JPS6211971B2 - - Google Patents
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- JPS6211971B2 JPS6211971B2 JP7511778A JP7511778A JPS6211971B2 JP S6211971 B2 JPS6211971 B2 JP S6211971B2 JP 7511778 A JP7511778 A JP 7511778A JP 7511778 A JP7511778 A JP 7511778A JP S6211971 B2 JPS6211971 B2 JP S6211971B2
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- switch
- pulse
- machining
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- discharge
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- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
- B23H1/022—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges for shaping the discharge pulse train
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H2300/00—Power source circuits or energization
- B23H2300/20—Relaxation circuit power supplies for supplying the machining current, e.g. capacitor or inductance energy storage circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は放電加工、ワイヤーカツト放電加工、
電解加工、電解研削加工、放電被覆加工、電解放
電加工、又は電着加工等の電気加工に用いられる
パルス電源の改良である。
電解加工、電解研削加工、放電被覆加工、電解放
電加工、又は電着加工等の電気加工に用いられる
パルス電源の改良である。
従来加工単位のパルス巾τpo.sと間隔τpff.s
を持つたパルスの高周波のパルス列を低周波の時
間々隔で中断制御したパルスを発生し、これを加
工用パルスとして利用することが知られている。
このような高周波のパルス列による加工によれ
ば、放電加工等において加工面粗さが良くなり、
中断制御間隔で放電が休止することにより間隙の
洗浄ができ、またアーク、短絡の停止制御ができ
るから安定加工ができ、加工速度も向上する効果
が得られ、ワイヤーカツトではワイヤー電極の断
線が少なくなり、また放電被覆加工では中断制御
によつて放電点の冷却ができ、放電は単位パルス
による小さい放電を高周波で繰返すから面粗さが
良く、被覆量も増大できるといつた効果があり、
電解加工ではイオンコントロールが良好にでき、
且つ電流制御が容易等、諸種な電気加工に極めて
効果が大きいことがわかつた。しかし、従来の高
周波パルス列を所定時間中断させる形式の電気加
工用パルス電源は、電源と加工間隙とを結ぶ回路
中に高周波スイツチングされるスイツチング素子
を直列に挿入すると共に該スイツチング動作を一
定時間で中断することにより、単一パルスの集合
からなる放電時間と放電休止時間とを設けるよう
に構成していた。
を持つたパルスの高周波のパルス列を低周波の時
間々隔で中断制御したパルスを発生し、これを加
工用パルスとして利用することが知られている。
このような高周波のパルス列による加工によれ
ば、放電加工等において加工面粗さが良くなり、
中断制御間隔で放電が休止することにより間隙の
洗浄ができ、またアーク、短絡の停止制御ができ
るから安定加工ができ、加工速度も向上する効果
が得られ、ワイヤーカツトではワイヤー電極の断
線が少なくなり、また放電被覆加工では中断制御
によつて放電点の冷却ができ、放電は単位パルス
による小さい放電を高周波で繰返すから面粗さが
良く、被覆量も増大できるといつた効果があり、
電解加工ではイオンコントロールが良好にでき、
且つ電流制御が容易等、諸種な電気加工に極めて
効果が大きいことがわかつた。しかし、従来の高
周波パルス列を所定時間中断させる形式の電気加
