JPS62124276A - フツ素ド−プ酸化スズコ−テイングを生ずる改良化学蒸着法 - Google Patents
フツ素ド−プ酸化スズコ−テイングを生ずる改良化学蒸着法Info
- Publication number
- JPS62124276A JPS62124276A JP60299697A JP29969785A JPS62124276A JP S62124276 A JPS62124276 A JP S62124276A JP 60299697 A JP60299697 A JP 60299697A JP 29969785 A JP29969785 A JP 29969785A JP S62124276 A JPS62124276 A JP S62124276A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier gas
- trichloride
- weight
- fluorine
- dopant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/407—Oxides of zinc, germanium, cadmium, indium, tin, thallium or bismuth
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
(11発明の分野
本発明は酸スズコーティングに関し、より詳しくは化学
蒸着によりフッ素ドープ酸化スズコーティングを生ずる
改良法に関する。
蒸着によりフッ素ドープ酸化スズコーティングを生ずる
改良法に関する。
(2)従来技術の説明
フッ素ドープ酸化スズコーティングがガラス、セラミッ
クス、金属および元素フィラメント(ele+++en
tal ft1a+*ent)を含む多種の基材表面に
有用な性質を与えることが知られている。上記被覆基材
はエネルギー効果窓(energy efficien
twindoi+)並びにオプトエレクトロ二ソクおよ
び半導体デバイスにおける熱反射要素として用途が見出
される。
クス、金属および元素フィラメント(ele+++en
tal ft1a+*ent)を含む多種の基材表面に
有用な性質を与えることが知られている。上記被覆基材
はエネルギー効果窓(energy efficien
twindoi+)並びにオプトエレクトロ二ソクおよ
び半導体デバイスにおける熱反射要素として用途が見出
される。
酸化スズコーティングの化学蒸着は文献に記載され、例
えば米国特許第3,677.814号、第3.949,
146号、第4,130.673号、第4,146,6
57号、第4.213,594号、第4,265,97
4号、シン・ソリッド・フイルムズ(Th1n 5ol
id Films ) 77、51〜63 (1981
)i65〜66;およびジャーナル・オブ・ジ・エレク
トロケミカル・ソサイエテイ (J、 Electro
chem、 Soc、 ) 、122.1144(19
75)が参照される。
えば米国特許第3,677.814号、第3.949,
146号、第4,130.673号、第4,146,6
57号、第4.213,594号、第4,265,97
4号、シン・ソリッド・フイルムズ(Th1n 5ol
id Films ) 77、51〜63 (1981
)i65〜66;およびジャーナル・オブ・ジ・エレク
トロケミカル・ソサイエテイ (J、 Electro
chem、 Soc、 ) 、122.1144(19
75)が参照される。
従来技術に記載された化学蒸着法はプロセス条件、また
は使用組成物、あるいは生ずる酸化スズコーティングの
性質が一定商業用途に完全には満足されない点に1つま
たはより多くの不利益がある。例えば製品がエネルギー
効果窓である場合に成功はプロセスで得られるコーティ
ングの比較的高くかつ変動するシート抵抗および低い蒸
着速度により制限された。
は使用組成物、あるいは生ずる酸化スズコーティングの
性質が一定商業用途に完全には満足されない点に1つま
たはより多くの不利益がある。例えば製品がエネルギー
効果窓である場合に成功はプロセスで得られるコーティ
ングの比較的高くかつ変動するシート抵抗および低い蒸
着速度により制限された。
ケイン(Kane )は米国特許第3.949.146
号においてアンチモンでドープしたジブチルススジアセ
タート、ビス(トリーn−プロピル)スズオキシドまた
はビス(トリーn−ブチル)スズオキシドからの酸化ス
ズコーティングの化学蒸着を記載している。しかし、抵
抗がプロセス変数に無関係である低いシート抵抗のフッ
素ドープコーティングを生成する方法の開示はない。
号においてアンチモンでドープしたジブチルススジアセ
タート、ビス(トリーn−プロピル)スズオキシドまた
はビス(トリーn−ブチル)スズオキシドからの酸化ス
ズコーティングの化学蒸着を記載している。しかし、抵
抗がプロセス変数に無関係である低いシート抵抗のフッ
素ドープコーティングを生成する方法の開示はない。
化学蒸着法はまたカトウ(Kato )により米国特許
第4 、500 、567号に開示される。この方法は
各反応物の別々のガス流から形成される七ノブチルスズ
トリクロリドとハロジフルオロメタンとのガス混合物を
用いる。ガス混合物は次いでガラス表面上に蒸着される
。しかし、この方法ではコーティングの電気的性質が適
当でなく、また蒸着時間が長い。
第4 、500 、567号に開示される。この方法は
各反応物の別々のガス流から形成される七ノブチルスズ
トリクロリドとハロジフルオロメタンとのガス混合物を
用いる。ガス混合物は次いでガラス表面上に蒸着される
。しかし、この方法ではコーティングの電気的性質が適
当でなく、また蒸着時間が長い。
従来技術の上記考察から明らかなようにフッ素ドープ酸
化スズコーティングの改良化学蒸着法、殊にプロセス条
件の範囲で一定かつ最低のシート抵抗を有するそのよう
なコーティングを与える方法が必要である。
化スズコーティングの改良化学蒸着法、殊にプロセス条
件の範囲で一定かつ最低のシート抵抗を有するそのよう
