JPS62109965A - 耐食性を有する物品 - Google Patents
耐食性を有する物品Info
- Publication number
- JPS62109965A JPS62109965A JP25019285A JP25019285A JPS62109965A JP S62109965 A JPS62109965 A JP S62109965A JP 25019285 A JP25019285 A JP 25019285A JP 25019285 A JP25019285 A JP 25019285A JP S62109965 A JPS62109965 A JP S62109965A
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- JP
- Japan
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- lower alkyl
- formula
- halogeno
- hydrogen atom
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、薄膜材料によって被覆された物品、特に耐食
性を有する、容器、撹拌翼等の物品に関する。
性を有する、容器、撹拌翼等の物品に関する。
従来、種々の反応および化学物質の保存等に用いられる
物品の基材としては、化学的、機械的に安定であり、特
に化学物質レコ対する耐食性の優れた基材が要求されて
おり、炭素鋼、ステンレスＳｇ、にニッケル合金のハス
テロイ系やチタン、タンタル、ジルコニウム系の基材、
またはこれらの基材にガラス等を被覆したものが用いら
れてきた。
物品の基材としては、化学的、機械的に安定であり、特
に化学物質レコ対する耐食性の優れた基材が要求されて
おり、炭素鋼、ステンレスＳｇ、にニッケル合金のハス
テロイ系やチタン、タンタル、ジルコニウム系の基材、
またはこれらの基材にガラス等を被覆したものが用いら
れてきた。
（発明が解決しようとする問題点〕
炭素鋼は、アルカリ性物質に対しては耐食性があるが、
酸性物質によって腐食されるという欠点があり、ステン
レス鋼の場合は、例えばハロゲンが水分と共存するよう
な条件下では化学物質に対する耐食性、著しく低下する
。そこで高ニッケル合金のハステロイ系やチタン、タン
タル、ジルコニウム系の基材が用いられるが入手や加工
が困難であり価格が高くなる。また、上記基材の欠点を
補うために基材に保護材料としてガラスをｙＪ、覆した
ガラスライニングは、化学物質に対する耐食性は優れて
いるが、ガラスと基材との間に膨張係数の差が在る場合
には、製作、使用が著しく困難である。
酸性物質によって腐食されるという欠点があり、ステン
レス鋼の場合は、例えばハロゲンが水分と共存するよう
な条件下では化学物質に対する耐食性、著しく低下する
。そこで高ニッケル合金のハステロイ系やチタン、タン
タル、ジルコニウム系の基材が用いられるが入手や加工
が困難であり価格が高くなる。また、上記基材の欠点を
補うために基材に保護材料としてガラスをｙＪ、覆した
ガラスライニングは、化学物質に対する耐食性は優れて
いるが、ガラスと基材との間に膨張係数の差が在る場合
には、製作、使用が著しく困難である。
前記問題点は１、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＶ）で表われ
される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を分
解生成物の反応を伴なう熱分解反応またはプラズマ重合
反応に供することにより、得られる薄膜材料（以下、単
に「薄膜材料」と記すによって被覆された耐食性を有す
る物品によって解決される。
される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を分
解生成物の反応を伴なう熱分解反応またはプラズマ重合
反応に供することにより、得られる薄膜材料（以下、単
に「薄膜材料」と記すによって被覆された耐食性を有す
る物品によって解決される。
一般式（Ｉ）
％式％
：
びＲ，は、同一でも異なってもよく、水素原子またはＸ
であり、Ｘはハロゲン原子、 （Ｎ■Ｒ８゜Ｒｒ、Ｒｘｚ ） ＹＯｌ：＋ ヨ７１
Ｓ Ｒｘ３７！ｌ”ら選ばれ、ｎは１〜３の整数であ
り、ただしＲ１中のＸの数は１〜３であり、Ｙはハロゲ
ン原子であり、Ｒ１゜、Ｒユ、およびＲ１２は、同一で
も異なってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等の低級アルキル基から選ばれ、Ｒ□、は低級
アルキル基から選ばれる。
であり、Ｘはハロゲン原子、 （Ｎ■Ｒ８゜Ｒｒ、Ｒｘｚ ） ＹＯｌ：＋ ヨ７１
Ｓ Ｒｘ３７！ｌ”ら選ばれ、ｎは１〜３の整数であ
り、ただしＲ１中のＸの数は１〜３であり、Ｙはハロゲ
ン原子であり、Ｒ１゜、Ｒユ、およびＲ１２は、同一で
も異なってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等の低級アルキル基から選ばれ、Ｒ□、は低級
アルキル基から選ばれる。
また１式中、Ｒ２、Ｒ１、Ｒ，、Ｒ９およびＲＧは、同
一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、低級
アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等
の低級アルコキシ基およびＲ□から選ばれる］、 一般式（ｎ） Ｒ，＋ ｒ式中、Ｒ，４，Ｒ，、、Ｒ，、オヨびＲ２７は、同一
でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、低級ア
ルキル基、ハロゲノ低級アルキル基および低級アルコキ
シ基から選ばれ、Ｒｌｓ、 Ｒ１，、Ｒ２ｏおよびＲ２
□は、同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原
子、低級アルキル基および低級アルコキシ基から選ばれ
る］、 一般式（ＩＩＩ） Ｒ２゜ ［式中、Ｒ２□およびＲ２，は、同一でも異なってもよ
く、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲ
ノ低級アルキル基および低級アルコキシ基から選ばれ、
Ｒ２４、Ｒｚｓ、Ｒ２いＲ２７、Ｒ２Ｂ、Ｒ２９、Ｒ３
ｏおよびＲ３、は、同一でも異なってもよく、水素原子
、ハロゲン原子、低級アルキル基および低級アルコキシ
基から選ばれるコ、一般式（ＩＶ） Ｒ７つ ［式中、Ｒ３いＲ３□、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ１５、Ｒ１
い原子、低級アルキル基および低級アルコキシ基から選
ばれる］。
一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、低級
アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等