工用パルス電源は、電源と加工間隙とを結ぶ回路
中に高周波スイツチングされるスイツチング素子
を直列に挿入すると共に該スイツチング動作を一
定時間で中断することにより、単一パルスの集合
からなる放電時間と放電休止時間とを設けるよう
に構成していた。
ところが、このように電源からスイツチング素
子を介しただけで単一パルスの集合からなる加工
用パルスを得るよう構成した場合、単一パルスの
繰返し周波数及びピーク電流値を高くするには大
容量の電源を用いなければならなかつた。
子を介しただけで単一パルスの集合からなる加工
用パルスを得るよう構成した場合、単一パルスの
繰返し周波数及びピーク電流値を高くするには大
容量の電源を用いなければならなかつた。
本発明は大容量の電源を用いなくても充分に高
い繰返し周波数及びピーク電流値を有するパルス
列を容易に制御して発生できるパルス電源を提供
するもので、複数個の充放電コンデンサを設け、
該コンデンサの充電回路にスイツチを挿入すると
共に、各コンデンサの充放電回路に各々独立した
スイツチを挿入せしめ、該放電回路の各スイツチ
に順次位相差のある高周波の制御パルスを供給す
るパルス発生装置を設け、前記充電回路のスイツ
チには低周波の制御パルスを供給するパルス発生
装置を設け、前記充電回路のスイツチをオン導通
している間は前記放電回路のスイツチをオフせし
め、前記放電回路の各スイツチを順次オン導通制
御する間は前記充電回路のスイツチをオフするよ
う前記両パルス発生装置が関連制御されるように
し、前記各コンデンサの放電による高周波のパル
ス列がコンデンサの充電による低周波の時間々隔
で中断された加工パルスを発生するようにしたこ
とを特徴とする。
い繰返し周波数及びピーク電流値を有するパルス
列を容易に制御して発生できるパルス電源を提供
するもので、複数個の充放電コンデンサを設け、
該コンデンサの充電回路にスイツチを挿入すると
共に、各コンデンサの充放電回路に各々独立した
スイツチを挿入せしめ、該放電回路の各スイツチ
に順次位相差のある高周波の制御パルスを供給す
るパルス発生装置を設け、前記充電回路のスイツ
チには低周波の制御パルスを供給するパルス発生
装置を設け、前記充電回路のスイツチをオン導通
している間は前記放電回路のスイツチをオフせし
め、前記放電回路の各スイツチを順次オン導通制
御する間は前記充電回路のスイツチをオフするよ
う前記両パルス発生装置が関連制御されるように
し、前記各コンデンサの放電による高周波のパル
ス列がコンデンサの充電による低周波の時間々隔
で中断された加工パルスを発生するようにしたこ
とを特徴とする。
以下図面の一実施例により本発明を説明する。
第１図において、１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ
は充放電用コンデンサ、２ａ，２ｂ，２ｃ，２
ｄ，２ｅは各々の充電回路に挿入した整流体、３
は充電々源をスイツチングするスイツチ、４が充
電々源、５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅは放電回
路に挿入したスイツチで、サイリスタを用いるこ
とによつて整流器も兼用している。各サイリスタ
の出力端子を接続して加工間隙に供給するよう接
続する。加工間隙はワイヤ電極６と被加工体７よ
り成り、ワイヤーカツトが行なわれる実施例を示
す。８はカウンタ、９はデコーダー、１０はクロ
ツク発振器で、これにより放電回路の各スイツチ
５ａ，５ｂ，５ｃ……を順次にオン、オフ制御す
る位相差のある高周波の制御パルスを発生する。
１１はカウンタ８をクランプするアンドゲート、
１２は出力をフイードバツクするノツトゲート、
１３は充電回路のスイツチ３に低周波の制御パル
スを加えるワンシヨツトマルチ、１４はワンシヨ
ツト完了時にクリア信号を出力するアンドゲー
ト、１５は遅延回路である。
第１図において、１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ
は充放電用コンデンサ、２ａ，２ｂ，２ｃ，２
ｄ，２ｅは各々の充電回路に挿入した整流体、３
は充電々源をスイツチングするスイツチ、４が充
電々源、５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅは放電回
路に挿入したスイツチで、サイリスタを用いるこ
とによつて整流器も兼用している。各サイリスタ
の出力端子を接続して加工間隙に供給するよう接
続する。加工間隙はワイヤ電極６と被加工体７よ
り成り、ワイヤーカツトが行なわれる実施例を示
す。８はカウンタ、９はデコーダー、１０はクロ
ツク発振器で、これにより放電回路の各スイツチ
