JPS62120625A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体に関するものであり、特にコンピ
ュータのメモリ装置等に用いられる磁気ディスク等の磁
気記録媒体として、優れた特性をもつ合金薄膜を有する
磁気記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

近年、磁気記録媒体として広く用いられているものは、
ｒ　−ＦｅｚＯｆｆ＋　Ｆｅ：＋０４．　Ｃｏ−Ｆｅ５
Ｏ４，Ｃｏ−７−ＦＩ３２０３等の磁性微粒子を顔料と
する磁性塗料を基体上に塗布した、いわゆる粉末塗布型
媒体である。しかしながら、このような粉末塗布型媒体
では、生産技術上の問題からその厚さを０．２μｍ以下
にすることが困難であり、さらに記録密度にも限界があ
る。

このような状況から、新しい磁気記録媒体として、メッ
キ法、真空蒸着法、スパッタ法等により作製された結合
剤を使用しない合金薄膜が有望視され種々提案されてい
る。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、メッキ法による金属薄膜においては、長
期間における耐蝕性が劣ることや、化学的活性化処理が
廃液による公害問題を発生させる恐れがあり、その処理
に多大の出費を要することなどから未だ充分に実用化さ
れていない。

また、真空蒸着法やスパッタ法により作製された磁性薄
膜は、メッキ法によるものに比べて、種々の優れた特長
を有するために極めて有用なものであり、数多く提案さ
れているが、従来知られているものは耐蝕性および雑音
特性の点において必ずしも満足できないなどの問題点を
残しているのが実情である。

本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、その目
的とするところは、真空蒸着法やスパッタ法により、耐
蝕性に優れ良好な磁気特性を有しノイズ特性の良い磁性
薄膜を提供するものである。

〔問題を解決するための手段〕

この目的を達成するために、本発明の磁気記録媒体は、
真空蒸着法またはスパッタ法によりＣＯを主成分とし、
Ｎｉ１５〜３０ａｔ％、　Ｃｒｌ　〜１５ａｔ％。

Ｒｕ０．１〜５ａｔ％、を含む磁性薄膜を有するもので
ある。また磁性薄膜の膜厚は０．０１〜０．２μｍ、好
ましくは０．０３〜０．１４μｍとすることにより、よ
り好ましい効果を得ることができる。

Ｎｉが１５ａｔ％未満では角形比が小さくなり出力は劣
る。また３０ａｔ％を越すと飽和磁化の値が減少し出力
特性は劣る。またＣｒ　１　ａｔ％未満では耐食性に及
ぼす効果は劣る。また１５ａｔ％より多く含むと磁気特
性が劣り出力は著しく劣化する。

Ｒｕは０．１ａｔ％以下では効果が認められない。また
５ａｔ％を越すと磁気特性は劣化し出力が得られない。

また、本発明において使用される基板としては、セラミ
ックス、ガラスまたはポリイミド、ポリエステル等の高
分子材料からなる基板、さらには高純度アルミ板および
その表面をアルマイト処理したものなどが用いられ、該
基板上に真空蒸着法またはスバ・ツタ法により上記合金
薄膜が成膜されるものである。

このようにして成膜された０、０１〜０．２μｍ、好ま
しくは０．０３〜０．１μｍ厚さの磁性薄膜は、磁化容
易軸が膜面内に揃い、高保磁力、高角形比を有し耐蝕性
およびノイズ特性が優れている。

本発明の磁気記録媒体を製造する場合の条件や手順など
は、通常の方法に則って行うことが可能であり、例えば
容器内を１０−５〜１０−’Ｔｏｒｒ程度に排気した後
、真空蒸着法により成膜する方法、あるいは排気された
容器に１０４〜１０−”Ｔｏｒｒ程度のスパッタガスを
導入しスパッタリングを行う方法などにより実施できる
。

尚、この際、膜の均一化と共に所定の磁気特性となるよ
うにスパッタ圧および投入電力を適宜調整することは言
うまでもない。上記スパッタリング等により、所定厚さ
の薄膜が基板上に形成された後、これを容器から取り出
し、必要に応じ熱処理を行い、磁気記録媒体が得られる
。

〔実施例〕

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、
本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定
されるものではない。

実施例Ｉ ＲＦスパッタ装置を用いて円盤状の磁気記録媒体（磁気
ディスク）を製造した。条件は次の通りである。

基板；厚さ２１の純アルミニウム合金に下地としてＣｒ
を０．１〜０．３μｍ厚さにスパッターしたもの 外径（直径）：１３０ｍｍ 内径（直径）：　４０龍 ターゲット組成；Ｎｉ１５ａｔ％＋　Ｃｒ　１　ａ　ｔ
％。