なコーティングを与える方法が必要である。
発明の概要
本発明によれば、反応性有機フッ素ドーパントおよび有
機スズ化合物を含む液体コーティング組成物を用いてフ
ッ素ドープ酸化スズコーティングを形成する改良された
化学蒸着法が提供される。
機スズ化合物を含む液体コーティング組成物を用いてフ
ッ素ドープ酸化スズコーティングを形成する改良された
化学蒸着法が提供される。
この方法は生ずるコーティングが最低かつ一定のシート
抵抗を有し、それが温度に実質的に無関係であるように
規定した一組のプロセス条件のもとで行なわれる。この
方法における変数は気相中のキャリヤーガス、水、有機
フッ素ドーパントおよび有機スズ化合物の濃度である。
抵抗を有し、それが温度に実質的に無関係であるように
規定した一組のプロセス条件のもとで行なわれる。この
方法における変数は気相中のキャリヤーガス、水、有機
フッ素ドーパントおよび有機スズ化合物の濃度である。
これらの濃度は式、
〔式中、
(エア)はキャリヤーガスの濃度、モル、(11□0)
はキャリヤーガス中の水の濃度、モル、(OFD )は
キャリヤーガス中の有機フッ素ドーーバントの濃度、モ
ル、 (O)はキャリヤーガス中の有機スズ化合物の濃度、モ
ル、 である〕 により規定されるパラメーターMにより関連される。
はキャリヤーガス中の水の濃度、モル、(OFD )は
キャリヤーガス中の有機フッ素ドーーバントの濃度、モ
ル、 (O)はキャリヤーガス中の有機スズ化合物の濃度、モ
ル、 である〕 により規定されるパラメーターMにより関連される。
適当には、Mは50,000またはそれ未満、好ましく
は20,000またはそれ未満の値を有する。
は20,000またはそれ未満の値を有する。
これらのM値において、蒸着した酸化スズコーティング
は最低かつ一定のシート抵抗を有し、それは蒸着温度に
実質的に無関係である。規定した値より裔いM値ではシ
ート抵抗はMが増加するとともに増加し、蒸着温度とと
もに増加する。
は最低かつ一定のシート抵抗を有し、それは蒸着温度に
実質的に無関係である。規定した値より裔いM値ではシ
ート抵抗はMが増加するとともに増加し、蒸着温度とと
もに増加する。
化学蒸着法は有機フ・ノ素ドーパント1〜30重量%お
よび有機スズ化合物70〜99%を含む液体コーティン
グ組成物を用いて行なわれる。好ましい組成は有機フッ
素ドーパント2〜10%および有機スズ化合物90〜9
8重量%、並びに場合による極性有機溶媒1〜10重量
%である。
よび有機スズ化合物70〜99%を含む液体コーティン
グ組成物を用いて行なわれる。好ましい組成は有機フッ
素ドーパント2〜10%および有機スズ化合物90〜9
8重量%、並びに場合による極性有機溶媒1〜10重量
%である。
蒸着はガラス上に行なわれ、50,000またはそれ未
満、好ましくは20,000またはそれ未満のM値に対
して約25オーム/sq、の最低かつ一定のシート抵抗
を有する180〜210r+n+の厚さのフッ素ドープ
酸化スズコーティングが生成される。
満、好ましくは20,000またはそれ未満のM値に対
して約25オーム/sq、の最低かつ一定のシート抵抗
を有する180〜210r+n+の厚さのフッ素ドープ
酸化スズコーティングが生成される。
発明の詳細な説明
次に第1図を参照すると本発明の化学蒸着法を行なうの
に適する装置が線図的に示される。酸素を含み、空気が
好ましいキャリヤーガスIOは計量されてフィードライ
ン11に送られ、空気乾燥塔12を通って乾燥空気の流
れ13を与える。別の空気の流れが適当量の水15を含
む増湿装置14を通って所望相対湿度の湿潤空気流16
を与える。それにより湿潤空気流17は注入ポンプ20
および注入器21により蒸発器18へ供給された液体コ
ーティング組成物を保持する容器19を入れた蒸発器1
8を通過する。空気流は油浴(図示されていない)から
所望の蒸発温度に加熱される。
に適する装置が線図的に示される。酸素を含み、空気が
好ましいキャリヤーガスIOは計量されてフィードライ
ン11に送られ、空気乾燥塔12を通って乾燥空気の流
れ13を与える。別の空気の流れが適当量の水15を含
む増湿装置14を通って所望相対湿度の湿潤空気流16
を与える。それにより湿潤空気流17は注入ポンプ20
および注入器21により蒸発器18へ供給された液体コ
ーティング組成物を保持する容器19を入れた蒸発器1
8を通過する。空気流は油浴(図示されていない)から
所望の蒸発温度に加熱される。
空気流22中の蒸発した液体コーティング組成物は次い
で、基材25が熱板26上に配置され、コーティングノ
ズル24を存する蒸着室23へ移動する。所望のコーテ
ィングの蒸着後、蒸着の気体副生物が排出される。
で、基材25が熱板26上に配置され、コーティングノ
ズル24を存する蒸着室23へ移動する。所望のコーテ
ィングの蒸着後、蒸着の気体副生物が排出される。
本発明の方法における液体コーティング組成物は
(al 炭素がカルボン酸、酸無水物、エステル、ア
ルコール、ケトン、酸ハロゲン化物またはエーテルから
選ばれる酸素に結合している官能基に対するαまたはβ
に少くとも1個のフッ素原子が位置する反応性有機フッ
素ドーパント化合物1〜30重量%、 (b) アルキルスズトリクロリド、ジアルキルスズ
ジクロリド、アルキルジクロロスズアセタート、ジアル
キルクロロスズジアセタート、またはエステルスズトリ
クロリドである有機スズ化合物、あるいは四塩化スズ7
0〜99重量%、を含む。
ルコール、ケトン、酸ハロゲン化物またはエーテルから
選ばれる酸素に結合している官能基に対するαまたはβ
に少くとも1個のフッ素原子が位置する反応性有機フッ
素ドーパント化合物1〜30重量%、 (b) アルキルスズトリクロリド、ジアルキルスズ
ジクロリド、アルキルジクロロスズアセタート、ジアル
キルクロロスズジアセタート、またはエステルスズトリ
クロリドである有機スズ化合物、あるいは四塩化スズ7
0〜99重量%、を含む。
従って、適当な官能基および反応性有機フッ素ドーパン
トには次のものが含まれる。
トには次のものが含まれる。
互土杢/匁