５ａ，５ｂ，５ｃ……を順次にオン、オフ制御す
る位相差のある高周波の制御パルスを発生する。
１１はカウンタ８をクランプするアンドゲート、
１２は出力をフイードバツクするノツトゲート、
１３は充電回路のスイツチ３に低周波の制御パル
スを加えるワンシヨツトマルチ、１４はワンシヨ
ツト完了時にクリア信号を出力するアンドゲー
ト、１５は遅延回路である。
スイツチ３のオン導通により充電されたコンデ
ンサ１ａ〜１ｅはスイツチ５ａ〜５ｂのオン．オ
フスイツチング制御によつて放電する。カウンタ
８が発振器１０のパルスをカウントすることによ
りデコーダー９のａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，Ｇ端子に
順次信号を出力し、初めにａ端子の出力パルスが
スイツチ５ａをオンしてコンデンサ１ａをワイヤ
ー電極６と被加工体７間に放電し、次にｂ端子の
出力パルスによりスイツチ５ｂがオンしてコンデ
ンサ１ｂが放電し、順次ｃ，ｄ，ｅ端子の出力パ
ルスによりスイツチ５ｃ，５ｄ，５ｅがオンして
コンデンサ１ｃ，１ｄ，１ｅが放電し、充電した
全部のコンデンサの放電が終える。そしてカウン
タ８のカウントによつてデコーダ９のＧ端子に信
号が出力すると、ワンシヨツトマルチ１３は起動
信号を加えると共に、ノツトゲート１２で位相反
転してアンドゲート１１に加え、アンド出力を０
にする。即ちこのときは発振器１０からのパルス
はカウンタ８に加わらないようゲードオフ状態を
保持する。ワンシヨツトマルチ１３は前記信号の
入力により作動して低周波のパルスを出力し充電
スイツチ３をオン導通して前記コンデンサ１ａ〜
１ｅの充電を行なう。充電時間はワンシヨツトマ
ルチ１３によつて決められ、所要の充電が行なわ
れるよう調整される。充電時間が完了するとワン
シヨツトマルチ１３の信号がアンドゲート１４で
結合してカウンタ８に加わりカウンタはクリアさ
れる。カウンタ８がクリアするとデコーダ９のＧ
端子の出力は消えるからノツトゲート１２の出力
は１になりアンドゲート１１を経て発振器１０の
出力パルスがカウンタ８に加わりカウントを始め
る。このときは既でに充電スイツチ３はオフして
コンデンサ回路は充電々源４から切り離した状態
にある。カウンタ８はクリアされた後、カウント
を始め、そのカウント数に応じてデコーダ９の端
子ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ……の順次にパルスが出力
し、スイツチ５ａ〜５ｂをオンしてコンデンサ１
ａ〜１ｅの放電を順次行なう。発振器１０は高周
波を発振し、カウンタ８、デコーダ８からは高周
波パルスが順次スイツチ５ａ〜５ｂに加わるから
各コンデンサ１ａ〜１ｅによる順次放電は高周波
で繰返される。
ンサ１ａ〜１ｅはスイツチ５ａ〜５ｂのオン．オ
フスイツチング制御によつて放電する。カウンタ
８が発振器１０のパルスをカウントすることによ
りデコーダー９のａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，Ｇ端子に
順次信号を出力し、初めにａ端子の出力パルスが
スイツチ５ａをオンしてコンデンサ１ａをワイヤ
ー電極６と被加工体７間に放電し、次にｂ端子の
出力パルスによりスイツチ５ｂがオンしてコンデ
ンサ１ｂが放電し、順次ｃ，ｄ，ｅ端子の出力パ
ルスによりスイツチ５ｃ，５ｄ，５ｅがオンして
コンデンサ１ｃ，１ｄ，１ｅが放電し、充電した
全部のコンデンサの放電が終える。そしてカウン
タ８のカウントによつてデコーダ９のＧ端子に信
号が出力すると、ワンシヨツトマルチ１３は起動
信号を加えると共に、ノツトゲート１２で位相反
転してアンドゲート１１に加え、アンド出力を０
にする。即ちこのときは発振器１０からのパルス
はカウンタ８に加わらないようゲードオフ状態を
保持する。ワンシヨツトマルチ１３は前記信号の
入力により作動して低周波のパルスを出力し充電
スイツチ３をオン導通して前記コンデンサ１ａ〜
１ｅの充電を行なう。充電時間はワンシヨツトマ
ルチ１３によつて決められ、所要の充電が行なわ
れるよう調整される。充電時間が完了するとワン
シヨツトマルチ１３の信号がアンドゲート１４で
結合してカウンタ８に加わりカウンタはクリアさ
れる。カウンタ８がクリアするとデコーダ９のＧ
端子の出力は消えるからノツトゲート１２の出力
は１になりアンドゲート１１を経て発振器１０の
出力パルスがカウンタ８に加わりカウントを始め
る。このときは既でに充電スイツチ３はオフして
コンデンサ回路は充電々源４から切り離した状態
にある。カウンタ８はクリアされた後、カウント
