JPS6212472Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6212472Y2 JPS6212472Y2 JP1981099211U JP9921181U JPS6212472Y2 JP S6212472 Y2 JPS6212472 Y2 JP S6212472Y2 JP 1981099211 U JP1981099211 U JP 1981099211U JP 9921181 U JP9921181 U JP 9921181U JP S6212472 Y2 JPS6212472 Y2 JP S6212472Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- piping
- treatment tank
- valve
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は液体に用いた処理を行なう処理装置の
構造に関し、特に処理槽へ接続される配管の構造
に関するものである。
構造に関し、特に処理槽へ接続される配管の構造
に関するものである。
例えば、本考案は、物品を水洗処理する場合、
更に具体的には特に酸処理を行なつた半導体ウエ
ハを水洗処理する場合に用いる処理槽に関するも
のである。
更に具体的には特に酸処理を行なつた半導体ウエ
ハを水洗処理する場合に用いる処理槽に関するも
のである。
以下、簡単のため水洗の場合について説明す
る。
る。
従来、処理槽の底面から水を供給し、処理槽か
らオーバーフローさせ、この槽内に水洗すべき半
導体ウエハを浸ける方式においては、第１図のよ
うな配管が実施されていた。即ち、給水配管１の
途中に給水弁２を有し、処理槽３の底面に連なり
この配管の一個所４において下方へ排水管５を、
その途中に排水弁６を入れて配する。通常使用時
には給水弁２は開き、排水弁６は閉じる。これに
より水は実線矢印のように給水管１を経て処理槽
へ供給され、排水管へは流れない。
らオーバーフローさせ、この槽内に水洗すべき半
導体ウエハを浸ける方式においては、第１図のよ
うな配管が実施されていた。即ち、給水配管１の
途中に給水弁２を有し、処理槽３の底面に連なり
この配管の一個所４において下方へ排水管５を、
その途中に排水弁６を入れて配する。通常使用時
には給水弁２は開き、排水弁６は閉じる。これに
より水は実線矢印のように給水管１を経て処理槽
へ供給され、排水管へは流れない。
実際の配管にはＴ字型及びＬ字型配管部材Ａ、
及びＢを用いることが便利であるため、第１図の
ように水平と鉛直方向の組み合わせの配管工事を
することが多い。
及びＢを用いることが便利であるため、第１図の
ように水平と鉛直方向の組み合わせの配管工事を
することが多い。
この種の配管の欠点は、排水弁６を開き給水弁
２を閉め処理槽内の水を点線矢印のように抜いた
時、給水弁２の上の配管部分７に水が残ることで
ある。また、水平部分８の配管は取りつけ工事の
際にわずかに下方へ傾いて接続されると、この部
分にも水が残ることがある。
２を閉め処理槽内の水を点線矢印のように抜いた
時、給水弁２の上の配管部分７に水が残ることで
ある。また、水平部分８の配管は取りつけ工事の
際にわずかに下方へ傾いて接続されると、この部
分にも水が残ることがある。
このため、処理槽と配管内を完全に乾燥さすこ
とが困難である。従つて、処理槽を使用しない時
に、処理槽、配管を乾燥させることにより、水中
のバクテリアの増殖を防止することができない欠
点がある。
とが困難である。従つて、処理槽を使用しない時
に、処理槽、配管を乾燥させることにより、水中
のバクテリアの増殖を防止することができない欠
点がある。
或は、処理槽に水を入れ、給水弁２、排水弁６
ともに閉じて、この水の中に過酸化水素水、ホル
マリン等の薬品を投入して放置して、槽の滅菌処
理を行なつた場合、これらの薬品を含む水を捨て
切れない欠点がある。即ち、薬品を投入して滅菌
処理を行なつた後、排水弁６を開いて点線矢印の
ように排水しても配管部分７，８には、上記の薬
品を含んだ水が残ることになる。この状態で給水
弁１を開いた時、給水管７に十分な水圧の水が供
給されれば問題はない。しかし、誤操作により給
水管に水が供給されていない場合、また水圧の低
い場合には上記の薬品が給水管の中へ混入する危
険性がある。
ともに閉じて、この水の中に過酸化水素水、ホル
マリン等の薬品を投入して放置して、槽の滅菌処
理を行なつた場合、これらの薬品を含む水を捨て
切れない欠点がある。即ち、薬品を投入して滅菌
処理を行なつた後、排水弁６を開いて点線矢印の
ように排水しても配管部分７，８には、上記の薬
品を含んだ水が残ることになる。この状態で給水
弁１を開いた時、給水管７に十分な水圧の水が供
給されれば問題はない。しかし、誤操作により給
水管に水が供給されていない場合、また水圧の低
い場合には上記の薬品が給水管の中へ混入する危
険性がある。
また、第１図のように処理槽３からオーバーフ
ローさせた水を外槽９で受け、回収管１０で回収
し再処理、再利用するリサイクル・システム（図
示せず）を採用した場合、配管部分７，８にある
水に混入している薬品を、回収水の中にとり入れ
る結果になる。このため、リサイクル・システム
のイオン交換樹脂などの処理材料を急速に劣化さ
せることになる。
ローさせた水を外槽９で受け、回収管１０で回収
し再処理、再利用するリサイクル・システム（図
示せず）を採用した場合、配管部分７，８にある
水に混入している薬品を、回収水の中にとり入れ
る結果になる。このため、リサイクル・システム
のイオン交換樹脂などの処理材料を急速に劣化さ
せることになる。
本考案は、これらの欠点を除く処理槽の構造を
与えるものである。
与えるものである。
本考案の特徴は、第２図に示すように、給水弁
２から先の配管は下向きに傾斜して結合点４に到
る。これにより給水弁２を閉じ排水弁６を開いた
時、処理槽、配管内の水は点線矢印のように完全
に排水され、内部を乾燥させることが可能とな
る。
２から先の配管は下向きに傾斜して結合点４に到
る。これにより給水弁２を閉じ排水弁６を開いた
時、処理槽、配管内の水は点線矢印のように完全
に排水され、内部を乾燥させることが可能とな
る。
また、薬品を用いて滅菌処理を行なつても薬品
を含む水を完全に捨て去ることができるため、弁
の誤操作があつても給水管中に薬品が混入する恐
れがない。リサイクル・システムを採用しても回
収管９の中へ薬品を混入させることがない。
を含む水を完全に捨て去ることができるため、弁
の誤操作があつても給水管中に薬品が混入する恐
れがない。リサイクル・システムを採用しても回
収管９の中へ薬品を混入させることがない。
配管部分Ｔ字型Ａ、Ｌ字型Ｂを用いて行なつた
配管の実施例を第３図に示す。
配管の実施例を第３図に示す。
本考案の処理槽を採用することにより、処理槽
とこれに続く配管の完全な排水が可能となり、水
中でのバクテリアの増殖が防止でき、更に滅菌処
理の際の弁の誤操作によるトラブルがなくなり、
リサイクル・システムへの薬品の混入の危険性も
なく、処理槽の保守管理上優れた効果を発揮する
ことができる。
とこれに続く配管の完全な排水が可能となり、水
中でのバクテリアの増殖が防止でき、更に滅菌処
理の際の弁の誤操作によるトラブルがなくなり、
リサイクル・システムへの薬品の混入の危険性も
なく、処理槽の保守管理上優れた効果を発揮する
ことができる。
なお、上記の実施例では、半導体ウエハを水洗
処理する処理装置を示したが、本考案の処理装置
は溶液を用いる処理のための処理装置として半導
体ウエハのみならず他の被処理物用としても広く
利用できる。
処理する処理装置を示したが、本考案の処理装置
は溶液を用いる処理のための処理装置として半導
体ウエハのみならず他の被処理物用としても広く
利用できる。
また、図示した処理装置では、給供弁２と結合
点との間の配管部分を供給弁２から結合点４へ向
つて水平より下方へ傾くよう設置した場合を示し
たが、たとえば管そのものの設置は水平で、これ
を貫通する孔が水平より下方へ傾く上記の要件を
具備するものであつてもよい。
点との間の配管部分を供給弁２から結合点４へ向
つて水平より下方へ傾くよう設置した場合を示し
たが、たとえば管そのものの設置は水平で、これ
を貫通する孔が水平より下方へ傾く上記の要件を
具備するものであつてもよい。
第１図は従来の処理装置を示す図、第２図、第
３図は本考案処理装置の実施例を示す図である。 １……給水管、２……供給弁、３……処理槽、
４……結合点、５……排水管、６……排水弁、
７，８……配管部分、９……外槽、１０……回収
管。
３図は本考案処理装置の実施例を示す図である。 １……給水管、２……供給弁、３……処理槽、
４……結合点、５……排水管、６……排水弁、
７，８……配管部分、９……外槽、１０……回収
管。
Claims (1)
- 処理槽と、供給弁を有し、同供給弁より流れの
方向の配管部分に於て供給路が水平より下へ傾き
結合点に連なり、更に、この結合点より上方へ向
い前記処理槽へ到る供給配管および上記結合点よ
り下方へ向い排液弁を有する排液管とからなる給
排管とを有することを特徴とする処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9921181U JPS586784U (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9921181U JPS586784U (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS586784U JPS586784U (ja) | 1983-01-17 |
| JPS6212472Y2 true JPS6212472Y2 (ja) | 1987-03-31 |
Family
ID=29893952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9921181U Granted JPS586784U (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS586784U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63201820U (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-26 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS533185A (en) * | 1976-06-30 | 1978-01-12 | Seiko Epson Corp | Electrochromic display element system |
-
1981
- 1981-07-02 JP JP9921181U patent/JPS586784U/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS533185A (en) * | 1976-06-30 | 1978-01-12 | Seiko Epson Corp | Electrochromic display element system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS586784U (ja) | 1983-01-17 |
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