トリフルオロ酢酸
クロロジフルオロ酢酸
ジフルオロ酢酸
ヘプトフルオロ醋酸
ペンタフルオロプロピオン酸
3−トリフルオロメチルクロトン酸
酸無水物
トリフルオロ酢酸無水物
ペンタフルオロ酪酸無水物
ペンタフルオロプロピオン酸無水物
クロロジフルオロ酢酸無水物
ペルフルオログルタル酸=水物
ペルフルオロコハク酸無水物
エステル
トリフルオロ酢酸エチル
トリフルオロ酢酸ブチル
ブロモジフルオロ酢酸エチル
クロロフルオロ酢酸エチル
ペンタフルオロプロピオン酸メチル
ヘプトフルオロ酪酸メチル
トリフルオロ酢酸メチル
ペルフルオロブテン−3−酸メチル
トリフルオロ酢酸2,2.2−トリフルオロエチル
酢酸1,1、■−トリフルオロイソプロピルアルコ −
ル 2.2.2−)リフルオロエタノール IH,IH−へブタフルオロブタノール−13,3,4
,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンタノール−2 ヘプタフルオロイソプロパツール ヘキサフルオロ−2−メチルイソプロパツール IH,IH,5H−オクタフルオロ−1−ペンタノール ペルフルオロ−t−ブタノール 2−トリフルオロメチルプロパノ−ルー21.1.1−
)リフルオロプロパノ−ルー2ケトン 4.4.4−)リフルオロアセト酢酸エチル1.1.1
−トリフルオロアセチルアセトンビス(ペルフルオロイ
ソプロピル)ケトン3−ブロモ−1,1,1−トリフル
オロプロパノン 4.4.4−トリフルオロアセト酢酸エチルヘキサフル
オロアセチルアセトン ペンタフルオ口エチルエチルケトン 1.1.1−トリフルオロアセトン メチルへブタフルオロプロピルケトン 酸ハロゲン化物 ヘプタフルオロブチリルクロリド ベルフルオログルタリルフルオリド ベルフルオロオクタノイルクロリド ベルフルオロサクシニルクロリド エーテル 2−クロロ−1,1,1−)リフルオロエチルメチルエ
ーテル 2−クロロ−1,1,2−トリフルオロエチルエチルエ
ーテル 代表的な反応性有機フッ素ドーパントにはトリフルオロ
酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、トリフルオロアセト酢
酸エチル、トリフルオロエタノール、トリフルオロ酢酸
エチル、ペンタフルオロプロピオン酸、2−クロロ−1
,1,2−)リフルオロエチルエチルエーテル、1,1
.1−)リフルオロアセチルアセトンおよびヘプタフル
オロブチリルクロリドが含まれる。
ル 2.2.2−)リフルオロエタノール IH,IH−へブタフルオロブタノール−13,3,4
,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンタノール−2 ヘプタフルオロイソプロパツール ヘキサフルオロ−2−メチルイソプロパツール IH,IH,5H−オクタフルオロ−1−ペンタノール ペルフルオロ−t−ブタノール 2−トリフルオロメチルプロパノ−ルー21.1.1−
)リフルオロプロパノ−ルー2ケトン 4.4.4−)リフルオロアセト酢酸エチル1.1.1
−トリフルオロアセチルアセトンビス(ペルフルオロイ
ソプロピル)ケトン3−ブロモ−1,1,1−トリフル
オロプロパノン 4.4.4−トリフルオロアセト酢酸エチルヘキサフル
オロアセチルアセトン ペンタフルオ口エチルエチルケトン 1.1.1−トリフルオロアセトン メチルへブタフルオロプロピルケトン 酸ハロゲン化物 ヘプタフルオロブチリルクロリド ベルフルオログルタリルフルオリド ベルフルオロオクタノイルクロリド ベルフルオロサクシニルクロリド エーテル 2−クロロ−1,1,1−)リフルオロエチルメチルエ
ーテル 2−クロロ−1,1,2−トリフルオロエチルエチルエ
ーテル 代表的な反応性有機フッ素ドーパントにはトリフルオロ
酢酸、トリフルオロ酢酸無水物、トリフルオロアセト酢
酸エチル、トリフルオロエタノール、トリフルオロ酢酸
エチル、ペンタフルオロプロピオン酸、2−クロロ−1
,1,2−)リフルオロエチルエチルエーテル、1,1
.1−)リフルオロアセチルアセトンおよびヘプタフル
オロブチリルクロリドが含まれる。
典型的な有機スズ化合物にはモノブチルスズトリクロリ
ド、ジブチルスズジクロリド、ブチルジクロロスズアセ
タート、ブチルクロロスズジアセタート、カルベトキシ
エチルスズトリクロリドが含まれる。四塩化スズもまた
スズ化合物として使用できる。
ド、ジブチルスズジクロリド、ブチルジクロロスズアセ
タート、ブチルクロロスズジアセタート、カルベトキシ
エチルスズトリクロリドが含まれる。四塩化スズもまた
スズ化合物として使用できる。
本発明の好ましい形態において液体コーティング組成物
には有機フッ素化合物2〜10重量%および有機スズ化
合物90〜98重量%が含まれる。
には有機フッ素化合物2〜10重量%および有機スズ化
合物90〜98重量%が含まれる。
本発明の液体コーティング組成物はまた極性有機化合物
を、組成物の約100〜約%の量で含み、それは低温に
おける液体組成物の安定性を保証する。極性有機液体が
存在するとき液体コーティング組成物には有機フッ素ド
ーパント2〜10重量%、有機スズ化合物80〜97重
量%および極性有機液体1〜10重量%が含まれる。
を、組成物の約100〜約%の量で含み、それは低温に
おける液体組成物の安定性を保証する。極性有機液体が
存在するとき液体コーティング組成物には有機フッ素ド
ーパント2〜10重量%、有機スズ化合物80〜97重
量%および極性有機液体1〜10重量%が含まれる。
本発明の好ましい形態において、有機フッ素ドーパント
はトリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸無水物またはト
リフルオロアセト酢酸エチルであり、有機スズ化合物は
モノブチルスズトリクロリドである。
はトリフルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸無水物またはト
リフルオロアセト酢酸エチルであり、有機スズ化合物は
モノブチルスズトリクロリドである。