を始め、そのカウント数に応じてデコーダ９の端
子ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ……の順次にパルスが出力
し、スイツチ５ａ〜５ｂをオンしてコンデンサ１
ａ〜１ｅの放電を順次行なう。発振器１０は高周
波を発振し、カウンタ８、デコーダ８からは高周
波パルスが順次スイツチ５ａ〜５ｂに加わるから
各コンデンサ１ａ〜１ｅによる順次放電は高周波
で繰返される。
このようしてコンデンサが放電するときは充電
回路のスイツチ３がオフし、コンデンサの充電中
は放電回路のスイツチ５ａ〜５ｅがオフしてコン
デンサの充放電制御を行なうから安定した加工パ
ルスを発生する。各コンデンサ１ａ〜１ｅによる
放電パルスはパルス巾τpo.sを有し、発振器１
０、カウンタ８、デコーダ９により決まるスイツ
チ５ａ〜５ｅの位相差制御によつて間隙τpff.s
が制御され、第３図のように５個のコンデンサ１
ａ〜１ｅの放電によつてパルス巾τpo.sと間隔
τpff.sをする５個のパルス放電が行なわれパル
ス列を形成する。勿論各コンデンサ１ａ〜１ｅは
容量及び放電特性を等しくし、１パルス放電は加
工単位を形成し、小容量でよく、５個の放電が集
団となつて大きなパルスτpoを形成する。パルス
巾τpo中に含まれるパルス数はコンデンサ１ａ〜
１ｅを更に多く設けることによつてパルス列を長
く形成でき、また各コンデンサの容量又は放電特
性を異ならせて構成すればパルス列波形を任意に
変形制御することができる。各コンデサの放電が
終了するとワンシヨツトマルチ１３が作動し充電
回路のスイツチがオンしし、各コンデンサは同時
充働されるが、この充電時間中はスイツチ５ａ〜
５ｅがオフして放電回路は遮断され、放電休止す
る間隔τpffが制御される。即ちちようどスイツ
チ３がオンして充電時間が放電中断間隔τpffに
なり、ワンシヨツトマルチ１３によつて決定され
制御される。このようにパルス列は時間巾τpo続
き、次にコンデンサの充電時間の中断間隔τpff
をおき、これが繰返される第３図の加工パルスを
発生する。単位パルスの巾τpo.s、間隔τpff.s
は加工態様、加工条件等によつて異なるが通常１
〜100μｓ、パルス列パルスの巾τpo、間隔τpff
は10〜100ｍｓ程度の範囲に設定される。
回路のスイツチ３がオフし、コンデンサの充電中
は放電回路のスイツチ５ａ〜５ｅがオフしてコン
デンサの充放電制御を行なうから安定した加工パ
ルスを発生する。各コンデンサ１ａ〜１ｅによる
放電パルスはパルス巾τpo.sを有し、発振器１
０、カウンタ８、デコーダ９により決まるスイツ
チ５ａ〜５ｅの位相差制御によつて間隙τpff.s
が制御され、第３図のように５個のコンデンサ１
ａ〜１ｅの放電によつてパルス巾τpo.sと間隔
τpff.sをする５個のパルス放電が行なわれパル
ス列を形成する。勿論各コンデンサ１ａ〜１ｅは
容量及び放電特性を等しくし、１パルス放電は加
工単位を形成し、小容量でよく、５個の放電が集
団となつて大きなパルスτpoを形成する。パルス
巾τpo中に含まれるパルス数はコンデンサ１ａ〜
１ｅを更に多く設けることによつてパルス列を長
く形成でき、また各コンデンサの容量又は放電特
性を異ならせて構成すればパルス列波形を任意に
変形制御することができる。各コンデサの放電が
終了するとワンシヨツトマルチ１３が作動し充電
回路のスイツチがオンしし、各コンデンサは同時
充働されるが、この充電時間中はスイツチ５ａ〜
５ｅがオフして放電回路は遮断され、放電休止す
る間隔τpffが制御される。即ちちようどスイツ
チ３がオンして充電時間が放電中断間隔τpffに
なり、ワンシヨツトマルチ１３によつて決定され
制御される。このようにパルス列は時間巾τpo続
き、次にコンデンサの充電時間の中断間隔τpff
をおき、これが繰返される第３図の加工パルスを
発生する。単位パルスの巾τpo.s、間隔τpff.s
は加工態様、加工条件等によつて異なるが通常１
〜100μｓ、パルス列パルスの巾τpo、間隔τpff
は10〜100ｍｓ程度の範囲に設定される。
発生パルスはワイヤー電極６と被加工体７の加
工間隙に供給され、放電加工されるが、パルス巾
τpo.sと間隔τpff.sを有する高周波で繰返され
る単位パルス列によつて加工されるから加工速度
を高く、加工面粗さを良くし、且つ電極消耗比を
少なくして能率の良い加工をすることができ、ま
たパルス列による放電は単位パルスが断続するも
のであるから放電々々流波高値Ipを充分高くする
ことができ、この点からも加工速度を高めること
ができ、また所定の単位パルスのパルス列の次に
放電が休止する中断間隔τpffがあり、この中断