の低級アルコキシ基およびＲ□から選ばれる］、 一般式（ｎ） Ｒ，＋ ｒ式中、Ｒ，４，Ｒ，、、Ｒ，、オヨびＲ２７は、同一
でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、低級ア
ルキル基、ハロゲノ低級アルキル基および低級アルコキ
シ基から選ばれ、Ｒｌｓ、 Ｒ１，、Ｒ２ｏおよびＲ２
□は、同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原
子、低級アルキル基および低級アルコキシ基から選ばれ
る］、 一般式（ＩＩＩ） Ｒ２゜ ［式中、Ｒ２□およびＲ２，は、同一でも異なってもよ
く、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲ
ノ低級アルキル基および低級アルコキシ基から選ばれ、
Ｒ２４、Ｒｚｓ、Ｒ２いＲ２７、Ｒ２Ｂ、Ｒ２９、Ｒ３
ｏおよびＲ３、は、同一でも異なってもよく、水素原子
、ハロゲン原子、低級アルキル基および低級アルコキシ
基から選ばれるコ、一般式（ＩＶ） Ｒ７つ ［式中、Ｒ３いＲ３□、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ１５、Ｒ１
い原子、低級アルキル基および低級アルコキシ基から選
ばれる］。
前記一般式（Ｉ）の化合物としては、例えばハロゲノ低
級アルキルベンゼン。
級アルキルベンゼン。
ジハロゲノ低級アルキルベンゼン、
トリハロゲノ低級アルキルベンゼン。
１．２−ビス（ハロゲノ低級アルキル）ベンゼン、１．
２．３−トリス（ハロゲノ低級アルキル）ベンゼン。
２．３−トリス（ハロゲノ低級アルキル）ベンゼン。
１．２．５−１−リス（ハロゲノ低級アルキル）ベンゼ
ン、 １．２，４．５−テトラキス（ハロゲノ低級アルキル）
ベンゼン、 １．２，３，４，５．６−ヘキサキス（ハロゲノ低級ア
ルキル）ベンゼン、 ２−ハロゲノ低級アルキルトルエン、 ２．４−ビス（ハロゲノ低級アルキル）トルエン、 ２．４．５−トリス（ハロゲノ低級アルキル）トルエン
、 ２．４，５．６−テトラキス（ハロゲノ低級アルキル）
トルエン、 １−ハロゲノ低級アルキル−２−低級アルキルベンゼン
、 １−ハロゲノ低級アルキル−２，４，５−トリ低級アル
キルベンゼン、 ｌ−ハロゲノ低級アルキル−２，４−ジ低級アルキシー
５−低級アルコキシベンゼン、１−ハロゲノ低級アルキ
ル−２，３，４，５−テトラ低級アルキルベンセン。
ン、 １．２，４．５−テトラキス（ハロゲノ低級アルキル）
ベンゼン、 １．２，３，４，５．６−ヘキサキス（ハロゲノ低級ア
ルキル）ベンゼン、 ２−ハロゲノ低級アルキルトルエン、 ２．４−ビス（ハロゲノ低級アルキル）トルエン、 ２．４．５−トリス（ハロゲノ低級アルキル）トルエン
、 ２．４，５．６−テトラキス（ハロゲノ低級アルキル）
トルエン、 １−ハロゲノ低級アルキル−２−低級アルキルベンゼン
、 １−ハロゲノ低級アルキル−２，４，５−トリ低級アル
キルベンゼン、 ｌ−ハロゲノ低級アルキル−２，４−ジ低級アルキシー
５−低級アルコキシベンゼン、１−ハロゲノ低級アルキ
ル−２，３，４，５−テトラ低級アルキルベンセン。
１．４−ビス（ハロゲノ低級アルキル）−２゜５−ジ低
級アルキルベンゼン、 １−ハロゲノ低級アルキル−２，３，４−トリ低級アル
キル−５，６−低級アルコキシベンゼン、 ２−低級アルキルベンジルトリ低級アルキルアンモニウ
ムハライド。
級アルキルベンゼン、 １−ハロゲノ低級アルキル−２，３，４−トリ低級アル
キル−５，６−低級アルコキシベンゼン、 ２−低級アルキルベンジルトリ低級アルキルアンモニウ
ムハライド。
２−低級アルキルベンジル低級アルキルスルホキシド、
２−ハロゲノ低級アルキル−３−ハロゲントルエン、
１．３−ビス（ハロゲノ低級アルキル）−２゜・１−ジ
低級アルキルベンゼン、 １．３．５−１−リス（ハロゲノ低級アルキル）−２，
４，，６−１−り低級アルキルベンゼン等を挙げること
ができ、特に ■、２−上２−ハロゲノ低級アルキル）ベンゼン、 Ｌ、２，４．５−テトラキス（ハロゲノ低級アルキル）
ベンゼン、 １．２，３，４，５．６−ヘキサキス（ハロゲノ低級ア
ルキル）ベンゼン、 ２−ハロゲノ低級アルキルトルエン、 ２．４．５−トリス（ハロゲノ低級アルキル）トルエン
、 １−ハロゲノ低級アルキル−２−低級アルキルベンゼン
。
低級アルキルベンゼン、 １．３．５−１−リス（ハロゲノ低級アルキル）−２，
４，，６−１−り低級アルキルベンゼン等を挙げること
ができ、特に ■、２−上２−ハロゲノ低級アルキル）ベンゼン、 Ｌ、２，４．５−テトラキス（ハロゲノ低級アルキル）
ベンゼン、 １．２，３，４，５．６−ヘキサキス（ハロゲノ低級ア
ルキル）ベンゼン、 ２−ハロゲノ低級アルキルトルエン、 ２．４．５−トリス（ハロゲノ低級アルキル）トルエン
、 １−ハロゲノ低級アルキル−２−低級アルキルベンゼン
。
１．４ビス（ハロゲノ低級アルキル） −２，５−ジ低
級アルキルベンゼン、 １．３−ビス（ハロゲノ低級アルキル）−２゜４−ジ低
級アルキルベンゼン、 １．３．５−１−リス（ハロゲノ低級アルキル）−２，
４，６−トリ低級アルキルベンゼン等が好ましい。
級アルキルベンゼン、 １．３−ビス（ハロゲノ低級アルキル）−２゜４−ジ低
級アルキルベンゼン、 １．３．５−１−リス（ハロゲノ低級アルキル）−２，
４，６−トリ低級アルキルベンゼン等が好ましい。
これら一般式（Ｉ）の化合物としては、ベンゼン環に結
合するＲ２基の数は１〜３が好ましく、Ｒ１基における
ｎは１または２が好ましく、特に】が好ましい。さらに
ＸはＲ□基中の１位炭素原子または２位炭素原子に結合
しているのが好ましく、特に１位に結合しているのが好
ましい、またＸがハロゲン１７″Ｘ子の場合のハロゲン
原子としては、ｑ＝素原子または臭素原子が好まし、く
、Ｓ（が（Ｎ→Ｒ０゜Ｒ，、Ｒ，、）ｙ’）の場合のＹ
は、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子かＩ７ましく
、Ｒ，。〜ｒ＜ 、 、はメチル基またはエチル−＆か
好ましく、Ｘが−３Ｒ，３の場合のＲ４，はＩ メチルノ、（またはエチル−Ｊ、ｔ、か好ましい。さら
しこＲ７〜■〈３．としては、水素原子、メチル基、ハ
ロゲン原子、メ１−キシ基またはＲ３が好ましい。
合するＲ２基の数は１〜３が好ましく、Ｒ１基における
ｎは１または２が好ましく、特に】が好ましい。さらに
ＸはＲ□基中の１位炭素原子または２位炭素原子に結合
しているのが好ましく、特に１位に結合しているのが好
ましい、またＸがハロゲン１７″Ｘ子の場合のハロゲン
原子としては、ｑ＝素原子または臭素原子が好まし、く
、Ｓ（が（Ｎ→Ｒ０゜Ｒ，、Ｒ，、）ｙ’）の場合のＹ
は、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子かＩ７ましく
、Ｒ，。〜ｒ＜ 、 、はメチル基またはエチル−＆か
好ましく、Ｘが−３Ｒ，３の場合のＲ４，はＩ メチルノ、（またはエチル−Ｊ、ｔ、か好ましい。さら
しこＲ７〜■〈３．としては、水素原子、メチル基、ハ
