JPS62135461U - - Google Patents

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JPS62135461U
JPS62135461U JP2352386U JP2352386U JPS62135461U JP S62135461 U JPS62135461 U JP S62135461U JP 2352386 U JP2352386 U JP 2352386U JP 2352386 U JP2352386 U JP 2352386U JP S62135461 U JPS62135461 U JP S62135461U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本考案の実施例を示す斜視
断面図、第3図はAu層の層厚と光反射率及び光
透過率との関係を示す特性図、第4図は従来例を
示す斜視断面図である。 1……半導体基板、3……連通孔、4……第1
クラツド層、5……活性層、6……第2クラツド
層、8……絶縁層、9……第1電極(金属層)、
13……(第2の)Au層。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 一主面から他主面に達する連通孔を有する半導
    体基板、該基板の一主面上に積層された第1クラ
    ツド層、該第1クラツド層上に積層され斯る第1
    クラツド層より光屈折率が大でバンドギヤツプエ
    ネルギーが小なる活性層、該活性層上に積層され
    上記第1クラツド層と同等の光屈折率及びバンド
    ギヤツプエネルギーを有する第2クラツド層、上
    記連通孔直上の上記第2クラツド層側表面をリン
    グ状に露出させるベく上記第2クラツド層上に積
    層された絶縁層、該絶縁層及び上記第2クラツド
    層上に積層された金属層を有する面発光半導体レ
    ーザにおいて、 上記リング内の絶縁層上に積層される金属層は
    層厚500〜800ÅのAu層としたことを特徴
    とする面発光半導体レーザ。
JP1986023523U 1986-02-20 1986-02-20 Expired - Lifetime JPH0513021Y2 (ja)

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JPS62135461U true JPS62135461U (ja) 1987-08-26
JPH0513021Y2 JPH0513021Y2 (ja) 1993-04-06

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003133539A (ja) * 2001-06-28 2003-05-09 Trw Inc アモルファスシリコン送信及び受信構造とGaAsまたはInP加工済み装置との集積化

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5934687A (ja) * 1982-08-20 1984-02-25 Res Dev Corp Of Japan 面発光半導体レ−ザ
JPS5979591A (ja) * 1982-10-29 1984-05-08 Fujitsu Ltd 半導体発光装置

Patent Citations (2)

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JP2003133539A (ja) * 2001-06-28 2003-05-09 Trw Inc アモルファスシリコン送信及び受信構造とGaAsまたはInP加工済み装置との集積化

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Publication number Publication date
JPH0513021Y2 (ja) 1993-04-06

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