制御により放電によつて発生し濃度が高まる加工
間隙の加工屑、ガス等が排除され洗浄され、次の
パルス列による放電を安定化し安定した加工を繰
返すことができる。またこの中断間隔の存在は前
の放電によつて発生したアーク、短絡を中断停止
制御することができ、安定加工を維持し、したが
つてワイヤー電極６は断線することなく安定に加
工を進行させることができ高能率の加工が行なえ
る効果がある。
工間隙に供給され、放電加工されるが、パルス巾
τpo.sと間隔τpff.sを有する高周波で繰返され
る単位パルス列によつて加工されるから加工速度
を高く、加工面粗さを良くし、且つ電極消耗比を
少なくして能率の良い加工をすることができ、ま
たパルス列による放電は単位パルスが断続するも
のであるから放電々々流波高値Ipを充分高くする
ことができ、この点からも加工速度を高めること
ができ、また所定の単位パルスのパルス列の次に
放電が休止する中断間隔τpffがあり、この中断
制御により放電によつて発生し濃度が高まる加工
間隙の加工屑、ガス等が排除され洗浄され、次の
パルス列による放電を安定化し安定した加工を繰
返すことができる。またこの中断間隔の存在は前
の放電によつて発生したアーク、短絡を中断停止
制御することができ、安定加工を維持し、したが
つてワイヤー電極６は断線することなく安定に加
工を進行させることができ高能率の加工が行なえ
る効果がある。
なお複数の放電スイツチを位相差を有して順次
オン．オフ制御するパルス発生回路はリングカウ
ンタ等を用いて構成でき、また充電スイツチを制
御するパルス発生回路はクロツク発振パルスを分
周する分周器で構成することもでき、任意に回路
構成の変更ができる。
オン．オフ制御するパルス発生回路はリングカウ
ンタ等を用いて構成でき、また充電スイツチを制
御するパルス発生回路はクロツク発振パルスを分
周する分周器で構成することもでき、任意に回路
構成の変更ができる。
第２図は他の実施例で、１６ａ，１６ｂ，１６
ｃは充放電用コンデンサ、２１はスイツチ、２２
は直流電源、１７はトランス、１８ａ，１８ｂ，
１８ｃは整流器で、以上によりDF−HF−DCイ
ンバータを構成し、コンデンサ充電する。１９
ａ，１９ｂ，１９ｃは放電用の整流スイツチで、
この出力を接続して出力端子２０に接続する。２
３はスイツチ１９ａ，１９ｂ，１９ｃを順次制御
するパルス発生回路、２４は充電スイツチ２１を
オン．オフ制御するパルス発生回路、２５は高周
波パルス発生回路で、アンドゲート２６を通して
前記スイツチ２１を高周波スイツチングする。
ｃは充放電用コンデンサ、２１はスイツチ、２２
は直流電源、１７はトランス、１８ａ，１８ｂ，
１８ｃは整流器で、以上によりDF−HF−DCイ
ンバータを構成し、コンデンサ充電する。１９
ａ，１９ｂ，１９ｃは放電用の整流スイツチで、
この出力を接続して出力端子２０に接続する。２
３はスイツチ１９ａ，１９ｂ，１９ｃを順次制御
するパルス発生回路、２４は充電スイツチ２１を
オン．オフ制御するパルス発生回路、２５は高周
波パルス発生回路で、アンドゲート２６を通して
前記スイツチ２１を高周波スイツチングする。
スイツチ２１は充電時間を制御すると共に、高
周波を発生するスイツチも兼用し、充電時間制御
の回路２４のパルス時間τpff中、高周波回路２
５の高周波パルスがアンドゲート２６を通してス
イツチ２１に加わりオン．オフスイツチングによ
り高周波を発生する。電源２２は商用交流電源を
直接整流した直流等に用いられ、これをスイツチ
ングすることにより高周波の交流を作りトランス
１７で変圧する。所定電圧に変圧された高周波は
２次、３次、４次出力コイル１７ａ，１７ｂ，１
７ｃから出力して各々整流器１８ａ，１８ｂ，１
８ｃで整流され、コンデンサ１６ａ，１６ｂ，１
６ｃを充電する。充電中は放電回路のスイツチ１
９ａ，１９ｂ，１９ｃはオフし放電回路は完全に
遮断されている。充電時間は回路２４のパルスに
よつて決められ、所要の充電時間が完了するとゲ
ート２６出力は０になりスイツチ２１はオフ状態
を維持する。一方パルス発生回路２４から回路２
３に起動信号が加わり、回路２３から順次高周波
の制御パルスが出力してスイツチ１９ａ〜１９ｃ
を順次位相差制御し各コンデンサ１６ａ，１６
ｂ，１６ｃを順次放電する。全コンデンサの放電
が終ると回路２４に起動信号が加わるからスイツ
チ２１をオンして再びコンデンサの充電を行な
う、この充電時にはスイツチ１９ａ〜１９ｃはオ
フして放電回路を遮断しており充電制御は常に一
様に行なわれる。以上のコンデンサ１６ａ，１６
ｂ，１６ｃの充放電が繰返すことによつて前記第
３図のようなパルス列の加工パルスを発生するこ