Ｒｕ０．１ａｔ％、残部Ｃｏの合金ターゲット運転条件
；投入電力　　　５００Ｗ 周波数　　　　１３．５６ＭＨ。

スパッタ時間　１４分 初期排気　　　２　Ｘ　１０　”６Ｔｏｒｒ雲囲気　　
　　アルゴン スパッタ時アルゴン圧力 ４〜１２　Ｘ　１０−３Ｔｏｒｒ 基板温度　　１４５℃ 上記条件でスパッタリングして得た、磁性層０．０７μ
ｍの膜厚を有する磁気ディスクの磁気特性は、角形比０
．９０．保磁カフ５０エルステツド。

飽和磁束密度は１４，２００ガウスであった。

ノイズ測定をした結果シグナルノイズ比は３５ｄＢであ
った。

実施例２ 上記実施例１に示される条件下で、ターゲット組成のみ
変化させ、以下の組成にてスパッタリングを行った。

ターゲット組成；Ｎ＋２０ａｔ％、Ｃｒ２ａｔ％。

Ｒｕ５ａｔ％、残部ＣＯの合金ターゲット上記実施例１
と同じ条件でスパッタリングして得た磁性層０．０７μ
ｍの膜厚を有する磁気ディスクの磁気特性は角形比０．
９５．保磁カフ３０エルステツド、飽和磁束密度は１３
９００ガウスであった。

シグナルノイズ比は３６ｄＢであった。

実施例３ 容器内を８　Ｘ　Ｉ　Ｏ−’Ｔｏｒｒに初期排気し、Ｎ
ｆ２５ａｔ％、Ｃｒ５ａｔ％、Ｒｕ２ａｔ％、残部Ｇｏ
からなる合金インゴットを真空蒸着法によりタングステ
ンバスケットより蒸発させ、０．０９μｍの磁性膜をセ
ラミック基板上に成膜した。このようにして成膜された
磁性膜の磁気特性は、角形比０．９０．保磁カフ２０エ
ルステツド、飽和磁束密度は１３８００ガウスであった
。シグナルノイズ比は３６ｄＢであった。

実施例４ 容器内を８　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒに初期排気し、Ｎｉ
３０ａｔ％、　Ｃｒｌ　５ａｔ％、Ｒｕ３ａｔ％、残部
ＣＯを含むＦｅ合金インゴットを真空蒸着法によりタン
グステンバスケットから蒸発させ０．０６μｍの磁性膜
を、アルマイト処理した純アルミニウム基板上に成膜し
た。このようにして成膜された磁性膜の磁気特性は角形
比０．８５．保磁カフ００エルステツド、飽和磁束密度
は１１．０００ガウスであった。シグナルノイズ比は３
５ｄＢであった。

比較例 容器内を８　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒに初期排気し、組成
へとしてＩＩＨ１５ａｔ％の残部Ｃｏ８５ａｔ％合金イ
ンゴットおよび組成りＮｉ３０ａｔ％、残部Ｃｏからな
る合金インゴットをそれぞれ真空蒸着法によりタングス
テンバスケットから蒸発させ０．０８μｍの磁気層をア
ルマイト処理した純アルミニウム基板に成膜した。この
ようにして成膜された磁性膜の磁性特性は、夫々Ａは角
形比０．８５．保磁カフ２０エルステツド、飽和磁束密
度１４，５００ガウス又シグナルノイズ比は２７ｄＢで
あった。組成（Ｂ）では角形比０．７０．保磁カフ００
エルステツド、飽和磁束密度１３．４００ガウスであっ
た。シグナルノイズ比は一２５ｄＢであった。

実施例１から実施例４で形成された磁性薄膜及び比較例
Ａ、Ｂを、湿度８０％、８０℃の雰囲気中に１０日間放
置した結果、第１表に示される磁気特性が得られた。

第　　１　　表 実施例１から４において形成した磁性薄膜のものは、磁
気特性に優れ、また耐蝕性に優れていることが認められ
、また、ノイズ特性が優れている。

一方、それらと比較して、比較例における磁性薄膜Ａ、
Ｂのものは磁気特性は良いが耐蝕性およびノイズ特性が
劣るこ止が認められた。

〔発明の効果〕

以上の通り、本発明によれば耐蝕性に優れ、良好な磁気
特性を有しノイズ特性が優れた磁気記録媒体が容易に製
造できるため、その工業的寄与は極めて大きい。

手続補圧雪 昭和　６左７・　目　　日

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）原子比でＮｉが１５〜３０ａｔ％、Ｃｒ１〜１５
   ａｔ％、Ｒｕ０．１〜５ａｔ％、残部が実質的にＣｏか
   ら成る磁性薄膜を有することを特徴とする磁気記録媒体
   。
2. （２）上記磁性薄膜がスパッタ法または真空蒸着法によ
   り成膜された特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体
   。