プロセスにおける蒸発温度は適当には約100〜約40
0℃の範囲であり、約150〜250℃が好ましい。基
材温度は約400〜約700℃、好ましくは約550〜
約650℃の範囲である。
0℃の範囲であり、約150〜250℃が好ましい。基
材温度は約400〜約700℃、好ましくは約550〜
約650℃の範囲である。
キャリヤーガスは酸素含有ガスであり、それは空気また
は、酸素と不活性ガスとの混合物であることができ、好
ましくは空気である。
は、酸素と不活性ガスとの混合物であることができ、好
ましくは空気である。
キャリヤーガスは本発明のプロセス中で水蒸気を含有す
る。
る。
被覆される基材はガラス、セラミック、ソリッドステー
ト材料、金属、元素フィラメントなどであることができ
る。
ト材料、金属、元素フィラメントなどであることができ
る。
酸化スズフィルムのシート抵抗(オーム/SQ、 )は
ASTM標準法F374−81に従って普通の4点プロ
ーブで測定される。
ASTM標準法F374−81に従って普通の4点プロ
ーブで測定される。
フィルム厚さはブリティッシュ・スタンダーズ・インス
チチューション(Br1tish 5tandards
Institution )法B55411:バート1
2.1981、l5O3543−1981に従うβ後方
散乱(beta−back−scatter )法によ
り測定される。
チチューション(Br1tish 5tandards
Institution )法B55411:バート1
2.1981、l5O3543−1981に従うβ後方
散乱(beta−back−scatter )法によ
り測定される。
次に第2図を参照すると本発明のプロセス条件を規定す
るパラメーターMを変えて最低かつ一定のシート抵抗を
有するフッ素ドープ酸化スズコーティングを得ることが
できることが知られる。
るパラメーターMを変えて最低かつ一定のシート抵抗を
有するフッ素ドープ酸化スズコーティングを得ることが
できることが知られる。
50.000以下のM値に対し、コーティングのシート
抵抗は、約180〜210nIl+の厚さで25オーム
/sq、である。so、oooを超えるM値に対し、シ
ート抵抗はMが増すとともに急速に増加する。
抵抗は、約180〜210nIl+の厚さで25オーム
/sq、である。so、oooを超えるM値に対し、シ
ート抵抗はMが増すとともに急速に増加する。
実施例I
M値50,000以下である条件のもとで作った酸化ス
ズコーティング 七ノブチルスズトリクロリド(MBTC)100部、ト
リフルオロ酢酸(TFA)4.04部および無水酢酸(
AA)(、比重1.62)1.45部の液体コーティン
グ組成物を、120℃に加熱した蒸発器に10.5g/
時の流量で送った。これはMBTCO,035モル/時
およびTFAo、0035モル/時に相当する。次いで
空気28.8モル/時および■4□00.067モル/
時を含む湿潤空気を蒸発器に通し蒸気を500℃に加熱
したガラススライド上に20秒で蒸着させた。生じたコ
ーティングは210tvの厚さを有した。計算M値は1
6,000であった。コーティングの測定シート抵抗は
25オーム/sq、であった。
ズコーティング 七ノブチルスズトリクロリド(MBTC)100部、ト
リフルオロ酢酸(TFA)4.04部および無水酢酸(
AA)(、比重1.62)1.45部の液体コーティン
グ組成物を、120℃に加熱した蒸発器に10.5g/
時の流量で送った。これはMBTCO,035モル/時
およびTFAo、0035モル/時に相当する。次いで
空気28.8モル/時および■4□00.067モル/
時を含む湿潤空気を蒸発器に通し蒸気を500℃に加熱
したガラススライド上に20秒で蒸着させた。生じたコ
ーティングは210tvの厚さを有した。計算M値は1
6,000であった。コーティングの測定シート抵抗は
25オーム/sq、であった。
実施例2
M値がso、oooより高い条件のもとで作った酸化ス
ズコーティング MBTCI O0部、TFA2部およびA A 0.7
2部の液体コーティング組成物を蒸発器中へ10.5g
/時の流量で送った。これはMBTCo、036モル/
時でTFAo、0018モル/時に相当する。
ズコーティング MBTCI O0部、TFA2部およびA A 0.7
2部の液体コーティング組成物を蒸発器中へ10.5g
/時の流量で送った。これはMBTCo、036モル/
時でTFAo、0018モル/時に相当する。
次いで空気27.6モル/時およびH,01,02モル
/時を含む湿潤空気を蒸発器に通し、形成された蒸気混
合物を、500℃に加熱したガラススライド上に蒸着さ
せた。12秒で19On+mの厚さを有するフッ素ドー
プ酸化スズコーティングが生成された。計算M値は4.
3X10’であった。コーティングの測定シート抵抗は
239オーム/sq。
/時を含む湿潤空気を蒸発器に通し、形成された蒸気混
合物を、500℃に加熱したガラススライド上に蒸着さ
せた。12秒で19On+mの厚さを有するフッ素ドー
プ酸化スズコーティングが生成された。計算M値は4.
3X10’であった。コーティングの測定シート抵抗は
239オーム/sq。
であった。
実施例3
実施例1および2の手順に従い、50,000以下およ
びそれより高いM値に相当するMBTClTFA、空気
および水の濃度における小変動を試験し、第2図のグラ
フに記録した。50,000以下でシート抵抗は実質的
に最低で、約30オーム/sq、の一定値と測定された
が、so、oooより高いM(iiに対してシート抵抗
は実質的に高(、M値が増すとともに急速に増加した。
びそれより高いM値に相当するMBTClTFA、空気
および水の濃度における小変動を試験し、第2図のグラ
フに記録した。50,000以下でシート抵抗は実質的
に最低で、約30オーム/sq、の一定値と測定された
が、so、oooより高いM(iiに対してシート抵抗
は実質的に高(、M値が増すとともに急速に増加した。
規定したM値内で行なった本発明のドープ酸化スズコー
ティングはまた広い範囲の蒸着温度にわたり最低かつ一
定のシート抵抗を有することが認められたが、高いM値