とができる。
周波を発生するスイツチも兼用し、充電時間制御
の回路２４のパルス時間τpff中、高周波回路２
５の高周波パルスがアンドゲート２６を通してス
イツチ２１に加わりオン．オフスイツチングによ
り高周波を発生する。電源２２は商用交流電源を
直接整流した直流等に用いられ、これをスイツチ
ングすることにより高周波の交流を作りトランス
１７で変圧する。所定電圧に変圧された高周波は
２次、３次、４次出力コイル１７ａ，１７ｂ，１
７ｃから出力して各々整流器１８ａ，１８ｂ，１
８ｃで整流され、コンデンサ１６ａ，１６ｂ，１
６ｃを充電する。充電中は放電回路のスイツチ１
９ａ，１９ｂ，１９ｃはオフし放電回路は完全に
遮断されている。充電時間は回路２４のパルスに
よつて決められ、所要の充電時間が完了するとゲ
ート２６出力は０になりスイツチ２１はオフ状態
を維持する。一方パルス発生回路２４から回路２
３に起動信号が加わり、回路２３から順次高周波
の制御パルスが出力してスイツチ１９ａ〜１９ｃ
を順次位相差制御し各コンデンサ１６ａ，１６
ｂ，１６ｃを順次放電する。全コンデンサの放電
が終ると回路２４に起動信号が加わるからスイツ
チ２１をオンして再びコンデンサの充電を行な
う、この充電時にはスイツチ１９ａ〜１９ｃはオ
フして放電回路を遮断しており充電制御は常に一
様に行なわれる。以上のコンデンサ１６ａ，１６
ｂ，１６ｃの充放電が繰返すことによつて前記第
３図のようなパルス列の加工パルスを発生するこ
とができる。
この第２図回路構成によつても前記と同様の加
工パルスを発生し、加工効果を期待できるが、電
源回路が高周波インバータを用いて高周波変圧し
て所定の電圧を得るようにしているので、コンデ
ンサの充電々圧を任意に制御でき、高電圧充電す
ることにより所定電圧まで急速充電することがで
き、また高周波制御でインバータの応答度も高
く、これにより中断間隔制御のパルス列の繰返し
数を高めることができる。
工パルスを発生し、加工効果を期待できるが、電
源回路が高周波インバータを用いて高周波変圧し
て所定の電圧を得るようにしているので、コンデ
ンサの充電々圧を任意に制御でき、高電圧充電す
ることにより所定電圧まで急速充電することがで
き、また高周波制御でインバータの応答度も高
く、これにより中断間隔制御のパルス列の繰返し
数を高めることができる。
本発明電源を利用した電気加工は放電加工以外
にも極めて効果的で、電解加工、メツキ加工等に
あつてはイオンコントロールが容易で、高精度の
精密加工が行なえ、電流値制御が極めて容易であ
る。また放電被覆加工を行なうときは被覆量の増
大ができ面粗さも極めて良好になる等効果が大き
い。本発明はこのような加工単位パルスのパルス
列パルスを所要の時間々隔で中断制御して休止さ
せる加工パルスが容易に発生でき、任意に制御で
きるものであり、電気加工用電源装置として効果
が大きい。
にも極めて効果的で、電解加工、メツキ加工等に
あつてはイオンコントロールが容易で、高精度の
精密加工が行なえ、電流値制御が極めて容易であ
る。また放電被覆加工を行なうときは被覆量の増
大ができ面粗さも極めて良好になる等効果が大き
い。本発明はこのような加工単位パルスのパルス
列パルスを所要の時間々隔で中断制御して休止さ
せる加工パルスが容易に発生でき、任意に制御で
きるものであり、電気加工用電源装置として効果
が大きい。
第１図は本発明の一実施例回路構成図、第２図
は他の実施例回路図、第３図は発生するパルス波
形の一実施例説明図である。 １ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅは充放電コンデ
ンサ、３は充電スイツチ、４は充電々源、５ａ，
５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅは放電スイツチ、８はカ
ウンタ、９はデコーダ、１０は発振器、１３はワ
ンシヨツトマルチ、１６ａ，１６ｂ，１６ｃは充
放電コンデンサ、１７はトランス、１９ａ，１９
ｂ，１９ｃは放電スイツチ、２１は高周波発生及
び充電兼用スイツチ、２３はスイツチ制御パルス
発生回路、２４はワンシヨツトマルチ、２５は高
周波パルス発生回路である。
は他の実施例回路図、第３図は発生するパルス波
形の一実施例説明図である。 １ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅは充放電コンデ
ンサ、３は充電スイツチ、４は充電々源、５ａ，
５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅは放電スイツチ、８はカ
