JPS62105985A - 釉施工法 - Google Patents
釉施工法Info
- Publication number
- JPS62105985A JPS62105985A JP24555785A JP24555785A JPS62105985A JP S62105985 A JPS62105985 A JP S62105985A JP 24555785 A JP24555785 A JP 24555785A JP 24555785 A JP24555785 A JP 24555785A JP S62105985 A JPS62105985 A JP S62105985A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze
- firing
- base material
- composition
- output
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
f産業上の利用分野j
本発明は釉、すなわち基材の表面で融けた薄いカラス層
のことで、JIS R4301のほうろううわぐすりを
焼きつけたもの、またJIS R4204のガラス質を
1ら成分とした耐熱性のうわぐすりを焼きつけたものな
どの」−記表面に対する施7「法に関し、さらに詳細に
は、鉄、ステンレス、アルミニウムおよびその他の金属
ならびにガラス、セラミックス、セメントおよびその他
の製品、または1耐熱性塗膜等の基材表面に、釉の組成
を塗4iL、炭酸ガスレーザーによって所要短時間に焼
成し、耐熱性、耐蝕性、対摩経性、化粧性、1R気絶縁
性、遠赤外線放射性等のへで優れた被膜を形成するため
に好適な柚に下注に係るものである。
のことで、JIS R4301のほうろううわぐすりを
焼きつけたもの、またJIS R4204のガラス質を
1ら成分とした耐熱性のうわぐすりを焼きつけたものな
どの」−記表面に対する施7「法に関し、さらに詳細に
は、鉄、ステンレス、アルミニウムおよびその他の金属
ならびにガラス、セラミックス、セメントおよびその他
の製品、または1耐熱性塗膜等の基材表面に、釉の組成
を塗4iL、炭酸ガスレーザーによって所要短時間に焼
成し、耐熱性、耐蝕性、対摩経性、化粧性、1R気絶縁
性、遠赤外線放射性等のへで優れた被膜を形成するため
に好適な柚に下注に係るものである。
r従来の技術」
従来、釉は焼成炉で焼成することで、陶磁器など基材素
地表面に形成するのが常である。
地表面に形成するのが常である。
l!uち、 7111M1成を基材に施和1し、それを
基材ごと焼成炉の中に入れ、高温で焼成すること−なる
から、当然基材が高温に曝され、この結果、使[[1で
きる基材が高温で熱変化を起さないものに限られてしま
う。
基材ごと焼成炉の中に入れ、高温で焼成すること−なる
から、当然基材が高温に曝され、この結果、使[[1で
きる基材が高温で熱変化を起さないものに限られてしま
う。
釉には焼成温度が550℃前後と非常に低いアルミニウ
ム川はうろうフリットのようなものもあるが、焼成温度
が低い釉M1成は相対的にPbO,Na2O。
ム川はうろうフリットのようなものもあるが、焼成温度
が低い釉M1成は相対的にPbO,Na2O。
K2Oなどのアルカリ酸化物のX4%が多く、硬IL耐
食性が劣る。
食性が劣る。
通常の柚組成は焼成温度が750〜l、000℃であり
、特に硬度、#食性に優れた5in2. Al2O3な
どの多い抽組成はl、000℃以I−であり、特に高温
熔融抽の中には1.500’C前後のものもある。
、特に硬度、#食性に優れた5in2. Al2O3な
どの多い抽組成はl、000℃以I−であり、特に高温
熔融抽の中には1.500’C前後のものもある。
このため上記従来の焼成炉を使用する方法では、前記の
如く軸流工のできる基材が大幅に制約され、特に鋼、ア
ルミニウムなどの製品に使用されている釉組成では焼成
温度が制約されるため硬度、耐食性などにどうしても限
界があり、満足すべき商品が提供できないなどの問題を
有している。
如く軸流工のできる基材が大幅に制約され、特に鋼、ア
ルミニウムなどの製品に使用されている釉組成では焼成
温度が制約されるため硬度、耐食性などにどうしても限
界があり、満足すべき商品が提供できないなどの問題を
有している。
「発明が解決しようとする問題点」
本発明による軸流工法は公知の釉組成の塗膜を従来の加
熱炉で焼成する方法を用いず、炭酸ガスレーザーによっ
