JPS62131098A - 印鑑用洗浄剤 - Google Patents

印鑑用洗浄剤

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Publication number
JPS62131098A
JPS62131098A JP27083185A JP27083185A JPS62131098A JP S62131098 A JPS62131098 A JP S62131098A JP 27083185 A JP27083185 A JP 27083185A JP 27083185 A JP27083185 A JP 27083185A JP S62131098 A JPS62131098 A JP S62131098A
Authority
JP
Japan
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group
weight
carbon atoms
general formula
represented
Prior art date
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Pending
Application number
JP27083185A
Other languages
English (en)
Inventor
秋本 新一
杉中 昭典
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NOF Corp
Original Assignee
Nippon Oil and Fats Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Oil and Fats Co Ltd filed Critical Nippon Oil and Fats Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、印鑑やゴム印などの汚れを、印面の彫りを傷
つけることなく速やかに落とし、鮮明な印影を得るため
に用いる印鑑用洗浄剤に関する。
〔従来の技術〕
印@(ゴム印も含む)を長く使用していると、凹部に硬
化した朱肉やスタンプインクとほこりが混合固化した汚
れが蓄積し、鮮明な印影が得られなくなる。このような
場合、虫ピンやブラシで清掃したり、市販の台所用洗剤
で洗浄したりしていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、虫ピンやブラシで清掃する方法は掻めて手間が
かかる方法であり、注意深く行なわないと印面の彫りを
傷つけたり、摩耗させたりするおそれがあった。また、
市販の洗剤ではこのような頑固な汚れに対しては洗浄力
が不足し、満足すべき効果が得られなかった。そこで、
印面を傷つけることなく短時間で印鑑の洗浄が行われる
ような印鑑に適した洗浄剤が求められていた。
〔問題解決の手段〕
本発明は、上記問題を解決すべくなされたものであり、
特定のアニオン性界面活性剤とアミンオキシドを併用す
ることにより印鑑の洗浄に適した洗浄剤が得られること
を見出して完成したものであり、その構成は、一般式(
1)で示される化合物0.01〜90重量%と、一般式
(2)で示される化合物0.01〜90重量%とを含有
することを特徴とする。
RO(Ct(z Cf’a O)n  S 03 M 
−−・” −・” −tl)凡 R,−N−0・・・・・・・・・・・・・・・・・・<
2)(ただし、RとR1は炭素数8〜26の炭化水素基
、&、島は炭素数1〜3のアルキル基またはヒドロキシ
アルキル基であって、同一でも異なってもよく、nは0
〜30、Mは1価の金属またはアミン類である。) 本発明に係る一般式Tl)および(2)の化合物におい
て、RとR5で示される炭素数8〜26の炭化水素基と
してはオクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ラウリル基、トリデシル基、
ミリスチル基、セチル基、イソセチル基、ステアリル基
、イソステアリル基、オレイル基、オクチルドデシル基
、ベヘニル基、トコセニル基、デシルテトラデシル基、
ブチルフェニル基、ジブチルフェニル基、オクチルフェ
ニル基、ノニルフェニル基、ドデシルフェニル基、ジノ
ニルフェニル基等が例示できる。
&、島で示される炭素数1〜3のアルキル基またはヒド
ロキシアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロ
キシプロピル基、ヒドロキシイソプロピル基が例示でき
る。また、Mで示される1価の金属又はアミン類として
は、リチウム、ナトリウム、カリウム、アンモニア、モ
ノエタノールアミン、ジェタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、モノイソプロパツールアミン、ジイソプロ
パツールアミン、トリイソプロパツールアミン等が例示
できる。
一般式(1)および(2)において、RとR1で示され
る炭化水素基は炭素数8〜26の範囲でないと充分な洗
浄力が得られない。また、&、九で示されるアルキル基
またはヒドロキシアルキル基は炭素数1〜3の範囲でな
いと充分な洗浄力が得られない。
nで示されるエーテルオキシドの平均付加量も30を越
えると洗浄力が低下する。
本発明の洗浄剤は一般式(1)で示されるアニオン性界
面活性剤と一般式(2)で示されるアミンオキシドを併
用するものであり、その含有量はそれぞれが0.01〜
90重量%の範囲にあり、好ましくはアニオン性界面活
性剤0905〜10重量%、アミンオキシド0.01〜
5重量%、より好ましくはアニオン性界面活性剤0.1
〜5重量%、アミンオキシド0.05〜1重量%である
本発明の洗浄剤は、他の成分、例えば香料、着色料、或
いはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンポリプロピレング
リコール、ポリオキシエチレンポリオキシプロビレンア
ルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピ
レンアルキルフェニルエーテル等の非イオン性界面活性
剤、シリコーンエマルジョン等の消泡剤、高級脂肪酸の
アルカリ金属塩等を配合してもよい。
なお、本発明の範囲内において、一般式(1)及び(2
)の化合物のR,Rt、Rt、島、n、Mを適宜選択す
ることにより、種々の洗浄剤が得られ、またそれぞれの
化合物の2種以上を配合してもよい。
また、本発明の洗浄剤は木製、象牙層、合成樹脂製、ゴ
ム製など印鑑の材質に関係なく効果があり、広範囲に使
用することができる。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、記
載中%はすべて重量%を示す。
〔実施例1〕

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記一般式(1)で示される化合物0.01〜90重量
    %と、下記一般式(2)で示される化合物0.01〜9
    0重量%とを含有することを特徴とする印鑑用洗浄剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
    ・・・・・・・・・(1)▲数式、化学式、表等があり
    ます▼・・・・・・・・・・・・・・・・・・(2)(
    ただし、RとR_1は炭素数8〜26の炭化水素基、R
    _2、R_3は炭素数1〜3のアルキル基またはヒドロ
    キシアルキル基であって、同一でも異なってもよく、n
    は0〜30、Mは1価の金属またはアミン類である。)
JP27083185A 1985-12-03 1985-12-03 印鑑用洗浄剤 Pending JPS62131098A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6000331A (en) * 1996-09-11 1999-12-14 Pigment Ota Ohtas Co., Ltd. Method for making a stencil with a two part adhesive and method of imaging with a thermal head and cleaning solvent
JP2009155424A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Riso Kagaku Corp 2液型インクジェットヘッド洗浄液およびインクジェットヘッドの洗浄方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6000331A (en) * 1996-09-11 1999-12-14 Pigment Ota Ohtas Co., Ltd. Method for making a stencil with a two part adhesive and method of imaging with a thermal head and cleaning solvent
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