(50,000より高い)で作った同様のコーティング
は異なる蒸着温度で増加するシート抵抗を示す。
ティングはまた広い範囲の蒸着温度にわたり最低かつ一
定のシート抵抗を有することが認められたが、高いM値
(50,000より高い)で作った同様のコーティング
は異なる蒸着温度で増加するシート抵抗を示す。
本発明はその一定の態様について記載されたけれども、
該技術内である変形および変更を行なうことができるこ
とが理解されよう。従って本発明は特許請求の範囲のみ
により拘束されるものである。
該技術内である変形および変更を行なうことができるこ
とが理解されよう。従って本発明は特許請求の範囲のみ
により拘束されるものである。
第1図は適当な化学蒸着法を行なう装置の略図であり、
第2図は本発明の方法により生じた酸化スズコーティン
グに対するシート抵抗のM値に対するグラフである。 10・・・キャリヤーガス、 12・・・乾燥塔14
・・・増湿装置、 15・・・水18・・・蒸発
器、 20・・・注入ポンプ21・・・注入
器、 23・・・蒸着室24・・・コーティ
ングノズル、 25・・・基材26・・・熱板。
グに対するシート抵抗のM値に対するグラフである。 10・・・キャリヤーガス、 12・・・乾燥塔14
・・・増湿装置、 15・・・水18・・・蒸発
器、 20・・・注入ポンプ21・・・注入
器、 23・・・蒸着室24・・・コーティ
ングノズル、 25・・・基材26・・・熱板。
Claims (12)
- (1)異なるプロセス条件のもとで最低かつ一定のシー
ト抵抗を有するフッ素ドープ酸化スズコーティングを生
ずる改良化学蒸着法であって、 (a)有機フッ素ドーパントおよび有機スズ化合物を含
む液体コーティング組成物であって、(i)炭素がカル
ボン酸、酸無水物、エステル、アルコール、ケトン、酸
ハロゲン化物またはエーテルから選ばれる酸素に結合し
ている官能基に対するαまたはβに少くとも1個のフッ
素原子が位置する有機フッ素ドーパント1〜30重量%
、および (ii)アルキルスズトリクロリド、ジアルキルスズジ
クロリド、アルキルジクロロスズアセタート、ジアルキ
ルクロロスズジアセタートまたはエステルスズトリクロ
リドである有機スズ化合物、あるいは四塩化スズ70〜
99重量%、 を含む液体コーティング組成物を形成し、 (b)前記液体コーティング組成物を湿潤キャリヤーガ
ス中へ蒸発させてキャリヤーガス、水、有機フッ素ドー
パントおよび有機スズ化合物の蒸気混合物を形成し、 (c)前記蒸気混合物を基材上で分解して前記コーティ
ングを形成させる、 ことを含み、 前記成分の蒸気濃度は、 M=(エア)(H_2O)/(OFD)(O) 〔式中、 (エア)はキャリヤーガスの濃度、モル、 (H_2O)はキャリヤーガス中の水の濃度、モル、 (OFD)はキャリヤーガス中の有機フッ素ドーパント
の濃度、モル、 (O)はキャリヤーガス中の有機スズ化合物の濃度、モ
ル、 である〕 として規定されるパラメーターMが50,000以下の
値を有しそれにより前記値のMに対し最低かつ一定のシ
ート抵抗を有するフッ素ドープ酸化スズコーティングが
生ずることを特徴とする化学蒸着法。 - (2)Mが20,000またはそれ未満の値を有する、
特許請求の範囲第(1)項記載の方法。 - (3)シート抵抗が約180〜210nmの厚さで約2
5オーム/sq.である、特許請求の範囲第(1)項記
載の方法。 - (4)液体コーティング組成物が前記有機フッ素ドーパ
ント2〜10重量%と前記有機スズ化合物90〜98重
量%とからなる、特許請求の範囲第(1)項記載の方法
。 - (5)液体コーティング組成物が極性有機化合物1〜1
0重量%を含む、特許請求の範囲第(1)項記載の方法
。 - (6)前記組成物が前記有機フッ素ドーパント2〜10
重量%、前記有機スズ化合物80〜97重量%および前
記極性有機化合物1〜10重量%を含む、特許請求の範
囲第(5)項記載の方法。 - (7)極性有機化合物が無水酢酸、酢酸エチルまたはメ
チルイメブチルケトンである、特許請求の範囲第(6)
項記載の方法。 - (8)蒸発温度が100〜400℃である、特許請求の
範囲第(1)項記載の方法。 - (9)蒸着温度が400℃より高く700℃より低い、
特許請求の範囲第(1)項記載の方法。 - (10)基材がガラスである、特許請求の範囲第(1)
項記載の方法。 - (11)蒸着温度の上昇に関して実質的に最低かつ一定
のシート抵抗を有する、特許請求の範囲第(1)項記載
の方法の生成物。 - (12)有機スズ化合物がモノブチルスズトリクロリド
、メチルスズトリクロリド、イソブチルスズトリクロリ
ド、ジブチルスズジクロリド、ジ−t−ブチルスズジク
ロリド、ブチルジクロロスズアセタート、ブチルクロロ
スズジアセタート、またはカルベトキシエチルスズトリ
クロリドである、特許請求の範囲第(1)項記載の方法
。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US687067 | 1984-12-28 | ||
US06/687,067 US4590096A (en) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | Water vapor, reaction rate and deposition rate control of tin oxide film by CVD on glass |
US748648 | 1985-06-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62124276A true JPS62124276A (ja) | 1987-06-05 |
JPH036993B2 JPH036993B2 (ja) | 1991-01-31 |
Family