ウンタ、９はデコーダ、１０は発振器、１３はワ
ンシヨツトマルチ、１６ａ，１６ｂ，１６ｃは充
放電コンデンサ、１７はトランス、１９ａ，１９
ｂ，１９ｃは放電スイツチ、２１は高周波発生及
び充電兼用スイツチ、２３はスイツチ制御パルス
発生回路、２４はワンシヨツトマルチ、２５は高
周波パルス発生回路である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 加工用電極と被加工体とが対向して形成する
加工間隙に繰返し加工パルスを供給して被加工体
を所望の形状に加工する電気加工装置において、
加工間隙に並列に複数個の充放電コンデンサを設
け、該複数コンデンサの共通充電回路にスイツチ
を挿入すると共に、各コンデンサの放電回路に
各々独立したスイツチを挿入せしめ、前記放電回
路の各スイツチに順次位相差のある高周波の制御
パルスを供給するパルス発生装置を設け、前記充
電回路のスイツチには低周波の制御パルスを供給
するパルス発生装置を設け、前記充電回路のスイ
ツチをオン導通している間は前記放電回路のスイ
ツチをオフせしめ前記放電回路の各スイツチを順
次オン導通制御する間は前記充電回路のスイツチ
をオフするように前記両パルス発生装置を関連制
御する回路を設け、前記放電回路のスイツチ制御
による各コンデンサの順次位相差放電の高周波の
パルス列が前記充電回路のスイツチ制御によるコ
ンデンサの充電を含む時間間隔で中断された加工
パルスを前記加工間隙に供給するようにしたこと
を特徴とする電気加工用パルス電源。 ２ 高周波パルス列はパルス幅τon.s、パルス間
隔τoff.sが１〜100μｓ、中断間隔τoffは10μ〜
100ｍｓにすることを特徴とする特許請求の範囲
第１項に記載の電気加工用パルス電源。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7511778A JPS555230A (en) | 1978-06-21 | 1978-06-21 | Pulse power source for electrical processing |
| US06/045,177 US4516009A (en) | 1978-06-14 | 1979-06-04 | Capacitor-type HF power supply for electrical machining |
| IT49405/79A IT1116248B (it) | 1978-06-14 | 1979-06-13 | Alimentatore ad alta frequenza di tipo capacitivo |
| FR7915304A FR2428494A1 (fr) | 1978-06-14 | 1979-06-14 | Dispositif d'alimentation electrique pour machines d'usinage par decharges electriques |
| GB7920811A GB2026921B (en) | 1978-06-14 | 1979-06-14 | Power supply |
| DE2954545A DE2954545C2 (ja) | 1978-06-14 | 1979-06-15 | |
| DE19792924170 DE2924170A1 (de) | 1978-06-14 | 1979-06-15 | Kondensator-stromversorgung fuer elektrische bearbeitung |
| US06/682,060 US4659894A (en) | 1978-06-14 | 1984-12-14 | Capacitor-type HF power supply for electrical machining |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7511778A JPS555230A (en) | 1978-06-21 | 1978-06-21 | Pulse power source for electrical processing |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS555230A JPS555230A (en) | 1980-01-16 |
| JPS6211971B2 true JPS6211971B2 (ja) | 1987-03-16 |
Family