て大気中で短時間だけ焼成することにより、極めて高出
力な炭酸ガスレーザーを用い、しかも釉組成の塗膜が、
当該レーザー光の吸収性良好である特性を活用して、極
めて短時間の施工時間で目的を達し得るようにし、これ
によって高い生産性と低コスト化を実現させるのが第1
の目的である。
熱炉で焼成する方法を用いず、炭酸ガスレーザーによっ
て大気中で短時間だけ焼成することにより、極めて高出
力な炭酸ガスレーザーを用い、しかも釉組成の塗膜が、
当該レーザー光の吸収性良好である特性を活用して、極
めて短時間の施工時間で目的を達し得るようにし、これ
によって高い生産性と低コスト化を実現させるのが第1
の目的である。
そして、さらに重要なことは、上記レーザー光に対する
吸収性により、基材の方は高温に曝すことなしに、釉の
焼成を可能として、基材が大きな熱変化を受けないよう
になし、これにより8属やセラミンクなどの他、従来軸
流[が不可能であった低融点の金属や、1耐熱温度の低
いガラス、セメント製品、または1耐熱性樹脂、耐熱性
塗膜およびその他の表面にも使用でき、更に従来鋼板そ
の他のり、(材であって、これらには使用不可能であっ
た高性能化を期待できる高融魚粕の使用をも回部として
、優良製品を提供し得るようにするのが第2の目的であ
り、本発明では併せて作業環境の改4をも実現させよう
としている。
吸収性により、基材の方は高温に曝すことなしに、釉の
焼成を可能として、基材が大きな熱変化を受けないよう
になし、これにより8属やセラミンクなどの他、従来軸
流[が不可能であった低融点の金属や、1耐熱温度の低
いガラス、セメント製品、または1耐熱性樹脂、耐熱性
塗膜およびその他の表面にも使用でき、更に従来鋼板そ
の他のり、(材であって、これらには使用不可能であっ
た高性能化を期待できる高融魚粕の使用をも回部として
、優良製品を提供し得るようにするのが第2の目的であ
り、本発明では併せて作業環境の改4をも実現させよう
としている。
r L’1題点を解決するための手段」未発lす1は]
1記の[1的を達成するため、公知の柚のMtL&を基
材に塗布し、炭酸ガスレーザー発振器によって出力が3
00〜3,0OOW、焼成速度が4tE分当り1〜15
mの条件で焼成する軸流1法を提供するものである。
1記の[1的を達成するため、公知の柚のMtL&を基
材に塗布し、炭酸ガスレーザー発振器によって出力が3
00〜3,0OOW、焼成速度が4tE分当り1〜15
mの条件で焼成する軸流1法を提供するものである。
以下未発ゆ1について詳細に述べる。
(1)釉組成
釉は通常、急冷ガラス片であるフリット(用途によって
はフラックスともいう)を使用する。
はフラックスともいう)を使用する。
フリ・ントのみで使用することもあるが、殆どは、これ
に可塑性原料と水、用途によって無機顔料やシリカ、長
石、アルミナ、ジルコンなど、また含水量を少なくし、
粘度を低くする炭酸、亜硝酸その他のアルカリ金属塩、
あるいは流動性の調節や分散材としての酸などを添加し
て使用する。
に可塑性原料と水、用途によって無機顔料やシリカ、長
石、アルミナ、ジルコンなど、また含水量を少なくし、
粘度を低くする炭酸、亜硝酸その他のアルカリ金属塩、
あるいは流動性の調節や分散材としての酸などを添加し
て使用する。
この他スクリーン印刷用オイルや小麦粉、アラビヤゴム
などの有機結合剤を使用することもある。
などの有機結合剤を使用することもある。
前記の+jf塑性原料は、水で練ったときに成形できる
性質をもった原料のことで具体的にはカオリン、末節粘
土、蛙[I粘土、高アルミナ粘土、スリップクレー、ベ
ントナイト、滑石または市販の浮遊剤などであり、この
うちの1種または2種以上を使用する。
性質をもった原料のことで具体的にはカオリン、末節粘
土、蛙[I粘土、高アルミナ粘土、スリップクレー、ベ
ントナイト、滑石または市販の浮遊剤などであり、この
うちの1種または2種以上を使用する。
フリットは釉の組成に水溶性の物質や有害な物質または
比重が大きく沈澱しやすい物資などを使用することが多
いため、あらかじめ組成全体またはその一部を融かして
ガラス状にしたものであり、I」的により多種多様なフ
リットが市販されている。
比重が大きく沈澱しやすい物資などを使用することが多
いため、あらかじめ組成全体またはその一部を融かして
ガラス状にしたものであり、I」的により多種多様なフ
リットが市販されている。
即ち、下塗用(一般に下ぐずり用という)、に4川(に
