータリーエンコーダ |
-
1985
- 1985-12-18 JP JP60285172A patent/JPS62144024A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990001188A1 (en) * | 1988-07-28 | 1990-02-08 | Fanuc Ltd | Method of returning to origin |
| JPH0313816A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-22 | Teac Corp | ロータリーエンコーダ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4744661A (en) | Device for measuring small distances | |
| JPH0410976B2 (ja) | ||
| JPH0652170B2 (ja) | 光結像式非接触位置測定装置 | |
| JPS62144024A (ja) | 変位検出装置 | |
| JPH08178613A (ja) | 干渉計用光検出器 | |
| JPH01121707A (ja) | 三次元形状計測装置 | |
| US6657219B2 (en) | Optical detection and measurement system | |
| JPS5853286B2 (ja) | デジタルスケ−ル装置 | |
| SU1089411A2 (ru) | Фотоэлектрический преобразователь перемещений | |
| JPS62287107A (ja) | 中心位置測定装置 | |
| JPH0333614A (ja) | ３トラック式エンコーダ | |
| JPS6027926Y2 (ja) | 光学式位置検出器 | |
| JPH07218291A (ja) | 位置検出装置 | |
| JPH0331367B2 (ja) | ||
| JPS63101702A (ja) | 光測長計 | |
| JPH0332963Y2 (ja) | ||
| JPH0521486B2 (ja) | ||
| JPS6111684A (ja) | 光学式表面変位検出回路 | |
| RU2082087C1 (ru) | Оптико-электронное устройство измерения положения отсчетного круга угломерного инструмента | |
| JPH0471161B2 (ja) | ||
| JPS6232312A (ja) | 測距装置 | |
| KR820001893B1 (ko) | 디지탈 테이프자 | |
| JPH02306109A (ja) | ３次元位置認識装置 | |
| JPS6468611A (en) | Displacement measuring instrument | |
| JPS6258426A (ja) | 光ビ−ム照射位置検出装置 |