ロゲン原子、メ１−キシ基またはＲ３が好ましい。
一般式（Ｉ）の化合物の具体例としては、フルオロメチ
ルベンゼン、 ブロモメチルベンゼン、 クロロメチルベンゼン、 １−フルオロエチルベンゼン、 １−クロロエチルベンゼン、 ］−ブロモエチルベンゼン、 １−ヨードエチルベンゼン、 ２−クロロエチルベンゼン、 ２−ブロモエチルベンゼン、 １−ブロモプロピルベンゼン、 １、．２−（フルオロメチル）ベンゼン、】、２−ビス
（クロロメチル）ベンゼン、１．２−ビス（ブロモメチ
ル）ベンゼン、１．２−ビス（ヨードメチル）ベンゼン
。
ルベンゼン、 ブロモメチルベンゼン、 クロロメチルベンゼン、 １−フルオロエチルベンゼン、 １−クロロエチルベンゼン、 ］−ブロモエチルベンゼン、 １−ヨードエチルベンゼン、 ２−クロロエチルベンゼン、 ２−ブロモエチルベンゼン、 １−ブロモプロピルベンゼン、 １、．２−（フルオロメチル）ベンゼン、】、２−ビス
（クロロメチル）ベンゼン、１．２−ビス（ブロモメチ
ル）ベンゼン、１．２−ビス（ヨードメチル）ベンゼン
。
１．２−ビス（Ｉ−ブロモエチル）ベンゼン、］、］２
−ビス１−クロロプロピル）ベンゼン。
−ビス１−クロロプロピル）ベンゼン。
］、２．３−１−リス（フルオロメチル）ベンセン、
１．２．３−１−リス（クロロメチル）ベンゼン、１．
２．３−トリス（ブロモメチル）ベンゼン、１．３．５
−１−リス（ブロモメチル）ベンゼン。
２．３−トリス（ブロモメチル）ベンゼン、１．３．５
−１−リス（ブロモメチル）ベンゼン。
１．２，４．．５−テ１−ラキス（クロロメチル）ベン
ゼン、 １、．２，４．．５−テトラキス（ブロモメチル）ベン
ゼン、 １．２．：３，４，５．６−へキサキス（夕ロロメチル
）ベンゼン、 １，２，３，４，５．６−ヘキサキス（ブロモメチル）
ベンゼン、 ２−フルオロメチルトルエン、 ２−クロロメチルトルエン、 ２−ブロモメチルトルエン、 ２−ヨードメチルトルエン、 ２−（Ｉ−フルオロエチル）トルエン、２−（Ｉ−クロ
ロエチル）トルエン、 ２−（Ｉ−ブロモエチル）トルエン、 ２−（Ｉ−ヨードエチル）トルエン、 ２−（Ｉ−ブロモプロピル）トルエン、２−（２−クロ
ロプロピル）トルエン、２．４−ビス（クロロメチル）
トルエン、２．４−ビス（ブロモメチル）トルエン、２
．４．５−１−リス（クロロメチル）トルエン、２．４
．５−）−リス（ブロモメチル）トルエン、２．３．４
−）−リス（クロロメチル）トルエン、２．３．４−ト
リス（ブロモメチル）トルエン。
ゼン、 １、．２，４．．５−テトラキス（ブロモメチル）ベン
ゼン、 １．２．：３，４，５．６−へキサキス（夕ロロメチル
）ベンゼン、 １，２，３，４，５．６−ヘキサキス（ブロモメチル）
ベンゼン、 ２−フルオロメチルトルエン、 ２−クロロメチルトルエン、 ２−ブロモメチルトルエン、 ２−ヨードメチルトルエン、 ２−（Ｉ−フルオロエチル）トルエン、２−（Ｉ−クロ
ロエチル）トルエン、 ２−（Ｉ−ブロモエチル）トルエン、 ２−（Ｉ−ヨードエチル）トルエン、 ２−（Ｉ−ブロモプロピル）トルエン、２−（２−クロ
ロプロピル）トルエン、２．４−ビス（クロロメチル）
トルエン、２．４−ビス（ブロモメチル）トルエン、２
．４．５−１−リス（クロロメチル）トルエン、２．４
．５−）−リス（ブロモメチル）トルエン、２．３．４
−）−リス（クロロメチル）トルエン、２．３．４−ト
リス（ブロモメチル）トルエン。
２．４，５．６−テトラキス（クロロメチル）トルエン
、 ２．４，５．６−テトラキス（ブロモメチル）トルエン
、 １−（Ｉ−フルオロエチル）−２−エチルベンゼン、 １− （Ｉ−クロロエチル）−２−エチルベンゼン、 １−（Ｉ−ブロモエチル）−２−エチルベンゼン。
、 ２．４，５．６−テトラキス（ブロモメチル）トルエン
、 １−（Ｉ−フルオロエチル）−２−エチルベンゼン、 １− （Ｉ−クロロエチル）−２−エチルベンゼン、 １−（Ｉ−ブロモエチル）−２−エチルベンゼン。
１−（Ｉ−ヨードエチル）−２−エチルベンゼン、
１−（Ｉ−クロロプロピル）−２−エチルベンゼン、
１− （２−クロロプロピル）−２−エチルベンゼン、
１−（Ｉ−クロロメチル）−２，４，５−トリメチルベ
ンゼン、 １−（２−クロロプロピル）−２，４−ジメチル−５−
メトキシベンゼン、 １−（２−ブロモプロピル）−２，３，４，５ベンゾ［
１，２］シクロブテン等を挙げることかでき、特に ベンツ［１，２コシクロブテン、 ７−バロケノベンゾ［１，２］シクロブテン。
ンゼン、 １−（２−クロロプロピル）−２，４−ジメチル−５−
メトキシベンゼン、 １−（２−ブロモプロピル）−２，３，４，５ベンゾ［
１，２］シクロブテン等を挙げることかでき、特に ベンツ［１，２コシクロブテン、 ７−バロケノベンゾ［１，２］シクロブテン。
７．８−ジハロゲノベンゾ［１，２］シクロブテン、
４−ハロゲノ低級アルキル−５−低級アルキルベンゾ［
１，２］シクロブテン、 ４．５−ビス（ハロゲノ低級アルキル）ベンゾ［１，２
］シクロブテン等が好ましい。
１，２］シクロブテン、 ４．５−ビス（ハロゲノ低級アルキル）ベンゾ［１，２
］シクロブテン等が好ましい。
これら一般式（ｎ）の化合物におけるＲ１４〜Ｒ０７と
しては、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基
、メトキシ基、ハロゲノメチル基またはハロゲノエチル
基が好ましく、特に好ましくは水素原子であり、Ｒｘ
ｓ−Ｒ２１としては、水素原子、メチル基またはメトキ
シ基が好ましく、特に好ましくは水素原子、塩素原子ま
たは臭素原子である。
しては、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル基
、メトキシ基、ハロゲノメチル基またはハロゲノエチル
基が好ましく、特に好ましくは水素原子であり、Ｒｘ
ｓ−Ｒ２１としては、水素原子、メチル基またはメトキ
シ基が好ましく、特に好ましくは水素原子、塩素原子ま
たは臭素原子である。
一般式（ＩＩ）の化合物の具体例としては。
ベンゾ［１，２コシクロブテン、
一テトラメチルベンゼン、
１−（２−ブロモプロピル）−２−エチル−３゜４−ジ
メチル−５，６−シメトキシベンゼン、１．４−ビス（
ブロモメチル）−２，５−ジメチルベンゼン、 １．４−ビス（クロロメチル）−２，５−ジエチルベン
ゼン、 ２−メチルベンジルトリメチルアンモニウムプロミド、 ２−メチルベンジルメチルスルホキシド、２−クロロメ
チル−３−ブロモトルエン、１．３−ビス（ブロモメチ
ル）−２，４−ジメチルベンゼン。
メチル−５，６−シメトキシベンゼン、１．４−ビス（
ブロモメチル）−２，５−ジメチルベンゼン、 １．４−ビス（クロロメチル）−２，５−ジエチルベン
ゼン、 ２−メチルベンジルトリメチルアンモニウムプロミド、 ２−メチルベンジルメチルスルホキシド、２−クロロメ
チル−３−ブロモトルエン、１．３−ビス（ブロモメチ
ル）−２，４−ジメチルベンゼン。
１．３．５−トリス（クロロメチル）−２，４゜６−ト
リメチルベンゼン等を挙げることができる。