ぐずり)、着色されたもの、透明なもの、無鉛なもの、
はうろう用やP4磁器用、湿式または乾式に適したもの
、或いは耐酩性のもの、焼成温度が低いものから高いも
のまで、その他非常に多種多様なものが市販されている
。
ぐずり)、着色されたもの、透明なもの、無鉛なもの、
はうろう用やP4磁器用、湿式または乾式に適したもの
、或いは耐酩性のもの、焼成温度が低いものから高いも
のまで、その他非常に多種多様なものが市販されている
。
柚の成分にはL120. Na2C1,K2Oなどのア
ルカリ酸化物、Cab、 MgO,BaOなどのアルカ
リ土類金属酸化物、Al2O3,8203などの両性酸
化物、S+02゜Z「02などの酸性酸化物があり、ア
ルカリ酸化物及びアルカリド金属酸化物と酸性酸化物は
反応してガラスを作る。
ルカリ酸化物、Cab、 MgO,BaOなどのアルカ
リ土類金属酸化物、Al2O3,8203などの両性酸
化物、S+02゜Z「02などの酸性酸化物があり、ア
ルカリ酸化物及びアルカリド金属酸化物と酸性酸化物は
反応してガラスを作る。
またアルカリ土金属酸化物は釉の性質を調整し、両性酸
化物は熔融状態を左右するものである。
化物は熔融状態を左右するものである。
低融I5X釉はアルカリ酸化物の比率が高く、酸性酸化
物の比率が低く、また高融魚粕は逆に酸性酸化物の51
02の比率が高くなる。
物の比率が低く、また高融魚粕は逆に酸性酸化物の51
02の比率が高くなる。
釉は基材の表面で融けたガラス層であり、硬くτ−メ′
、沢が島+、J、透明でk)るが、顔1)や乳濁剤を入
れて石色什1、乳濁化することかできる。
、沢が島+、J、透明でk)るが、顔1)や乳濁剤を入
れて石色什1、乳濁化することかできる。
、−の釉は2番↓地を硬化し、不透過性に17、化学的
に不活性にL2、滑らかにするものである。
に不活性にL2、滑らかにするものである。
つ、きに市販の11本フェロ−株製のフリットを使Jr
l したMの組成例を示す。(以下の数字は屯41部と
する6) ■)鋼板用下釉 #2232フリット 35 #2236フリン(・35 月 2240 7” リ ン 1・
30けい石 5 蛙[1粘上 7 11F硝酸ソーダ 0.25含本礪砂
0・5 木 502)泪板
用土釉 #1598クリy h 100蛙1−4粘(・
5 ■島化カリ 0.25本
!−103)鋼板用1凹什
1.抽 11:155:11−Bフリ・、(・ 100It![
1粘ト 3FIO−(]γ敵剤
2 (11(〕、自−抹製) 炭酸マグネシウム 0.75111)硝酸ソ
ー、9’ 0.25水
454)セラミ・・・ク
ス、セメンh m j緊鉛lt1′緑色抽#3915
35 #39 i 7 25 長 石 35蛙]1
粘l:5 酸化銅 2.5 カルポキシルメチーレセ一しローブく′0.2 水 50(2)軸
流丁/去 前記のような釉組成を200メ、・、・〕缶、−の網涌
渦程度に粉砕[71、これを金属、乃″ノス、セラミ−
1・クス、セメントなどのり品或いは酎き署″[塗11
(yの表面に塗4i l、 、乾燥させてから、炭酸7
す゛ス1/−ザーエネルキ−によって短時間で熔融させ
、/jラス質の11/、’Bを作るものである。
l したMの組成例を示す。(以下の数字は屯41部と
する6) ■)鋼板用下釉 #2232フリット 35 #2236フリン(・35 月 2240 7” リ ン 1・
30けい石 5 蛙[1粘上 7 11F硝酸ソーダ 0.25含本礪砂
0・5 木 502)泪板
用土釉 #1598クリy h 100蛙1−4粘(・
5 ■島化カリ 0.25本
!−103)鋼板用1凹什
1.抽 11:155:11−Bフリ・、(・ 100It![
1粘ト 3FIO−(]γ敵剤
2 (11(〕、自−抹製) 炭酸マグネシウム 0.75111)硝酸ソ
ー、9’ 0.25水
454)セラミ・・・ク
ス、セメンh m j緊鉛lt1′緑色抽#3915
35 #39 i 7 25 長 石 35蛙]1
粘l:5 酸化銅 2.5 カルポキシルメチーレセ一しローブく′0.2 水 50(2)軸
流丁/去 前記のような釉組成を200メ、・、・〕缶、−の網涌
渦程度に粉砕[71、これを金属、乃″ノス、セラミ−
1・クス、セメントなどのり品或いは酎き署″[塗11
(yの表面に塗4i l、 、乾燥させてから、炭酸7
す゛ス1/−ザーエネルキ−によって短時間で熔融させ
、/jラス質の11/、’Bを作るものである。
E・−ザーエネルギー1こよる熔融は、光を先学的に微
小なスボ・ソトに集中することによりエネルキー畜1.
