JPS62113876A - クライオポンプ - Google Patents
クライオポンプInfo
- Publication number
- JPS62113876A JPS62113876A JP25270785A JP25270785A JPS62113876A JP S62113876 A JPS62113876 A JP S62113876A JP 25270785 A JP25270785 A JP 25270785A JP 25270785 A JP25270785 A JP 25270785A JP S62113876 A JPS62113876 A JP S62113876A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- panel
- adsorbent
- cryopanel
- cryogenic
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は半導体製造装置のような生産設備の密閉された
容積を高真空に排気する真空ポンプに係り、特に短時間
に大容積を高真空に排気するのに好適なりライオポンプ
に関する。
容積を高真空に排気する真空ポンプに係り、特に短時間
に大容積を高真空に排気するのに好適なりライオポンプ
に関する。
従来の装置では極低温のクライオパネル上にパネル表面
温度以上の飽和温度をもつガス成分が凝固する。凝固物
の量が増加するにしたがい、上層部かは＜離、ｍ落して
、再度、気化する。このため、対象とする装置内の圧力
が変動し、安定した運転状態が得られなくなる。この対
策として、特開昭６０−１３９９２号に記載のように上
段のパネルからの落下物を受は取められるように下段程
、直径の大きい円錐形のパネルを複数段Ｍ層する構造と
している。しかし、これではパネル構造が複雑になると
共に、極低温での冷凍機負荷が増大するという問題があ
る。
温度以上の飽和温度をもつガス成分が凝固する。凝固物
の量が増加するにしたがい、上層部かは＜離、ｍ落して
、再度、気化する。このため、対象とする装置内の圧力
が変動し、安定した運転状態が得られなくなる。この対
策として、特開昭６０−１３９９２号に記載のように上
段のパネルからの落下物を受は取められるように下段程
、直径の大きい円錐形のパネルを複数段Ｍ層する構造と
している。しかし、これではパネル構造が複雑になると
共に、極低温での冷凍機負荷が増大するという問題があ
る。
本発明の目的は横進が簡単で、高沸点成分ガスの凝縮物
のはく離がなく、また、極低温側の冷凍機容量の増加の
ないクライオポンプを提供することにある。
のはく離がなく、また、極低温側の冷凍機容量の増加の
ないクライオポンプを提供することにある。
本発明の特徴は、飽和温度の高いガス成分を凝固させる
前に低温度の吸着剤に接触させて吸着。
前に低温度の吸着剤に接触させて吸着。
捕捉し、極低温のクライオパネル上への凝固量を減少し
、凝固物のはく離を防止しようとするものである。さら
に極低温のクライオパネル上の凝固物のはく離や脱落を
防止するための支持板をクライオパネル面上に設ける。
、凝固物のはく離を防止しようとするものである。さら
に極低温のクライオパネル上の凝固物のはく離や脱落を
防止するための支持板をクライオパネル面上に設ける。
以下１本発明の一実施例を第１図により説明する。７０
〜１００にの外側クライオパネル１゜１０〜２０にの内
側クライオパネル２はそれぞれヘリウム冷凍機３の１段
目９及び２段目８のコールドステージ４及び５に接続す
る。外側クライオパネル１にはバッフル６及び吸着剤を
付着したパネル７を接続する。内側クライオパネル２の
内面には吸着剤が付着しである。この吸着剤は活性炭、
モレキュラーシーブ４Ａ、５Δなど被処理ガスに応じて
使用する。１０はクライオポンプ内を真空に減圧するた
めの真空ポンプ接続口、１１は水素蒸気圧温度計、１２
は高圧ヘリウム入口、１３は低圧ヘリウム出口である。
〜１００にの外側クライオパネル１゜１０〜２０にの内
側クライオパネル２はそれぞれヘリウム冷凍機３の１段
目９及び２段目８のコールドステージ４及び５に接続す
る。外側クライオパネル１にはバッフル６及び吸着剤を
付着したパネル７を接続する。内側クライオパネル２の
内面には吸着剤が付着しである。この吸着剤は活性炭、
モレキュラーシーブ４Ａ、５Δなど被処理ガスに応じて
使用する。１０はクライオポンプ内を真空に減圧するた
めの真空ポンプ接続口、１１は水素蒸気圧温度計、１２
は高圧ヘリウム入口、１３は低圧ヘリウム出口である。
パネル７は第２図に示すように多重同心の円筒１５を十
字状の支持枠１４で支持し、先端部１６で外側のクライ
オパネル１のボルトでとめる。円筒１５の内外側には活
性炭、モレキュラーシーブ４Ａ、５Ａなどの吸着剤を被
処理ガスに応じて付着する。また、繊維状活性炭のマッ
トを接着することも考えられる。
字状の支持枠１４で支持し、先端部１６で外側のクライ
オパネル１のボルトでとめる。円筒１５の内外側には活
性炭、モレキュラーシーブ４Ａ、５Ａなどの吸着剤を被
処理ガスに応じて付着する。また、繊維状活性炭のマッ
トを接着することも考えられる。
クライオポンプに入ったガスはまず７０〜１００にのバ
ッフル６を通過する際に一部はバッフル板に衝突して反
射され、また、高沸点のガス ゛は冷却してバッフ
ル板上に凝固して捕捉される。
ッフル６を通過する際に一部はバッフル板に衝突して反
射され、また、高沸点のガス ゛は冷却してバッフ
ル板上に凝固して捕捉される。
さらに吸着剤を付着したパネル７を通過する間に次に沸
点が高く、内側のクライオパネル２の外面に凝固するガ
スガ吸着除去される。次いで、ガスは外側のクライオパ
ネル１と内側のクライオパネル２と衝突を繰り返し、一
部は内側のクライオパネル２に凝固し、一部はパネル２
の内側の吸着剤に吸着除去され、一部が反撥してバッフ
ルから外に出てゆく。
点が高く、内側のクライオパネル２の外面に凝固するガ
スガ吸着除去される。次いで、ガスは外側のクライオパ
ネル１と内側のクライオパネル２と衝突を繰り返し、一
部は内側のクライオパネル２に凝固し、一部はパネル２
の内側の吸着剤に吸着除去され、一部が反撥してバッフ
ルから外に出てゆく。
運転操作を続け、圧力が低下しなくなったり、低下速度
が小さくなったりした場合にはクライオパネル上の凝固
物の気化、吸着ガスの脱着などの再生操作を行う。
が小さくなったりした場合にはクライオパネル上の凝固
物の気化、吸着ガスの脱着などの再生操作を行う。
本実施例によれば内側クライオパネル２外面での凝固物