リメチルベンゼン等を挙げることができる。
前記一般式（ＴＩ）の化合物としては、例えば、ベンゾ
［１，２コシクロブテン、 ７−バロゲノベンゾ［１，２］シクロブテン。
［１，２コシクロブテン、 ７−バロゲノベンゾ［１，２］シクロブテン。
７．８−ジハロゲノベンツ［ｌ、２］シクロブテン、
４−低級アルキルベンゾ［１，２］シクロブテン、
４−低級アルコキシベンゾ［：ｌ、２］シクロブテン、
４−低級アルキルー７−ハロゲノベンゾ［１゜２］シク
ロブテン。
ロブテン。
４．５−ジ低級アルキルベンゾ［１，２１シクロブテン
、 ４−低級アルコキシ−７−ハロゲノベンゾ［１゜２］シ
クロブテン、 ４．５−低級アルキルー７−ハロゲノベンゾ［１，２コ
シクロブテン、 ３−ハロゲノベンゾ［ｌ、２］シクロブテン、４−ハロ
ゲノベンゾ［１，２］シクロブテン、４〜ハロゲノ低級
アルキルー５−低級アルキルベンゾＥｌ、２］シクロブ
テン。
、 ４−低級アルコキシ−７−ハロゲノベンゾ［１゜２］シ
クロブテン、 ４．５−低級アルキルー７−ハロゲノベンゾ［１，２コ
シクロブテン、 ３−ハロゲノベンゾ［ｌ、２］シクロブテン、４−ハロ
ゲノベンゾ［１，２］シクロブテン、４〜ハロゲノ低級
アルキルー５−低級アルキルベンゾＥｌ、２］シクロブ
テン。
４．５−ビス（ハロゲノ低級アルキル）ベンゾ［１，２
］シクロブテン。
］シクロブテン。
３−ハロゲノ低級アルキル−４−低級アルキル７−プロ
モーベンゾ［１，２］シクロブテン、７−クロロ−ベン
ゾ［１，２コシクロブテン、７−ヨードベンゾ［１，２
］シクロブテン、７−メチルベンゾ［：１．２］シクロ
ブテン。
モーベンゾ［１，２］シクロブテン、７−クロロ−ベン
ゾ［１，２コシクロブテン、７−ヨードベンゾ［１，２
］シクロブテン、７−メチルベンゾ［：１．２］シクロ
ブテン。
７．８−ジブロモベンゾ［１，２］シクロブテン。
７．８−ジクロロベンゾ［１，２］シクロブテン。
４〜メトキシベンゾ［ｌ、２］シクロブテン、４−メチ
ルベンゾ［，２］シクロブテン、４−メチル−７−プロ
モベンゾＥｌ、２］シクロブテン。
ルベンゾ［，２］シクロブテン、４−メチル−７−プロ
モベンゾＥｌ、２］シクロブテン。
４−メトキシ−７−ブロモベンゾ［１，２］シクロブテ
ン、 ４．５−ジメチルベンゾ［１，２］シクロブテン。
ン、 ４．５−ジメチルベンゾ［１，２］シクロブテン。
４．５−ジメチル−７−クロロベンゾ［１，２コシクロ
ブテン、 ３〜ブロモベンゾＥｌ、２］シクロブテン、４−クロロ
ベンゾ［１，２］シクロブテン、４−ブロモメチル−５
−メチルベンゾ［１，２］シクロブテン。
ブテン、 ３〜ブロモベンゾＥｌ、２］シクロブテン、４−クロロ
ベンゾ［１，２］シクロブテン、４−ブロモメチル−５
−メチルベンゾ［１，２］シクロブテン。
４．５−ビス（クロロメチル）ベンゾ［１，，２］シク
ロブテン、 ：３−ブロモメチルー４−エチルベンゾ［１，２１シク
ロブテン等を挙げることができる。
ロブテン、 ：３−ブロモメチルー４−エチルベンゾ［１，２１シク
ロブテン等を挙げることができる。
前記一般式（［）の化合物としては１例えばベンゾ［１
，２：４，５］ジシクロブテン、７−ハロゲノベンゾ［
ｌ、２ ： ４，５］ジシクロブテン、 ベンゾ［１，２：３，４］ジシクロブテン、５−ハロゲ
ノベンゾ（：ｌ、２：３．４］ジシクロブテン。
，２：４，５］ジシクロブテン、７−ハロゲノベンゾ［
ｌ、２ ： ４，５］ジシクロブテン、 ベンゾ［１，２：３，４］ジシクロブテン、５−ハロゲ
ノベンゾ（：ｌ、２：３．４］ジシクロブテン。
７−ハロゲノベンゾ［１，２： ３，４］ジシクロブテ
ン、 ５−ハロゲノ低級アルキル−６−低級アルキルベンゾ［
１，２：３，４］ジシクロブテン、５．６−ビス（ハロ
ゲノ低級アルキル）ベンゾ［１，２：３，４コシシクロ
ブテン。
ン、 ５−ハロゲノ低級アルキル−６−低級アルキルベンゾ［
１，２：３，４］ジシクロブテン、５．６−ビス（ハロ
ゲノ低級アルキル）ベンゾ［１，２：３，４コシシクロ
ブテン。
３−ハロゲノベンゾ［ｌ、２：４，５’ｌジシクロブテ
ン。
ン。
７−ハロゲノベンゾ［１，２：４，５］ジシクロブテン
、 ５−低級アルコキシベンゾ［１，２： ３，４］ジシグ
ロブテン等を挙げることができ、特にベンゾ［１，２：
４，５］ジシグロブテン、５−ハロゲノ低級アルキル−
６−低級アルキルベンゾ［１，２： ３．４］ジシクロ
ブテン、５．６−ビス（ハロゲノ低級アルキル）ベンゾ
［ｌ、２： ３，４コシシクロブテン、３−ハロゲノベ
ンゾ［Ｌ ２：４．５］ジシクロブテン等が好ましい。
、 ５−低級アルコキシベンゾ［１，２： ３，４］ジシグ
ロブテン等を挙げることができ、特にベンゾ［１，２：
４，５］ジシグロブテン、５−ハロゲノ低級アルキル−
６−低級アルキルベンゾ［１，２： ３．４］ジシクロ
ブテン、５．６−ビス（ハロゲノ低級アルキル）ベンゾ
［ｌ、２： ３，４コシシクロブテン、３−ハロゲノベ
ンゾ［Ｌ ２：４．５］ジシクロブテン等が好ましい。
これら一般式（ＩＩＩ）の化合物におけるＲ２□および
Ｒ２，としては、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、
エチル基、メトキシ基、ハロゲノメチル基またはハロゲ
ノエチル基等が好ましく、特に好ましくは水素原子であ
り、Ｒ７，４〜Ｒ３＋としては、水素原子、ハロゲン原
子、メチル基、エチル基またはメ１〜キシ基が好ましく
、特に好ましくは水素原子、塩素原子または臭素原子で
ある。
Ｒ２，としては、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、
エチル基、メトキシ基、ハロゲノメチル基またはハロゲ
ノエチル基等が好ましく、特に好ましくは水素原子であ
り、Ｒ７，４〜Ｒ３＋としては、水素原子、ハロゲン原
子、メチル基、エチル基またはメ１〜キシ基が好ましく
、特に好ましくは水素原子、塩素原子または臭素原子で
ある。
一般式（ＩＩＩ）の化合物の具体例としては、ベンゾ［
１，２：４．５］ジシクロブテン、７−クロロベンゾ［
ｌ、２：４，５］ジシクロブテン、 ７−ブロモベンゾ［１，２：４，５］ジシクロブテン、 ベンゾ［１，２： ３．４］ジシクロブテン、５−クロ
ロベンゾ［１，２： ３，４］ジシクロブテン、 ７−ブロモベンゾ［１，２： ３．４］ジシクロブテン
、 ５−ブロモメチル−６−メチルベンゾ［１，２：３．４
］ジシクロブテン、 ５．６−ビス（クロロメチル）ベンゾ［１，２：３．４
コシシクロブテン、 ３−ブロモベンゾ［１，２：４，５］ジシクロブテン。
１，２：４．５］ジシクロブテン、７−クロロベンゾ［
ｌ、２：４，５］ジシクロブテン、 ７−ブロモベンゾ［１，２：４，５］ジシクロブテン、 ベンゾ［１，２： ３．４］ジシクロブテン、５−クロ
ロベンゾ［１，２： ３，４］ジシクロブテン、 ７−ブロモベンゾ［１，２： ３．４］ジシクロブテン
、 ５−ブロモメチル−６−メチルベンゾ［１，２：３．４
］ジシクロブテン、 ５．６−ビス（クロロメチル）ベンゾ［１，２：３．４
コシシクロブテン、 ３−ブロモベンゾ［１，２：４，５］ジシクロブテン。