ID=24758907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60299697A Granted JPS62124276A (ja) | 1984-12-28 | 1985-12-26 | フツ素ド−プ酸化スズコ−テイングを生ずる改良化学蒸着法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4590096A (ja) |
JP (1) | JPS62124276A (ja) |
KR (1) | KR930004071B1 (ja) |
ZA (1) | ZA859527B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100666521B1 (ko) * | 1998-07-10 | 2007-01-11 | 메리엔느, 질르 | 산화 주석 필름 제조용 액상 코팅 조성물 및 이를 이용한 산화 주석 필름의 제조 방법 |
JP2008069071A (ja) * | 1995-07-25 | 2008-03-27 | Pilkington Group Ltd | ガラスをコーティングする方法 |
KR101352922B1 (ko) * | 2009-03-31 | 2014-01-17 | 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 | 모노부틸틴 트리클로라이드의 회수 |
JP2018535905A (ja) * | 2015-09-09 | 2018-12-06 | ピルキントン グループ リミテッド | 堆積法 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4696837A (en) * | 1985-06-25 | 1987-09-29 | M&T Chemicals Inc. | Chemical vapor deposition method of producing fluorine-doped tin oxide coatings |
EP0225342B1 (en) * | 1985-05-14 | 1990-08-22 | ATOCHEM NORTH AMERICA, INC. (a Pennsylvania corp.) | Method of producing transparent, haze-free tin oxide coatings |
US4776870A (en) * | 1985-08-05 | 1988-10-11 | Ford Motor Company | Method for improving emmissivity value of a pyrolytically applied film |
GB8630791D0 (en) * | 1986-12-23 | 1987-02-04 | Glaverbel | Coating glass |
US4857095A (en) * | 1987-08-10 | 1989-08-15 | Ford Motor Company | Method for forming a fluorine-doped tin oxide coating on a glass substrate |
US5004490A (en) * | 1987-08-10 | 1991-04-02 | Ford Motor Company | Method of making glass substrate coated with tin oxide |
US5108983A (en) * | 1989-11-21 | 1992-04-28 | Georgia Tech Research Corporation | Method for the rapid deposition with low vapor pressure reactants by chemical vapor deposition |
US5124180A (en) * | 1991-03-11 | 1992-06-23 | Btu Engineering Corporation | Method for the formation of fluorine doped metal oxide films |
US5393563A (en) * | 1991-10-29 | 1995-02-28 | Ellis, Jr.; Frank B. | Formation of tin oxide films on glass substrates |
JP3485918B2 (ja) * | 1991-12-26 | 2004-01-13 | アトフィナ・ケミカルズ・インコーポレイテッド | ガラス基体の被覆法 |
US5863337A (en) * | 1993-02-16 | 1999-01-26 | Ppg Industries, Inc. | Apparatus for coating a moving glass substrate |
US5356718A (en) * | 1993-02-16 | 1994-10-18 | Ppg Industries, Inc. | Coating apparatus, method of coating glass, compounds and compositions for coating glasss and coated glass substrates |
US5599387A (en) * | 1993-02-16 | 1997-02-04 | Ppg Industries, Inc. | Compounds and compositions for coating glass with silicon oxide |
US5496583A (en) * | 1994-08-29 | 1996-03-05 | Amoco/Enron Solar | Hydrogen fluoride dopant source in the preparation of conductive coated substrate |
US5725904A (en) * | 1995-06-02 | 1998-03-10 | Elf Atochem North America, Inc. | Liquid methyltin halide compositions |