ID=13566918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7511778A Granted JPS555230A (en) | 1978-06-14 | 1978-06-21 | Pulse power source for electrical processing |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS555230A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6219358U (ja) * | 1985-07-19 | 1987-02-05 | ||
| JPH0528302Y2 (ja) * | 1987-04-08 | 1993-07-20 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6029246A (ja) * | 1983-07-13 | 1985-02-14 | Fanuc Ltd | 放電加工機における接触感知装置 |
| JPS60180718A (ja) * | 1984-02-29 | 1985-09-14 | Fanuc Ltd | 放電加工電源 |
| DE3422399C2 (de) * | 1984-05-11 | 1986-03-06 | Aktiengesellschaft für industrielle Elektronik AGIE Losone bei Locarno, Losone, Locarno | Schaltungsanordnung zur Erzeugung von Erodierimpulsen an einer Funkenerosionsanlage |
| JPS63169220A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-13 | Shizuoka Seiki Co Ltd | 電源装置 |
| JPS6416319A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-19 | Shizuoka Seiki Co Ltd | Electric power source device for electrolytic working machine |
| JPS6411718A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-17 | Shizuoka Seiki Co Ltd | Power source for electrochemical machine |
| JPS6411719A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-17 | Shizuoka Seiki Co Ltd | Power source device for electrochemical machine |
| JPH0287384U (ja) * | 1988-12-23 | 1990-07-11 | ||
| US8470160B2 (en) * | 2009-09-28 | 2013-06-25 | General Electric Company | Methods, systems and apparatus relating to electrochemical machining |
| JP5745091B2 (ja) | 2011-12-07 | 2015-07-08 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｂｕｓｉｎｅｓｓ Ｍａｃｈｉｎｅｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 電子文書の表示を行う方法、並びにその装置及びコンピュータ・プログラム |
-
1978
- 1978-06-21 JP JP7511778A patent/JPS555230A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6219358U (ja) * | 1985-07-19 | 1987-02-05 | ||
| JPH0528302Y2 (ja) * | 1987-04-08 | 1993-07-20 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS555230A (en) | 1980-01-16 |
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