５−メトキシベンゾ［１，２： ３，４］ジシクロブテ
ン等を挙げることができる。
ン等を挙げることができる。
前記一般式（ＩＶ）の化合物としては、例えばベンゾ［
１，２：３，４：５，６コトリシクロブテン、 ７−ハロゲノベンゾ［１，２：３，４：５，６］トリシ
クロブテン、 ７．８−ジハロゲノベンゾ［１，２：３，４：５．６］
トリシクロブテン、 ７−低級アルキルベンゾ［１，２：３，４：５゜６コ
トリシクロブテン、 ７−低級アルコキシベンゾ［１，２：３，４：５．６コ
トリシクロブテン等を挙げることができ、特に ベンゾ［１，２：３，４：５，６］ トリシクロブテン
等が好ましい。
１，２：３，４：５，６コトリシクロブテン、 ７−ハロゲノベンゾ［１，２：３，４：５，６］トリシ
クロブテン、 ７．８−ジハロゲノベンゾ［１，２：３，４：５．６］
トリシクロブテン、 ７−低級アルキルベンゾ［１，２：３，４：５゜６コ
トリシクロブテン、 ７−低級アルコキシベンゾ［１，２：３，４：５．６コ
トリシクロブテン等を挙げることができ、特に ベンゾ［１，２：３，４：５，６］ トリシクロブテン
等が好ましい。
これら一般式（ＩＶ）の化合物におけるＲ１２〜Ｒ４３
としては、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル
基またはメトキシ基が好ましく、特に好ましくは水素原
子、塩素原子または臭素原子である。
としては、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル
基またはメトキシ基が好ましく、特に好ましくは水素原
子、塩素原子または臭素原子である。
一般式（ＩＶ）の化合物の具体例としては、ベンツ［１
，２：３，４：５．６］ トリシクロブテン、 ７−クロロベンゾ［１，２：３，４：５，６コトリシク
ロフテン、 ７．８−ジブロモベンゾ［１，２：３，４：５゜６コ
トリシクロブテン、 ７−メチルベンゾ［１，２：３，４：５，６コトリシク
ロブテン、 ７−メトキシベンゾ［１，２：３，４：５，６コトリシ
クロブテン等を挙げることができる。
，２：３，４：５．６］ トリシクロブテン、 ７−クロロベンゾ［１，２：３，４：５，６コトリシク
ロフテン、 ７．８−ジブロモベンゾ［１，２：３，４：５゜６コ
トリシクロブテン、 ７−メチルベンゾ［１，２：３，４：５，６コトリシク
ロブテン、 ７−メトキシベンゾ［１，２：３，４：５，６コトリシ
クロブテン等を挙げることができる。
本発明に用いられる薄膜材料の製法において、上記一般
式（Ｉ）〜（ｒＶ）の化合物Ｅ以下「原料化合物」とい
う］は、通常、単独で用いられるが併用することもでき
、併用する場合の好ましい組合せとしては、例えば １−ハロゲノメチルトルエンとベンゾ［１，２］シクロ
ブテン、ベンゾ［１，２：４，５］ジシクロブテンおよ
び／または７−ハロゲノベンゾ［１，２］シクロブテン
との組合せ、 １．２−ヒス（ハロゲノメチル）ベンゼンとベンゾ［１
，２］シクロブテン、７−ハロゲノベンゾ［１，２］シ
クロブテンおよび／または７゜８−ジハロゲノベンゾ［
１，２］シクロブテンとの組合せ、 ２．４−ビス（ハロゲノメチル）トルエンとベンゾ［１
，２：３，４］ジシクロブテンとの組合せ、 ２．４．６−トリス（ハロゲノメチル）−１゜３．５−
トリメチルベンゼンとベンゾ［１，２：４．５］ジシク
ロブテンおよび／またはベンゾ［１，２：３，４：５，
６］ トリシクロブテンとの組合せ等を挙げることがで
きる。
式（Ｉ）〜（ｒＶ）の化合物Ｅ以下「原料化合物」とい
う］は、通常、単独で用いられるが併用することもでき
、併用する場合の好ましい組合せとしては、例えば １−ハロゲノメチルトルエンとベンゾ［１，２］シクロ
ブテン、ベンゾ［１，２：４，５］ジシクロブテンおよ
び／または７−ハロゲノベンゾ［１，２］シクロブテン
との組合せ、 １．２−ヒス（ハロゲノメチル）ベンゼンとベンゾ［１
，２］シクロブテン、７−ハロゲノベンゾ［１，２］シ
クロブテンおよび／または７゜８−ジハロゲノベンゾ［
１，２］シクロブテンとの組合せ、 ２．４−ビス（ハロゲノメチル）トルエンとベンゾ［１
，２：３，４］ジシクロブテンとの組合せ、 ２．４．６−トリス（ハロゲノメチル）−１゜３．５−
トリメチルベンゼンとベンゾ［１，２：４．５］ジシク
ロブテンおよび／またはベンゾ［１，２：３，４：５，
６］ トリシクロブテンとの組合せ等を挙げることがで
きる。
ます、熱分解反応により、薄膜材料を製造する方法につ
いて説明する。
いて説明する。
本発明に用いられる原料化合物は、常温、大気圧下では
液体ないし固体であるので、減圧下で必要に応じて加熱
を行うことにより気化させ、気体状態で熱分解反応器中
に導き、熱分解反応を行なう。
液体ないし固体であるので、減圧下で必要に応じて加熱
を行うことにより気化させ、気体状態で熱分解反応器中
に導き、熱分解反応を行なう。
この熱分解反応器中に耐食性を付与すべき製品（以下、
単に「製品」と記す）を設置しておくと、製品表面は、
金属光沢を有するきわめて滑かな薄Ｉ漠で均一に被覆さ
れる。熱分解温度は。
単に「製品」と記す）を設置しておくと、製品表面は、
金属光沢を有するきわめて滑かな薄Ｉ漠で均一に被覆さ
れる。熱分解温度は。
通常、３００〜１５００℃であるが、好ましくは４００
−９００’Ｃである。
−９００’Ｃである。
また熱分解反応系の減圧度は、原料化合物が効率良く気
化できる範囲であれば、特に限定するものではないが１
通常、Ｏ０○０１〜３０’ｒｏｒｒであり、好ましくは
Ｏ１○Ｏｆ〜０．１Ｔ ｏｒｒである。
化できる範囲であれば、特に限定するものではないが１
通常、Ｏ０○０１〜３０’ｒｏｒｒであり、好ましくは
Ｏ１○Ｏｆ〜０．１Ｔ ｏｒｒである。
本発明において原料化合物の熱分解反応に用いる反応装
置は特に限定するものではないが、例えば特願昭５９−
０８２５４４号に記載のごとく、適当な加熱手段を有す
る熱分解反応器の一端に原料化合物供管を有し、他端を
真空系に接続可能な装置が用いられる。
置は特に限定するものではないが、例えば特願昭５９−
０８２５４４号に記載のごとく、適当な加熱手段を有す
る熱分解反応器の一端に原料化合物供管を有し、他端を
真空系に接続可能な装置が用いられる。
気体状態の原料化合物を反応装置に供給する際には、原
料化合物の気体のみでも良いし、必要に応じてヘリウム
、アルゴンなどの不活性気体をキャリアガスあるいは希
釈気体として混合して供給しても良い。
料化合物の気体のみでも良いし、必要に応じてヘリウム
、アルゴンなどの不活性気体をキャリアガスあるいは希
釈気体として混合して供給しても良い。
次に、本発明に用いられる薄膜材料をプラズマ重合反応
により製造する場合について説明する。
により製造する場合について説明する。
薄膜材料の原料化合物は、前記のように常温、大気圧下
では液体ないし固体であるので、減圧下で必要に応じて
加熱を行うことにより気化させ、気体状態でプラズマ重
合反応に供される。
では液体ないし固体であるので、減圧下で必要に応じて
加熱を行うことにより気化させ、気体状態でプラズマ重