DE19526100C1 (de) * | 1995-07-18 | 1996-07-18 | Goldschmidt Ag Th | Stabilisiertes Monobutylzinntrichlorid |
US5536308A (en) * | 1995-07-21 | 1996-07-16 | Quattlebaum, Jr.; William M. | Compositions and methods for glass coating formation |
US5698262A (en) * | 1996-05-06 | 1997-12-16 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for forming tin oxide coating on glass |
GB9616983D0 (en) | 1996-08-13 | 1996-09-25 | Pilkington Plc | Method for depositing tin oxide and titanium oxide coatings on flat glass and the resulting coated glass |
US6596398B1 (en) | 1998-08-21 | 2003-07-22 | Atofina Chemicals, Inc. | Solar control coated glass |
WO2003065386A1 (fr) * | 2002-01-28 | 2003-08-07 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Procede permettant de former un film conducteur transparent, ledit film conducteur transparent, substrat de verre comportant ledit film conducteur transparent et unite de transduction photoelectrique comprenant ledit substrat de verre |
US20050196623A1 (en) * | 2004-03-03 | 2005-09-08 | Mckown Clem S.Jr. | Solar control coated glass composition |
US8734903B2 (en) | 2011-09-19 | 2014-05-27 | Pilkington Group Limited | Process for forming a silica coating on a glass substrate |
CN102603206A (zh) * | 2012-03-21 | 2012-07-25 | 浙江大学 | 一种多层氧化锡掺氟镀膜玻璃及其制备方法 |
US20130334089A1 (en) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | Michael P. Remington, Jr. | Glass Container Insulative Coating |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4265974A (en) * | 1976-11-01 | 1981-05-05 | Gordon Roy G | Electrically conductive, infrared reflective, transparent coatings of stannic oxide |
US4293594A (en) * | 1980-08-22 | 1981-10-06 | Westinghouse Electric Corp. | Method for forming conductive, transparent coating on a substrate |
-
1984
- 1984-12-28 US US06/687,067 patent/US4590096A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-12-11 KR KR1019850009308A patent/KR930004071B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1985-12-12 ZA ZA859527A patent/ZA859527B/xx unknown
- 1985-12-26 JP JP60299697A patent/JPS62124276A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008069071A (ja) * | 1995-07-25 | 2008-03-27 | Pilkington Group Ltd | ガラスをコーティングする方法 |
KR100666521B1 (ko) * | 1998-07-10 | 2007-01-11 | 메리엔느, 질르 | 산화 주석 필름 제조용 액상 코팅 조성물 및 이를 이용한 산화 주석 필름의 제조 방법 |
KR101352922B1 (ko) * | 2009-03-31 | 2014-01-17 | 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 | 모노부틸틴 트리클로라이드의 회수 |
JP2018535905A (ja) * | 2015-09-09 | 2018-12-06 | ピルキントン グループ リミテッド | 堆積法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR930004071B1 (ko) | 1993-05-20 |
