JPS6212690A - 結晶成長方法 - Google Patents

結晶成長方法

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Publication number
JPS6212690A
JPS6212690A JP15074585A JP15074585A JPS6212690A JP S6212690 A JPS6212690 A JP S6212690A JP 15074585 A JP15074585 A JP 15074585A JP 15074585 A JP15074585 A JP 15074585A JP S6212690 A JPS6212690 A JP S6212690A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substance
growth
surface tension
crystal growth
gravity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15074585A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Hagio
萩尾 正博
Masaru Kazumura
数村 勝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP15074585A priority Critical patent/JPS6212690A/ja
Publication of JPS6212690A publication Critical patent/JPS6212690A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B30/00Production of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the action of electric or magnetic fields, wave energy or other specific physical conditions
    • C30B30/08Production of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the action of electric or magnetic fields, wave energy or other specific physical conditions in conditions of zero-gravity or low gravity

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、宇宙空間における無重量な状態中での各種半
導体結晶や誘電体結晶などの製造に用いることのできる
結晶成長方法に関するものである。
従来の技術 宇宙空間における無重量状態を利用した結晶成長に近年
、大きな関心が寄せられるようになってきた。
化合物や合金の結晶成長を地上で行なう場合には、成分
元素の比重の違いや対流等に起因する、成分の不均一や
、欠陥の発生を防止するのが非常に困難であるが、無重
量状態における結晶成長では対流の発生がなく、均質性
のよい化合物結晶や合金が得られるものと期待されてい
る。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、対流等がなくなったとしても、結晶成長
中の被成長物質表面からの被成長物質の蒸発や熱放散に
よって、結晶の均質性が著しくそこなわれる。例えばG
aAsの結晶成長では、人Sの蒸気圧がGaの蒸気圧に
比べて著しく大きいために、表面からのAsの散逸が甚
しく、良好な結晶成長が困難になる。
本発明は上記の問題点に鑑み、被成長物質表面からの被
成長物質の蒸発や、熱の放散を著しく低減することので
きる結晶成長方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するためて、本発明の結晶成長方法は
無重量状態において被成長物質の表面を、被成長物質よ
りも表面張力の小さい物質で覆うことから構成されてい
る。
作用 この構成によって、被成長物質の表面が覆われているの
で被成長物質表面からの被成長物質の蒸発が抑制され、
また熱の放散を少なくすることができる。
実施例 以下、本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。
第1図は本発明の第1の実施例における結晶成長法の構
成を示す断面図である。第1図において、1は例えばa
&ムs+siなどの被成長物質、2は外囲物質や被成長
物質よりも表面張力が小さく、かつ被成長物質に対して
難溶な物質である。まだ3は外囲器、4は高周波加熱コ
イルである。
被成長物質1は、無重量状態ではその表面張力により球
状になる。これに、被成長物質よりも表面張力が小さく
、かつ被成長物質に対して難溶な物質2を接触させると
、物質1と物質2の表面張力の違いから、物質2が物質
1の表面に拡がりついには第1図に示されているように
物質1を物質2が囲むようになる。その結果、物質1か
らの蒸発や熱放散が物質2によって防止され、また、物
質2の熱伝導率が物質1よりも充分小さければ物質1中
の温度分布の均一性が著しく改善される。
なお、第2の実施例として外囲物質2は、第2図に示す
ごとく、被成長物質1と外囲器3との間を満たすように
なっていてもよい。
以上のように、本発明によれば、被成長物質中の成分物
質の分布や温度分布の均一性が著しく改善され、欠陥の
少ない良好な結晶の成長が可能となる。
発明の効果 以上のように本発明は、無重量状態における結晶成長に
おいて、被成長物質の表面を被成長物質よりも表面張力
の小さい物質で覆うことにより、成分均一性がよく欠陥
の少ない結晶の成長が可能となり、その実用的効果は犬
なるものがある。
1・・・・・・被成長物質、2・・・・・・外囲物質、
3・・・・・・外囲器。
代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名イ 
  2    3

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)無重量状態における結晶成長であって、被成長物
    質の表面を、前記被成長物質よりも表面張力の小さい物
    質で覆うことを特徴とする結晶成長方法。
  2. (2)被成長物質の表面を覆う物質が、被成長物質より
    も充分小さい熱伝導率を有することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の結晶成長方法。
JP15074585A 1985-07-09 1985-07-09 結晶成長方法 Pending JPS6212690A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03295889A (ja) * 1990-04-10 1991-12-26 Showa Denko Kk 半導体単結晶およびその製造方法
EP0947613A4 (en) * 1997-10-23 2000-01-12 Josuke Nakata METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING A SINGLE CRYSTAL

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03295889A (ja) * 1990-04-10 1991-12-26 Showa Denko Kk 半導体単結晶およびその製造方法
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