合反応に供される。
原料化合物の気体のプラズマ重合反応系への供給量は、
特に限定されるものではないが、通常、反応系の容積１
００Ｑあたり０．１〜３００ｃｃ（ＳＴＰ）／ｍｉｎで
ある。
特に限定されるものではないが、通常、反応系の容積１
００Ｑあたり０．１〜３００ｃｃ（ＳＴＰ）／ｍｉｎで
ある。
プラズマ重合反応では、通常、反応系の反応帯域でのプ
ラズマの電子温度が５，０００〜８０．０ＯＯＫ、特に
８，０００〜５０，０００ Ｋであることが好ましい。
ラズマの電子温度が５，０００〜８０．０ＯＯＫ、特に
８，０００〜５０，０００ Ｋであることが好ましい。
プラズマ重合反応中のプラズマの電子温度は、特開昭５
４−１３５５７４号公報に記載のプラズマ特性値測定用
探針を用いることにより測定されるものである。
４−１３５５７４号公報に記載のプラズマ特性値測定用
探針を用いることにより測定されるものである。
またプラズマの電子温度は、反応系への原料化合物の気
体の供給量１反応系の真空度、プラスマ励起′６カ等を
調節することによって所要値に制御することできる。
体の供給量１反応系の真空度、プラスマ励起′６カ等を
調節することによって所要値に制御することできる。
気体状態の原料化合物をプラズマ重合反応表［ηに供、
給する際には、Ｉ’ｌ？Ｉ ｌ記の熱分解反応の場合と
同様に原料化合物の気体のみでもよいし、ヘリウム、ア
ルゴンなどの不活性ガスをキャリアカスあるいは希釈ガ
スとして混合して供給することもできる。なお、プラズ
マ重合反応中の反応系の真空度は、一般に０．００１−
１００Ｔｏｒｒの範囲が望ましい。
給する際には、Ｉ’ｌ？Ｉ ｌ記の熱分解反応の場合と
同様に原料化合物の気体のみでもよいし、ヘリウム、ア
ルゴンなどの不活性ガスをキャリアカスあるいは希釈ガ
スとして混合して供給することもできる。なお、プラズ
マ重合反応中の反応系の真空度は、一般に０．００１−
１００Ｔｏｒｒの範囲が望ましい。
プラズマの発生に用いる放電方式には特に制限はなく、
例えば直流放電、低周波放電、高周波放電、マイクロ波
放電等のいずれでもよい。
例えば直流放電、低周波放電、高周波放電、マイクロ波
放電等のいずれでもよい。
したがって、プラズマ重合反応装置も特に制限されず、
内部゛雀極方式、無電極方式のいずれでもよく、電極や
コイルの形状、マイクロ波放電の場合のキャピティやア
ンテナの構造にも制約はなく、一般に用いられるプラズ
マ重合反応装置を利用することができる。
内部゛雀極方式、無電極方式のいずれでもよく、電極や
コイルの形状、マイクロ波放電の場合のキャピティやア
ンテナの構造にも制約はなく、一般に用いられるプラズ
マ重合反応装置を利用することができる。
本発明において、製品に薄ｌ摸材料を被覆する方法とし
ては、例えば次のような方法をあげることができる。
ては、例えば次のような方法をあげることができる。
（Ｉ）小型の製品の場合は、的記熱分解反応器またはプ
ラズマ重合反応装置内に製品を置き。
ラズマ重合反応装置内に製品を置き。
反応を行うことにより薄膜材料を被覆する。
（２）熱分解反応装置またはプラズマ重合反応装置内に
置くことができない大型の製品については、製品を容器
に入れ、その容器を熱分解反応器またはプラズマ重合反
応装置に接続し、熱分解反応器またはプラズマ重合反応
装置から容器内に熱分解された原料気体またはプラズマ
流を送り込むことにより製品にＨｙｉ膜材料を被覆する
。このとき、この容器内は熱分解反応器、またはプラズ
マ重合反応装置と同様に減圧されていることか望ましく
、熱分解反応により薄膜材料を得る場合しこけ７′ｑ膜
材料を被覆すべき要旨の衣表面を、通常、１． Ｏ０〜
８００℃に、好ましくは１５０〜５００°Ｃに加熱して
おくことが望ましい。
置くことができない大型の製品については、製品を容器
に入れ、その容器を熱分解反応器またはプラズマ重合反
応装置に接続し、熱分解反応器またはプラズマ重合反応
装置から容器内に熱分解された原料気体またはプラズマ
流を送り込むことにより製品にＨｙｉ膜材料を被覆する
。このとき、この容器内は熱分解反応器、またはプラズ
マ重合反応装置と同様に減圧されていることか望ましく
、熱分解反応により薄膜材料を得る場合しこけ７′ｑ膜
材料を被覆すべき要旨の衣表面を、通常、１． Ｏ０〜
８００℃に、好ましくは１５０〜５００°Ｃに加熱して
おくことが望ましい。
本発明の耐食性を有する物品は、耐食性を必要とすべき
表面に薄膜材料が被覆されていればよく、通常、１μｍ
〜５０μｍ、好ましくは２μｍ〜１０μｍの厚さに被覆
される。
表面に薄膜材料が被覆されていればよく、通常、１μｍ
〜５０μｍ、好ましくは２μｍ〜１０μｍの厚さに被覆
される。
本発明において、薄膜材料はガラス、ステンレス鋼、炭
素鋼、セラミックス等の基材からなる製品表面に対して
良好な接着性を示すためにこれらの材料でできている製
品の表面の保護に好適に用いられる。
素鋼、セラミックス等の基材からなる製品表面に対して
良好な接着性を示すためにこれらの材料でできている製
品の表面の保護に好適に用いられる。
また本発明の耐食性を有する物品は、化学的安定性に優
れており、例えば塩酸、硫酸、硝酸、フッ化水素酸等の
強酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の強アルカ
リ、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
溶媒、ヘキサン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン
等の脂肪族炭化水素溶媒、メタノール、エタノール、プ
ロパツール、インプロパツール、ｎ−ブタノール等のア
ルコール溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イゾブチルケトン、シクロヘキサン等のケトン溶媒、ま
たはジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
非プロトン性極性溶媒に強い耐性を示すものであり、耐
熱性にも優れるものである。
れており、例えば塩酸、硫酸、硝酸、フッ化水素酸等の
強酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の強アルカ
リ、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
溶媒、ヘキサン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン
等の脂肪族炭化水素溶媒、メタノール、エタノール、プ
ロパツール、インプロパツール、ｎ−ブタノール等のア
ルコール溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イゾブチルケトン、シクロヘキサン等のケトン溶媒、ま
たはジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
非プロトン性極性溶媒に強い耐性を示すものであり、耐
熱性にも優れるものである。
さらに、本発明の耐食性を有する物品は機械的物性、特
に硬度も優れたものである。
に硬度も優れたものである。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれら実施例により制限されるものではない。
明はこれら実施例により制限されるものではない。
実施例１
２−クロロメチルトルエン１０ｇを２０ｍＱ丸底フラス
コに入れ、その口をコックを介して水平に保持された直
径５０ｇ＋、長さ４００ｍｎ＋の石英管の一端に取付け
た。石英管の外側にはヒーターを設置し、石英管の中に
は基体としてＩＱのステンレス製の反応容器を置き石英
管の他端を液体窒素で冷却したトラップに接続し、各種
ガスを捕捉できるようにし、その先端を真空ポンプに接
続した。まず丸底フラスコの出口のコックを開けた状態
でトラップの出口に接続された真空ポンプにより反応装
置内を排気し、同時にフラスコ内の２−クロロメチルト
ルエンを脱気した。
コに入れ、その口をコックを介して水平に保持された直
径５０ｇ＋、長さ４００ｍｎ＋の石英管の一端に取付け
た。石英管の外側にはヒーターを設置し、石英管の中に
は基体としてＩＱのステンレス製の反応容器を置き石英
管の他端を液体窒素で冷却したトラップに接続し、各種
ガスを捕捉できるようにし、その先端を真空ポンプに接
続した。まず丸底フラスコの出口のコックを開けた状態
でトラップの出口に接続された真空ポンプにより反応装
置内を排気し、同時にフラスコ内の２−クロロメチルト
ルエンを脱気した。
次に、丸底フラスコの出口のコックを閉じた状態で、石
英管を６００°Ｃに加熱後石英管内を０ 、 Ｉ Ｔｏ
ｒｒに減圧した・ 次に丸底フラスコの出口のコックを開いて減圧度０．１
〜０ 、２ Ｔｏｒｒで２−クロロメチルトルエンを気
化させ、その気体を石英管内に３０分間通し、２−クロ
ロメチルトルエンを熱分解すると同時に分解生成物を反
応させた。その後石英管内を常温常圧にもどし、ステン
レス製反応容器を回収した。ステンレス製反応容器の表
面は、金属光沢のある厚さ３．２μｍの薄膜で均一に被
覆されていた。
英管を６００°Ｃに加熱後石英管内を０ 、 Ｉ Ｔｏ
ｒｒに減圧した・ 次に丸底フラスコの出口のコックを開いて減圧度０．１
〜０ 、２ Ｔｏｒｒで２−クロロメチルトルエンを気
化させ、その気体を石英管内に３０分間通し、２−クロ
ロメチルトルエンを熱分解すると同時に分解生成物を反
応させた。その後石英管内を常温常圧にもどし、ステン
レス製反応容器を回収した。ステンレス製反応容器の表
面は、金属光沢のある厚さ３．２μｍの薄膜で均一に被
覆されていた。
このようにして得られた被覆されたステンレス製反応容
器の試験を行い１次の結果を得た。
器の試験を行い１次の結果を得た。
（Ｉ）鉛筆硬度テストでは６Ｈであった。また、被覆さ
れたステンレス製反応容器を濃硫酸、濃塩酸、１５％水
酸化カリウム水溶液に１週間浸漬したが、形状の変化は
なく、重量減少も認められなかった。
れたステンレス製反応容器を濃硫酸、濃塩酸、１５％水
酸化カリウム水溶液に１週間浸漬したが、形状の変化は
なく、重量減少も認められなかった。
（２）トルエン、塩化メチレン、メタノール、ジメチル
スルホキシド、ｎ−ヘキサンに浸漬した結果、ステンレ
ス製容器、表面の形状、重量変化は特に認められなかっ
た。
スルホキシド、ｎ−ヘキサンに浸漬した結果、ステンレ
ス製容器、表面の形状、重量変化は特に認められなかっ
た。
実施例２
２−ブロモメチルトルエン５０ｇを１００ｍＱ丸底フラ
スコに入れ、その口をコックを介して水平に保持された
直径５０ｍｍ、長さ４００ｍの石英管の一端に取り付け
、石英管の外側にはヒーターを設置した。石英管の他端
を２Ｑのステンレス製容器に接続し、ステンレス製容器
の出口を液体窒素で冷却したトラップに接続し、その先
を真空系に接続した。ステンレス製容器の外側にもヒー
ターを設置した。
スコに入れ、その口をコックを介して水平に保持された
直径５０ｍｍ、長さ４００ｍの石英管の一端に取り付け
、石英管の外側にはヒーターを設置した。石英管の他端
を２Ｑのステンレス製容器に接続し、ステンレス製容器
の出口を液体窒素で冷却したトラップに接続し、その先
を真空系に接続した。ステンレス製容器の外側にもヒー
ターを設置した。
まず反応系を減圧（０，１，−０，０５Ｔｏｒｒ）にし
て排気し、同時に丸底フラスコ内の２−ブロモメチルト
ルエンを脱気した。
て排気し、同時に丸底フラスコ内の２−ブロモメチルト
ルエンを脱気した。
丸底フラスコの出口のコックを閉した状態で。
石英管を６００℃にステンレス製容器の外側のヒーター
を３００ ’Ｃに加；鴨した後、系内を０゜ＩＴｏｒｒ
に減圧度を調整した。
を３００ ’Ｃに加；鴨した後、系内を０゜ＩＴｏｒｒ
に減圧度を調整した。
次に丸底フラスコの出口のコックを開き、減圧度０．１
〜０ 、２ Ｔｏｒｒで２−ブロモメチルトルエンを気
化させ、その気体を石英管を通して熱分解し、分解生成
物を石英管に接続したステンレス製容器内に送り込んだ
。約１時間、２−ブロモメチルトルエンの気体を通した
後、系内を常温常圧にもどした後、ステンレス製容器を
取りはずしたところ、その内壁は金属光沢のある厚さ４
゜５μｍの薄膜で均一に被覆されていた。
〜０ 、２ Ｔｏｒｒで２−ブロモメチルトルエンを気
化させ、その気体を石英管を通して熱分解し、分解生成
物を石英管に接続したステンレス製容器内に送り込んだ
。約１時間、２−ブロモメチルトルエンの気体を通した
後、系内を常温常圧にもどした後、ステンレス製容器を
取りはずしたところ、その内壁は金属光沢のある厚さ４
゜５μｍの薄膜で均一に被覆されていた。
このようにして内壁を薄膜材料によって被覆したステン
レス製容器内に５０％硫酸水容液を入れ、１週間放置径
内壁の状態を調べたが、形状の変化は認められなかった
。
レス製容器内に５０％硫酸水容液を入れ、１週間放置径
内壁の状態を調べたが、形状の変化は認められなかった
。
実施例３
ヘルジャー型プラズマ反応装置を使用し、ペルジャー内
にステンレス製ＩＱ反応容器を置いた後、反応器内を１
． Ｘ １０−’Ｔｏｒｒに減圧した。
にステンレス製ＩＱ反応容器を置いた後、反応器内を１
． Ｘ １０−’Ｔｏｒｒに減圧した。
次に２−ブロモメチルトルエンが入っている原料をタン
クを弱く加熱して２−ブロモメチルトルエンを気化させ
、そのガスを１００ｃｃ（ＳＴＰ）／ｍｉｎの流量でペ
ルジャー型反応器内に供給しながら真空度Ｉ Ｘ １０
−”Ｔｏｒｒとなるように排気を継続した。次いで交流
電源から８０Ｗの電力を電極に供給してプラズマを発生
させた。
クを弱く加熱して２−ブロモメチルトルエンを気化させ
、そのガスを１００ｃｃ（ＳＴＰ）／ｍｉｎの流量でペ
ルジャー型反応器内に供給しながら真空度Ｉ Ｘ １０
−”Ｔｏｒｒとなるように排気を継続した。次いで交流
電源から８０Ｗの電力を電極に供給してプラズマを発生
させた。
この時の電子温度は２３０００にであった。この条件で
プラズマ重合反応を１時間行なった後、反応系を常圧に
もどし、ステンレス製反応容器を回収したところ、容器
表面はやや黒色をおびた金属光沢のある厚さ３．２μｍ
の薄膜で均一に被覆されていた。この反応容器に９７％
濃硫酸を入れ７０°Ｃに加熱しながら１週間撹拌した後
、ステンレス製反応容器表面を調べたが、表面の溶解、
剥離などの状態変化は認められなかった。
プラズマ重合反応を１時間行なった後、反応系を常圧に
もどし、ステンレス製反応容器を回収したところ、容器
表面はやや黒色をおびた金属光沢のある厚さ３．２μｍ
の薄膜で均一に被覆されていた。この反応容器に９７％
濃硫酸を入れ７０°Ｃに加熱しながら１週間撹拌した後
、ステンレス製反応容器表面を調べたが、表面の溶解、
剥離などの状態変化は認められなかった。
また、６０％硝酸水溶液、４６％フッ化水素酸水溶液、
２０％水酸化ナトリウム溶液およびトルエンについてそ
れぞれ同様に試験を行なったが、表面状態の変化は認め
られなかった。
２０％水酸化ナトリウム溶液およびトルエンについてそ
れぞれ同様に試験を行なったが、表面状態の変化は認め
られなかった。
本発明の薄膜材料により表面を保護した耐食性を有する
物品は、以下の点で優れたものである。
物品は、以下の点で優れたものである。
（Ｉ）強酸、強アルカリ、有機溶媒などに強い耐食性を
示し、化学安定性に優れている。
示し、化学安定性に優れている。
（２）耐熱性に優れている。
に３）機械的物性、特に硬度に優れている。
本発明の耐食性を有する物品は、上記のとおりの長所を
有するものであるので、特に化学反応容器、撹拌翼等と
して好適である。
有するものであるので、特に化学反応容器、撹拌翼等と
して好適である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式（ I ）〜（IV）で表わされる化合物から選
ばれる少なくとも一種の化合物を、分解生成物の反応を
伴なう熱分解反応またはプラズマ重合反応に供すること
により得られる薄膜材料によって被覆された耐食性を有
する物品。 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・（ I
） ［式中、 Ｒ＿１は、▲数式、化学式、表等があります▼を表し、
Ｒ＿７、Ｒ＿８およびＲ＿９は、同一でも異なってもよ
く、水素原子またはＸであり、Ｘはハロゲン原子、 （Ｎ＾■Ｒ＿１＿０Ｒ＿１＿１Ｒ＿１＿２）Ｙ＾■およ
び−ＳＲ＿１＿３から選ばれ、ｎは１〜３の整数であり
、ただしＲ＿１中のＸの数は１〜３であり、Ｙはハロゲ
ン原子であり、Ｒ＿１＿０、Ｒ＿１＿１およびＲ＿１＿
２は、同一でも異なってもよく、低級アルキル基から選
ばれ、Ｒ＿１＿３は低級アルキル基から選ばれる。 また式中、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５およびＲ＿
６は、同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基およびＲ＿１か
ら選ばれる］、 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・（II） ［式中、Ｒ＿１＿４、Ｒ＿１＿５、Ｒ＿１＿６およびＲ
＿１＿７は、同一でも異なってもよく、水素原子、ハロ
ゲン原子、低級アルキル基、ハロゲノ低級アルキル基お
よび低級アルコキシ基から選ばれ、Ｒ＿１＿８、Ｒ＿１
＿９、Ｒ＿２＿０およびＲ＿２＿１は、同一でも異なっ
てもよく、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基お
よび低級アルコキシ基から選ばれる］、 一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・（III
） ［式中、Ｒ＿２＿２およびＲ＿２＿３は、同一でも異な
ってもよく、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基
、ハロゲノ低級アルキル基および低級アルコキシ基から
選ばれ、Ｒ＿２＿４、Ｒ＿２＿５、Ｒ＿２＿６、Ｒ＿２
＿７、Ｒ＿２＿８、Ｒ＿２＿９、Ｒ＿３＿０およびＲ＿
３＿１は、同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基および低級アルコキシ基から選
ばれる］、一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・（IV） ［式中、Ｒ＿３＿１、Ｒ＿３＿２、Ｒ＿３＿３、Ｒ＿３
＿４、Ｒ＿３＿５、Ｒ＿３＿６、Ｒ＿３＿７、Ｒ＿３＿
８、Ｒ＿３＿９、Ｒ＿４＿０、Ｒ＿４＿１およびＲ＿４
＿２は、同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン
原子、低級アルキル基および低級アルコキシ基から選ば
れる］。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25019285A JPS62109965A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 耐食性を有する物品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25019285A JPS62109965A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 耐食性を有する物品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62109965A true JPS62109965A (ja) | 1987-05-21 |
Family
ID=17204182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25019285A Pending JPS62109965A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | 耐食性を有する物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62109965A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01240666A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-26 | Central Glass Co Ltd | 物質透過膜 |
-
1985
- 1985-11-08 JP JP25019285A patent/JPS62109965A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01240666A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-26 | Central Glass Co Ltd | 物質透過膜 |
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