KR860005048A (ko) | 1986-07-16 |
ZA859527B (en) | 1986-08-27 |
JPH036993B2 (ja) | 1991-01-31 |
US4590096A (en) | 1986-05-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62124276A (ja) | フツ素ド−プ酸化スズコ−テイングを生ずる改良化学蒸着法 | |
US4696837A (en) | Chemical vapor deposition method of producing fluorine-doped tin oxide coatings | |
EP0186481B1 (en) | Improved chemical vapor deposition method of producing fluorine-doped tin oxide coatings | |
US4601917A (en) | Liquid coating composition for producing high quality, high performance fluorine-doped tin oxide coatings | |
JP2010502558A (ja) | 酸化亜鉛被覆物品を製造するための低温法 | |
US6416814B1 (en) | Volatile organometallic complexes of lowered reactivity suitable for use in chemical vapor deposition of metal oxide films | |
US4965137A (en) | Liquid preparation for the production of electrically conductive and infrared-reflecting fluorine-doped tin oxide layers on glass or glass-ceramic surfaces, as well as a method for the production of such layers | |
US4743506A (en) | Tin oxide coated article | |
US4600654A (en) | Method of producing transparent, haze-free tin oxide coatings | |
EP0158399B1 (en) | Liquid coating composition for producing high quality, high performance fluorine-doped tin oxide coatings | |
JP2589291B2 (ja) | 虹彩抑制方法 | |
US4788079A (en) | Method of making haze-free tin oxide coatings | |
KR960015222B1 (ko) | 유기 디- 또는 트리카르복실레이트와 유기 플루오로산의 액체 피복조성물과, 낮은 체적 저항률과 낮은 헤이즈 값을 갖는 유리에 불소-도우프 산화 주석 피막을 형성시키는 화학 증착법 | |
JP3423770B2 (ja) | フッ素ドープ酸化スズ被膜の形成用の液体前駆物質および該液体前駆物質の被覆方法 | |
US5032319A (en) | Liquid preparation for the production of electrically conductive and infrared-reflecting fluorine-doped tin oxide layers on glass or glass-ceramic surfaces, as well as a method for the production of such layer | |
JPH0769679A (ja) | ガラス−、ガラスセラミック−又はエナメル表面上に導電性の赤外線反射層を製造する方法 | |
JPH046796B2 (ja) | ||
JP3821963B2 (ja) | ガラス用コーティング剤、およびそれを用いたガラス材料のコーティング方法 | |
US5000790A (en) | Liquid coating composition comprising an organotin di- or tricarboxylate and an organic fluoroacid, and method of coating a transparent substrate therewith | |
JP3889221B2 (ja) | Ito透明導電膜形成用塗布液および透明導電膜の形成方法 | |
US4963437A (en) | Liquid preparation for the production of electrically conductive and infrared-reflecting fluorine-doped tin oxide layers on glass or glass-ceramic surfaces, as well as a method for the production of such layer | |
US6994800B1 (en) | Liquid precursors for formation of materials containing alkali metals | |
JP4683525B2 (ja) | 透明導電膜、及び透明導電膜形成材料 | |
JPS5923403B2 (ja) | 透明導電膜の製造方法 | |
KR890004619B1 (ko) | 플루오르화물이 함유된 산화주석피막 형성용 액체조성물과 피막의 형성방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |