JPS62119542A - 銀錯塩拡散転写反転法用受像材料およびそれで形成した積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は銀錯塩拡散転写反転（ＤＴＲ）法を実施するの
に好適な受像材料およびＤＴＲ像を含有する積層体、即
ち積層物に関する。

銀錯塩拡散転写反転像形成の原理は例えばロンドン−ニ
ューヨークのフォーカルプレス１９７２年発行、アンド
ン・ロットおよびニブイス・ウェイト著、「フォトグラ
フィック・シルバー−ハライド・ディヒユージョン・プ
ロセシス」から知られている。

ＤＴＲ処理は本来湿式処理によるものであり、露光し、
現像した写真ハロゲン化銀材料は、親水性結合剤中に現
像核を含有する受像材料から分離された後でも尚湿って
いるプリントを生ぜしめる。ＤＴＲ受像材料用に知られ
ている結合剤は、アルギン酸誘導体、ポリビニルアルコ
ール、澱粉および澱粉誘導体、特にカルボキシメチルセ
ルロースまたはガラクトマンナンと組合せた形で、また
は単独で使用されたゼラチンの如き水中で膨潤する重合
体状親水性物質である（上述したロットおよびウェイト
の本の第４９頁参照）。他の合成有機結合剤には例えば
ボＩＪ　＋　Ｎ−ビニルピロリドン、ポリビニルエステ
ルと無水マレイン酸の共重合体がある。無機結合剤とし
てはコロイド状シリカが例えば米国特許第２６９８２３
７号に記載されている。

受像層の膨潤性はＤＴＲ像形成速度および像品質に大き
く影響を与える。事実層が膨潤するのが遅すぎると、Ｉ
）ＴＲ法全全体遅延される。従って錯化されたハロゲン
化銀の量から少なすぎる量の銀が付着し、濃度が低くな
りすぎて褐色偉を形成する。一方受儂層は強力に膨潤し
過ぎてはならない、何故なら儂鮮鋭度はこのとき劣るよ
うになり、拡散転写および乾燥時間が長くなり過ぎる。

更に膨潤が大き過ぎることにより、多過ぎる処理液が処
理された受像材料中に残り、保存したとき白色は黄色ま
たは褐色に変り、黒色像部分は劣化し、像銀が硫化銀に
変えることによって褐色になるようになる。

一般的に知られているように、硬化剤の添加はゼラチン
の膨潤力を低下させるが、通常これは銀錯塩の拡散速度
の減少を強くしすぎることを伴い、これによって短時間
処理での像品質に影響を与える。

受像層を紙でなく疎水性樹脂表面に付与しなければなら
ないとき、それがその表面に乾燥状態でのみならず温潤
状態でも充分に接着しなければならないという別の問題
が生ずる。

ハロゲン化銀写真材料または銀錯塩ＤＴＲ受容体材料に
使用する樹脂フィルム基体材料は本来的に疎水性である
、これに反して現像核を含有するコロイド層または通常
のゼラチン−ハロゲン化銀乳剤層は高度に親水性である
。疎水性フィルム基材と水透過性親水性受像層の間に適
切な固着を確実にすることは困難であり、特に固着がそ
の材料が受ける液体処理工程中で確実なままでいなけれ
ばならないときに困難である。

公告されたヨーロッパ特許出願第００６５３２９号およ
び対応する米国特許第４４２９０３２号に記載されてい
る如く、コロナ放電処理したポリ塩化ビニル支持体に対
するＤＴＲ像受容層の適当な固着は、ゼラチンの如き親
水性結合剤に対して５／１〜２／１の重量比でコロイド
状シリカを受像層中に使用することによって得られた。

かかる受像層は所望の接着を示すが、その凝着および擦
傷に対する抵抗性は相対的に劣るものとなる。

ポリエステル支持体に対する水不透過性非粘着性下塗層
中でのシロキサンの使用は米国特許第４０４８３５７号
に記載されており、写真ハロゲン化銀乳剤層中でのゼラ
チン硬化性シロキサン化合物の使用はＤＤＲ−Ｐ第１５
５０２２号に記載されている。

本発明の目的は低膨潤力を有ししかも良好な像形成品質
を有し、現像した写真材料から分離した直後でも実際上
乾燥感触のコピーを作りうる改良されたＤＴＲ像受像材
料を提供することにある。

本発明の別の目的は、受像層内側での架橋反応により、
そして異なる層の強力な接着により、偽造に対して保護
された身分証明書として使用される積層体中に処理され
たＤＴＲ像受像材料を組入れることにある。

本発明の他の目的および利点は以下の説明から明らかに
なるであろう。

本発明によれば、銀錯塩ＤＴＲ処理に適した受像材料を
提供する、この材料は結合剤媒体中に現像核を含有し、
その全重量を基準にして下記成分： ２〜４５チのゼラチン、 ２５〜８５チの好ましくは５〜１１０００ｎの範囲の平
均粒度を有するコロイド状シリカ、１．０〜５０重量％
の共重合したエチレンあよび遊離酸または塩の形のα、
β−不飽和カルボン酸単量体、例えばアクリル酸、メタ
クリル酸、クロトン酸またはイタコン酸からなる共重合
体であって、重合したエチレン含有率は８０重量％より
少なくなく、好ましくは８５〜９５重量％である共重合
体、 詔よび ０．２〜３５チのコロイド状シリカとシロキサン部分を
介して反応したシロキサン を含有するＤＴＲ像受偉層で、疎水性樹脂支持体または
樹脂被覆紙支持体をその樹脂表面上に直接被覆してなり
、受像層の乾燥被覆率は１〜１５ｆ　、／　ｔｒ？の範
囲である。

ヒートシールによって積層体の製造に使用する本発明に
よる受像材料における好ましい樹脂支持体は塩化ビニル
重合体支持体である。

「塩化ビニル重合体」なる語にはホモポリマーのみなら
ず、少なくとも５０重ｉｓの塩化ビニル単位を含有し、
親水性反復単位を含有しないコポリマーも含有するもの
とする。

支持体として作用する塩化ビニル共重合体は１種以上の
下記コモノマー二塩化ビニリデン、酢酸ビニル、アクリ
ロニトリル、スチレン、ブタジェン、クロロプレン、ジ
クロロブタジェン、弗化ビニル、弗化ビニリデン、トリ
フルオロクロエチレンおよびテトラフルオロエチレンを
含有していてもよい。

支持体として作用する塩化ビニル重合体は６０〜６５重
量％の塩素を含有するまで塩素化されていてもよい。

ポリ塩化ビニルおよびその共重合体の多くの性質は可塑
化することによって改良される、それらの安定性は当業
者に良く知られている安定剤によって改良できる（例え
ばニューヨークのインターサイエンス・パプリツシャー
ズ・インコーホレーテッド１９５フ年発行、エフ・ダブ
リュー・ビルマイヤー著、テキストブック・オブ・ポリ
マー・ケミストリー第３１１頁第３１５頁参照）。

塩化ビニル重合体支持体は着色物質として顔料または染
料を例えば５重量％までの量で含有してもよい。白色顔
料例えば二酸化チタン粒子を混入して不透明白色外観を
得ることができる。

塩化ビニル重合体支持体には、ＤＴＲ受像層の反対側に
接着剤被覆を設けることができる。感圧性の種類のもの
であるとよい接着剤被覆は、リサーチ・ディスクロジャ
−１９７７年３月第１５５１３項に記載された如きシリ
コーン化したグラシン紙の基体上に剥離性仮支持体によ
って保護するとよい。

本発明による受像劇料中で使用するのに好適なコロイド
状シリカはｐＨ８〜９の範囲を有する分散液として使用
する水和シリカが好ましい。

本発明で使用するコロイド状シリカ粒子は１０〜１１０
０ｎの平均粒子直径を有するのが好ましい。かかるシリ
カ粒子は商品名ルドツクス（ＬＵＤＯＸ　：米国のイー
・アイ・デュポン・ド拳ネモアースの商品名）、詔よび
サイトン（５ＹＴＯＮ　；米国ノモンサンド・ケミカル
会コーポレーションの商品名）、およびキーゼルゾル（
Ｋ工ＥＳＥＩＪＳＯＩ、Ｋ　：西ドイツ国の７アルペン
フアプリケン・ノくイニル・アー・ゲーの商品名）で市
販されてしする水性コロイド分散液の形で入手できる。

サイトンｘ−３０は平均粒度２５ｎｍを有するシリカ粒
子の３０重量％水分散液の米国のモンサント・ケミカル
・カンバニイの商品名であり、キーゼルゾル３００−１
”は７〜３ｎｍの平均粒度を有するコロイド状シリカを
含有する西ドイツ国のフアルペンファブリケン・ノ（イ
ニル・アー・ゲーの商品名である。

エチレンおよびα、β−不飽和酸の共重合体は、単量体
を含有する水性媒体中で加圧下グラフト共重合または共
重合させることに・よって作ることができる、これによ
って共重合体はラテックスとして得られる。特に有用な
共重合体は、固体の３０〜４０％含有率を有するラテッ
クスの形で用いられるコポリ（、エチレン／アクリル酸
ｉ９０／、１０重量）であり、共重合体粒子は平均粒度
２Ｑｎｍを有し、アンモニア性媒体（ｐＨ８，３）中に
存在するものである。後者の共電合体の軟化温度は３０
〜４５℃の範囲であるのが好ましく、ガラス転移温度は
４２〜７５℃の範囲であるのが好ましい。

本発明による受像材料中に使用するシロキサン化合物の
代表例には下記一般式： の範囲内にある。上記式中Ｒ１は例えばゼラチンのアミ
ノ基および／またはヒドロキシル基に対して反応性また
は重合反応できる化学基を表わし、特に反応性塩素原子
の如き反応性ハロゲンを含有する基、エポキシ基または
α、β−エチレン系不飽和基であり、かかる基の代表例
には例えば Ｃ２−○Ｈ，−Ｃｏ−ＮＨ−Ａ　− Ｂｒ　　ＯＨＭ　　０Ｏ−ＮＨ−Ａ　−ＣＨ，＝ＣＨ−
８０２−ＣＨ２−０−ＣＨ２−Ｅ＋Ｏ２−ＣＨ，−ＮＨ
−Ａ−ＣＨ２＝　Ｃ−Ｃ−０−Ａ　− ＯＨｍ　　０ ０Ｉｈ＝ＯＨ−ＣＮＨＡ− がある、Ａはアルキレン基好ましくは０１〜Ｃ４アルキ
レン基および を表わす、Ｙは２価炭化水素鎖または酸素で中断された
かかる鎖であり、例えば−ＣＨ２−ｏ　（ＯＨｘ）ｓ−
基またはケイ素原子の側で酸素原子に結合した２価炭素
基であり、例えば−ＯＨｍ　　Ｏ−基である、Ｘは酸素
を麦わす、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の各々は同じであって
も異なってもよく、置換炭化水素基を含む炭化水素基、
例えばメチル基およびエチル基を表わす、ｎは０または
１である。

上記一般式によるシロキサン化合物は、ガラスに対する
蛋白質系コロイド組成物の接着を改良する化合物として
米国特許第３６６１５８４号壜よび英国特許第１２８６
４６７号に記載されている。

特に有用なシロキサン化合物の例を下表１に示す。

表　　１ ０３Ｈｉ ０１Ｈｓ Ｃβ ４、　　　　０ＨＩ−ＯＨ−８ｏ、−（ＯＨｍ）　雪−
０−（ＯＨ，）　重−ｓｏ。

００、）！δ ００）（ａ ｃ２ｕＢ コロイド状シリカとシロキサン基の反応は加水分解およ
び脱水反応により水性媒体中で非常に急速に進行する、
これは実際にはｓｉ　（ｏａ）　ａである水和シリカと
の縮合反応である。シロキサン化合物中のＲ１基は、被
覆溶液が被覆段階で阻止的に高い粘度を得ないように、
室温でゼラチンに対し強力に反応性でないのが好−まし
い。架橋による完全硬化は像形成後高部で、例えばヒ一
トシール積層段階中加熱することによって行なわれるの
が好ましい。

シロキサン基により、下記反応式に従ってコロイド状水
和シリカでマクロシロキサンが形成される。

本発明による受像層は、磨耗に対する高抵抗を有し、Ｄ
ＴＲＴＲ酸形成って乾燥触感プリントを非常に急速に生
ずる。

ポリ塩化ビニル樹脂支持体への本発明の受像層の接着は
、予備コシす放電処理を省略できる根強力であることが
実験的に確立された。

しかしながら、被覆上での反撥を減するためおよび被覆
速度を改良するため、樹脂支持体＃よび樹脂被覆紙支持
体は、これらを例えばシートまたはベルトの形で接地導
電性ローラーおよびコロナワイヤーの間に通し、それに
空気のイオン化を生ぜしめるに充分に高い電位を有する
交流（ＡＣ）電圧を印加することによってコロナ放電で
前処理する。印加極大電圧は１０〜２０ＫＶの範囲であ
るのが好ましい。ＡＣコロナ装置は高価な整流器の使用
を必要とせず、電圧レベルは変圧器で容易に適用できる
ため好ましい。ＡＣコロナ装置でのコロナ放電処理にお
いては１０〜１００　ＫＨｚの周波数範囲が特に有用で
ある。

コロナ処理は、２５ｃｒｎのベルトまたはバンド上ニ０
．４〜０．６Ａの範囲での電流を用いたコロナ装置を操
作しながら、１０〜３０ｍ／分の速度でベルトまたはバ
ンドの形の材料で行なうことができる。

コロナ放電処理は、樹脂支持体の表面を侵害し、粗面化
する溶媒処理を省略することを可能にし、その適用にお
いて費用を少なくし、より良いものにする。

銀錯塩ＤＴＲ像受像材料中の親水性コロイド結合剤中に
使用する現像核は一般に当業者に知られている種類のも
のであり、例えば前述したニー・ロットおよびイー・ウ
ェイトの本の第５４頁〜第５６頁中に記載されているも
のがある。

特に好適なのはコロイド状銀およびコロイド状金属硫化
物例えば硫化銀および硫化ニッケルおよびその混合物で
ある。受像材料は親水性コロイド結合剤中にかかる材料
に使用するのに知られている他の添加剤、例えば調色剤
、一定量のハロゲン化銀溶剤、一種以上の現儂剤、不透
明剤例えば顔料および光学的増白剤を含有できる。

受像層は別の受像材料の一部を形成でき、或いは写真材
料の感光性層との一体的組合せを形成できる。

受像層を共通支持体に伺与し、ハロゲン化銀乳剤層と組
合せたままであるとき、感光性材料の処理後、例えば顔
料粒子を含有するアルカリ透過性遮光性層を、前述した
ニー・ロットおよびイー・ウェイトの本の第１４１頁に
記載されている如く、ポジ像に対しネガ像をマスクする
ため受像層とハロゲン化銀乳剤層の間に付与する。

本発明の受像層は特に写真を含有する積層物の製造に用
いるのに適している。例えば、銀錯塩ＤＴＲ法によって
作られた黒白写真を含有し、積層によって透明保護樹脂
カバーシートおよび前述した疎水性樹脂支持体または樹
脂被覆紙支持体の間に挾んだ工、Ｄ、カードとも称され
る身分証明書として作用する積層体の製造に有利に用い
られる。

特殊な商業活動を保証するためまたは一定の地域への立
入りのため、または成る種の活動（例えば自動車免許）
を行なうため個人の免許を立証するための如き保証書類
としての工、Ｄ、カードの使用が拡大することから見て
、そのデータおよび／または写真の変更にょる工、Ｄ、
カードの偽造は不可能にする。

本発明による積層体において、ＤＴＲ処理によって作ら
れた像を含有する上述した受像層はヒートシールとして
知られている方法によって透明疎水性樹脂カバーシート
に積層するのが好ましい。疎水性樹脂カバーシートは受
像層の支持体に使用したのと同じ重合体から作ってもよ
いが、支持体シート中に存在する樹脂よりも低いガラス
転移温度（Ｔ２）および溶融温度（Ｔｍ）を有する樹脂
からなるかそれで被覆した樹脂シートであるのが好まし
い。好ましい実施態様によれば、カバーシートは積層体
の支持体シートの樹脂のガラス転移温度より少なくとも
４０℃低いガラス転移温度を有する樹脂溶融接着剤層例
えばポリアルキレン層、好ましくはポリエチレン層で被
覆したポリエチレンテレフタレート樹脂シートである。

この関係において、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニルおよびポリエチレンプレ７タレートのＴ２
値はそれぞれ一２０℃、＋５℃、＋８０℃および＋６７
℃であることを参照され度い（Ｊ、　Ｏｈｅｍ、　Ｈｄ
ｕａ、第６１巻、ｆＪ８号、１９８４年８月、第６６８
頁参照）。

カバー疎水性樹脂フィルムシート材料での本発明の受像
材料の積層は、１２５〜１５０℃の温度例えば１３５℃
で例えば１０〜１５Ｋｇ／６Ｉの圧力の丁子らな鋼板の
間でヒートシールすることにより、或いはヒートシール
積層のため市場で入手できる他の装置を用いて行なうの
が好ましい。

積層体は米国特許第４１０１７０１号および第４４２５
４２１号に記載されている如く、支持体の全面積にわた
ってまたは例えば縁部域で自由部を残してその一部にわ
たって受像層を含有できる。

一例によれば受像層は厚さ０．１５０〜０．７５胴のみ
を有する不透明ポリ塩化ビニル支持体上に被覆する。そ
の厚さのシートは、機械的印刷法例えばオフセットまた
はインタグリオ印刷で容易に操作でき、受像層で被覆す
る前および後で、例えばすかし、指紋、手形がら知られ
ている印刷パターン、コード化した情報例えば二元コー
ド情報、署名または印刷個人データを目で見ることがで
きるようにまたは英国特許第１５１８９４６号および米
国特許第４１０５３３３号に記載されている如く紫外線
で読みとることができるように追加の保証マークを受は
入れることができる。

偽造に対する防衛を増大させるための他の可能性は、例
えばドイツ公開特許第２６３９９５２号、英国特許第１
５０２４６０号および第１５７２４４２号、および米国
特許８３６６８７９１５号に記載されている如きホログ
ラム、および目で見えることから隠す電子マイクロ回路
および磁気ドツトもしくはストリップ、赤外吸収性マー
クの積層体中への含有がある。ホログラフパターンはハ
ロゲン化銀乳剤層中、通常は特にその目的のため作られ
たりツブマン乳剤中で得ることができ、写真と組合せる
か組合せずにできる。

一例によれば、ホログラムを作るためのハロゲン化銀乳
剤層は、本発明による積層体の製造において使用する透
明カバーシートの一側に付与し、ポリエチレンから作っ
た透明樹脂中間シート址たはポリエチレンで被覆したポ
リ塩化ビニルシートの如き樹脂シートによってそれから
分離されたまたは分離されない受像層と共に積層する。

積層体の支持体として使用する樹脂シートが電確認装置
のスロット中に挿入される身分証明カードに対して要求
される如き厚さを有しなければならないとき、最終的な
厚さ例えば０．０７５〜１閣に達するように艶消しポリ
塩化ビニルの数シートを重ね積層する。積層体はその場
合ポリ塩化ビニル支持体中に不透明化二酸化チタンおよ
び適当な可塑剤を含有するのが好ましい。

支持体はエンボス構造を有していてもよい。

下記実施例は本発明を説明するが本発明をそれに限定す
るものではない。

部、比および百分率は他に特記せぬ限り重量による。

実施例　１ 幅２４ｃｍ、厚さ２００μｍを有する不透明ポリ塩化ビ
ニルシートを下記条件で操作したコロナ放電装置で作っ
た電気放電で処理した。

フィルム送行速度：２０ｍ／分、 フィルム面への電極間隔７２ｍ コロナ電流：０．５５Ａ。

ＡＣ電位差（極大値）：ｔｏｘｖ。

周波数：３０ＫＨｚ０ コロナ処理面を下記組成物で被覆して銀錯塩ＤＴＲ処理
のための受像層を形成した。

水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８００
ｆｎｔコロイド状ＡｆｚＳ−Ｎ１日核の６％水分散液　
　　　７−ゼラチン　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　１０Ｆエタノール中のシロキサン化合物／′ｈ
、７の５　　５０゜チ溶液 ホルムアルデヒド４チ水溶液　　　　　　　　　１ｏ−
水で　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２４３−
とじた。

乾燥した受像層は、全重量の百分率で表わしてゼラチン
８．８１７リカ７３．７％、上記シロキサン２．２係、
上記共重合体１５゜１慢を含有していた。

上記胆成物を２６−／μの湿潤被覆率で付与し、乾燥し
、３．５ｆ／ｎ？の固体を含ゼする層を形成した。

銀錯塩ＤＴＲ法により、身分証明目的のための黒白銀像
をその中に作った。

像形成し乾燥した受像層上に、予め一側を３０μｍのポ
リエチレンシートで被覆した１００μｍのポリエチレン
テレフタレートシートを、受像層とポリエチレンを接触
させた形で積層した。両層を押圧するため、１３５℃の
温度で１０　Ｋｆ／ｍの圧力の下に平らな鋼板を使用し
た。

かくして得られた積層体中に得られた像は、良好なシー
リングによるのみならず受像層中で架橋反応が生起し、
その層を銀エツチング水性液に対して不透過性にするこ
とによって、偽造に対して保護された。

実施例　２〜８ 実施例１を繰返した、但し同じモル量で表１のシロキサ
ン化合物１〜６をそれぞれ使用したことが異なる。同様
の結果が得られた。

実施例　９ 実施例１に記載した如きカバーシートおよびポリ塩化ビ
ニル支持体を含有する受像材料中に用いた幾つかの各成
分の組合せを、ＤＴＲ像形成性および堅固な積層体の能
力について試験した。

３．５ｔ／ｌｒ？の乾燥被覆率で被覆し、実施例１に記
載した如き現像核を含有する下表２に示した組合せは良
好結果を提供することを証明した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、銀錯塩拡散転写処理に適した受像材料であつて、Ｄ
   ＴＲ受像層の全受量を基準にして重量％で下記成分： ２〜４５％のゼラチン、 ２５〜８５％のコロイド状シリカ、 １．０〜５０％の共重合したエチレンおよび遊離酸また
   は塩の形のα，β−不飽和カルボン酸単量体からなる共
   重合体であつて重合したエチレン含有率が８０重量％よ
   り少ない共重合体、 ０．２〜３５％のシロキサン部を介してコロイド状シリ
   カと反応したシロキサン を含有し、結合剤媒体中に現像核を含有するＤＴＲ像受
   像層で、疎水性樹脂支持体または樹脂被覆紙支持体をそ
   の樹脂表面を直接被覆し、受像層の乾燥被覆率が１〜１
   ５ｇ／ｍ＾２であることを特徴とする受像材料。 ２、α，β−不飽和カルボン酸単量体がアクリル酸であ
   る特許請求の範囲第１項記載の受像材料。 ３、共重合したエチレンが８５〜９５重量％の範囲で共
   重合体中に存在する特許請求の範囲第１項または第２項
   記載の受像材料。 ４、シリカが５〜１０００ｎｍの範囲の平均粒度を有す
   る特許請求の範囲第１項〜第３項の何れか一つに記載の
   受像材料。 ５、支持体が塩化ビニルホモポリマーまたはコポリマー
   から作られ、共重合体が少なくとも５０重量％の塩化ビ
   ニル単位を含有し、親水性反復単位を含有しない特許請
   求の範囲第１項〜第４項の何れか一つに記載の受像材料
   。 ６、シロキサン化合物が下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１は下記の基： Ｃｌ−ＣＨ＿２−ＣＯ−ＮＨ−Ａ− Ｂｒ−ＣＨ＿２−ＣＯ−ＮＨ−Ａ− ▲数式、化学式、表等があります▼ ＣＨ＿２＝ＣＨ−ＳＯ＿２−ＣＨ＿２−Ｏ−ＣＨ＿２−
   ＳＯ＿２−ＣＨ＿２−ＮＨ−Ａ−▲数式、化学式、表等
   があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ の一つを表わし、ＡはＣ＿１〜Ｃ＿４アルキレン基、お
   よび ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わし、Ｙは酸素原子にケイ素原子側で結合した２価
   炭化水素基、または２価炭化水素酸または酸素で中断さ
   れたかかる鎖であり、Ｘは酸素を表わし、Ｒ＾２、Ｒ＾
   ３およびＲ＾４の各々は同じであつても異なつてもよく
   、炭化水素基または置換炭化水素基を表わし、ｎは０ま
   たは１である）の範囲内にある特許請求の範囲第１項〜
   第５項の何れか一つに記載の受像材料。 ７、受像層が透明保護樹脂カバーシートおよび疎水性樹
   脂支持体または樹脂被覆紙支持体の間に挾まれ、上記受
   像層中に銀錯塩ＤＴＲ法によつて作られた黒白写真を含
   有する積層体であつて、上記受像層が特許請求の範囲第
   １項〜第６項の何れか一つに記載の組成物を有すること
   を特徴とする積層体。 ８、カバーシートが上記支持体の樹脂より低いガラス転
   移温度（Ｔ＿ｇ）および溶融温度（Ｔ＿ｍ）を有する樹
   脂からなるかそれで被覆された樹脂シートである特許請
   求の範囲第７項記載の積層体。 ９、カバーシートがポリエチレン層で被覆されたポリエ
   チレンテレフタレートシートである特許請求の範囲第８
   項記載の積層体。 １０、支持体に銀行手形上の如き印刷パターン、二元コ
   ードパターン、署名、指紋またはすかしの形で保証マー
   クを設けてある特許請求の範囲第７項〜第９項の何れか
   一つに記載の積層体。 １１、上記積層体が磁気ストライプおよび／またはホロ
   グラムを含有する特許請求の範囲第７項〜第１０項の何
   れか一つに記載の積層体。