量を減少できるため、凝固物の脱離による圧力の変動が
発生せず、安定な運転を維持できる。
量を減少できるため、凝固物の脱離による圧力の変動が
発生せず、安定な運転を維持できる。
本発明の他の実施例を第３図に示す。長方形のパネル１
７を複数個放射状に組み合せたもので、パネルの両面に
吸着剤を付着したものである。また、第４図は本発明の
他の実施例を示したもので、吸着剤を付着したパネル１
８を格子状に組み合ゎせたものである。
７を複数個放射状に組み合せたもので、パネルの両面に
吸着剤を付着したものである。また、第４図は本発明の
他の実施例を示したもので、吸着剤を付着したパネル１
８を格子状に組み合ゎせたものである。
本発明の他の実施例を第５図に示す。内側のクライオパ
ネル２の頂部に斜め上方に伸びる凝固物支持板１９を設
けると供に下方にもパネル面に垂直に、先端を上方に曲
げた凝固物支持板２０を設ける。
ネル２の頂部に斜め上方に伸びる凝固物支持板１９を設
けると供に下方にもパネル面に垂直に、先端を上方に曲
げた凝固物支持板２０を設ける。
これらにより凝固物がクライオパネル２よりはく離して
脱落することを防止し、圧力の変動を発生させず、安定
な運＠を可能にする。
脱落することを防止し、圧力の変動を発生させず、安定
な運＠を可能にする。
本発明によればガス中の凝固成分を内側クライオパネル
の外面に到達する前に吸着除去し、減少できるので、内
側クライオパネル上への凝固物の量を少なくし、凝固物
支持板により脱離を防ぐと共に、脱離物を捕捉し、安定
な運転を維持できる効果がある。
の外面に到達する前に吸着除去し、減少できるので、内
側クライオパネル上への凝固物の量を少なくし、凝固物
支持板により脱離を防ぐと共に、脱離物を捕捉し、安定
な運転を維持できる効果がある。
また、吸着剤を付着したプレートはガスの流れに対して
平行に設置し、流れに対する抵抗を最小にできるので、
対象とする系の真空を容易に達成できる効果がある。
平行に設置し、流れに対する抵抗を最小にできるので、
対象とする系の真空を容易に達成できる効果がある。
第１図は本発明のクライオポンプの縦断面図、第２図は
吸着剤パネルの斜視図、第３図、第４図及び第５図は吸
着剤パネルの他の実施例を示す斜視図である。 １・・・外側クライオパネル、２・・・内側クライオパ
ネル、７・・・吸着剤パネル、１４・・・支持枠、１５
・・・多重同心円筒パネル、１６・・・支持枠先端部、
１７・・・長方形パネル、１８・・・格子状パネル、１
９・・・凝固嘉 １ 図
吸着剤パネルの斜視図、第３図、第４図及び第５図は吸
着剤パネルの他の実施例を示す斜視図である。 １・・・外側クライオパネル、２・・・内側クライオパ
ネル、７・・・吸着剤パネル、１４・・・支持枠、１５
・・・多重同心円筒パネル、１６・・・支持枠先端部、
１７・・・長方形パネル、１８・・・格子状パネル、１
９・・・凝固嘉 １ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、極低温のバッフルと極低温のクライオパネルとこれ
より低温のクライオパネルとこれらを冷却するための冷
凍機よりなるクライオポンプにおいて、バッフルの下流
に吸着剤を付着したパネルを設け、該パネルによりクラ
イオポンプに流入したガスの中の凝固し易い成分を吸着
除去するようにしたことを特徴とするクライオポンプ。 ２、第１項記載のクライオポンプにおいて、吸着剤を付
着した複数個のパネルをガスの流れの方向に平行に設け
たことを特徴とするクライオポンプ。 ３、第１項記載のクライオポンプにおいて、低温側のク
ライオパネル面に垂直に凝固物支持板を設けたことを特
徴とするクライオポンプ。 ４、第１項記載のクライオポンプにおいて、低温側のク
ライオパネル頂部に斜め上方に伸びる凝固物支持板、下
部にパネル面に垂直に凝固物支持板を設けたことを特徴
とするクライオポンプ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25270785A JPS62113876A (ja) | 1985-11-13 | 1985-11-13 | クライオポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25270785A JPS62113876A (ja) | 1985-11-13 | 1985-11-13 | クライオポンプ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62113876A true JPS62113876A (ja) | 1987-05-25 |
Family
ID=17241129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25270785A Pending JPS62113876A (ja) | 1985-11-13 | 1985-11-13 | クライオポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62113876A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02298765A (ja) * | 1988-11-09 | 1990-12-11 | Mitsubishi Electric Corp | 多段式蓄冷型冷凍機及びそれを組み込んだ冷却装置 |
| US5301511A (en) * | 1992-06-12 | 1994-04-12 | Helix Technology Corporation | Cryopump and cryopanel having frost concentrating device |
| EP0693626A1 (en) * | 1994-07-20 | 1996-01-24 | Applied Materials, Inc. | Vacuum chamber for ultra high vacuum processing at high temperatures |
| US5685963A (en) * | 1994-10-31 | 1997-11-11 | Saes Pure Gas, Inc. | In situ getter pump system and method |
| US5911560A (en) * | 1994-10-31 | 1999-06-15 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system |
| US5972183A (en) * | 1994-10-31 | 1999-10-26 | Saes Getter S.P.A | Getter pump module and system |
| US6077404A (en) * | 1998-02-17 | 2000-06-20 | Applied Material, Inc. | Reflow chamber and process |
| US6109880A (en) * | 1994-10-31 | 2000-08-29 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system including focus shields |
| US6142742A (en) * | 1994-10-31 | 2000-11-07 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system |
| US6361618B1 (en) | 1994-07-20 | 2002-03-26 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for forming and maintaining high vacuum environments |
| WO2005050017A1 (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-02 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | クライオポンプ |
-
1985
- 1985-11-13 JP JP25270785A patent/JPS62113876A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02298765A (ja) * | 1988-11-09 | 1990-12-11 | Mitsubishi Electric Corp | 多段式蓄冷型冷凍機及びそれを組み込んだ冷却装置 |
| US5301511A (en) * | 1992-06-12 | 1994-04-12 | Helix Technology Corporation | Cryopump and cryopanel having frost concentrating device |
| EP0693626A1 (en) * | 1994-07-20 | 1996-01-24 | Applied Materials, Inc. | Vacuum chamber for ultra high vacuum processing at high temperatures |
| US6361618B1 (en) | 1994-07-20 | 2002-03-26 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for forming and maintaining high vacuum environments |
| US5997255A (en) * | 1994-10-31 | 1999-12-07 | Saes Getters S.P.A. | Method for pumping a chamber using an in situ getter pump |
| US5911560A (en) * | 1994-10-31 | 1999-06-15 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system |
| US5972183A (en) * | 1994-10-31 | 1999-10-26 | Saes Getter S.P.A | Getter pump module and system |
| US5993165A (en) * | 1994-10-31 | 1999-11-30 | Saes Pure Gas, Inc. | In Situ getter pump system and method |
| US5879134A (en) * | 1994-10-31 | 1999-03-09 | Saes Pure Gas, Inc. | In situ getter pump system and method |
| US6043137A (en) * | 1994-10-31 | 2000-03-28 | Saes Getters S.P.A. | Getter pump module and system |
| US6109880A (en) * | 1994-10-31 | 2000-08-29 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system including focus shields |
| US6142742A (en) * | 1994-10-31 | 2000-11-07 | Saes Pure Gas, Inc. | Getter pump module and system |
| US6165328A (en) * | 1994-10-31 | 2000-12-26 | Saes Getters S.P.A. | Method for processing wafers with in situ gettering |
| US5685963A (en) * | 1994-10-31 | 1997-11-11 | Saes Pure Gas, Inc. | In situ getter pump system and method |
| US6077404A (en) * | 1998-02-17 | 2000-06-20 | Applied Material, Inc. | Reflow chamber and process |
| US6299689B1 (en) | 1998-02-17 | 2001-10-09 | Applied Materials, Inc. | Reflow chamber and process |
| WO2005050017A1 (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-02 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | クライオポンプ |
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