’a−のきわめて高い熱源をつくり出す原理を利用する
ものであり、炭酸ガスレーザーは他のガスし・−ザーや
固体レーザ゛−と比べて効率が高く2大出力エネルギー
を連続的に発生できる特徴をもつものである。
小なスボ・ソトに集中することによりエネルキー畜1.
’a−のきわめて高い熱源をつくり出す原理を利用する
ものであり、炭酸ガスレーザーは他のガスし・−ザーや
固体レーザ゛−と比べて効率が高く2大出力エネルギー
を連続的に発生できる特徴をもつものである。
また、釉組成である金属酸化物は殆どが炭酸ガスし・−
ザーの出力波長である10.6μ譚領域の光吸収率(熱
吸収率に同じ)が高い。
ザーの出力波長である10.6μ譚領域の光吸収率(熱
吸収率に同じ)が高い。
これをall明するためにド記のような実験を行なった
。
。
叩らサイア、’50 ! 50 X 2 mmの鋼板(
545G)を6枚用代し、このうち3枚に前記組成例の
1)、3)、4)を約30μm塗布し、150°Cで3
0分加熱した。
545G)を6枚用代し、このうち3枚に前記組成例の
1)、3)、4)を約30μm塗布し、150°Cで3
0分加熱した。
つぎ番こ、11水分光株製のIRA−2、y、+赤外分
光光1n゛、11伺属装置然・放射率測定装置を用い7
1 oo℃對1°Cに於ける彼に域10〜llptmの
放射率を測定1゜た。
光光1n゛、11伺属装置然・放射率測定装置を用い7
1 oo℃對1°Cに於ける彼に域10〜llptmの
放射率を測定1゜た。
その結束柚組成を塗4j(、、た鋼板のQ欣!N 4人
(、−れは然吸収平ら、−等しい)は0.114−09
13で、1)っt・。
(、−れは然吸収平ら、−等しい)は0.114−09
13で、1)っt・。
−力塗布I、4゛い鋼板は0.38〜0452でk)−
1な。
1な。
本発明によるlll+施[”法は前記炭酸り゛ニス1.
...、、−、− シl’−による人出力エネルギーと
柚′M11表の尤の高1畏11.1<性により上り時間
で’th+よく焼成Cきるもので島イ)。
...、、−、− シl’−による人出力エネルギーと
柚′M11表の尤の高1畏11.1<性により上り時間
で’th+よく焼成Cきるもので島イ)。
このjQ4酸tf :、”<レーザ一番こよる焼成lH
炭酸ノjスレーザー9:振器によって行なう。
炭酸ノjスレーザー9:振器によって行なう。
例えば、E Z: ’+1.j機■製のにLIOM、
ML25N、礼501ンなどがあり、これらの発振蔦l
;目1力波Kが10(]gm、レーザーtjスMl成は
N、、 He、 Go、、 COの4挿J+:合ガスで
定格出力(ew)iオそれぞれl、f)00W、 2.
500 W、 5,000 Wである。
ML25N、礼501ンなどがあり、これらの発振蔦l
;目1力波Kが10(]gm、レーザーtjスMl成は
N、、 He、 Go、、 COの4挿J+:合ガスで
定格出力(ew)iオそれぞれl、f)00W、 2.
500 W、 5,000 Wである。
このよらな)↓:酎耐スレーザー守振:居を使用1−(
出υ300〜3,0OOW、焼成速In: ’#7j分
缶1リ lへ・15mの菜ヂlで、抽Ut成を焼成する
ものである。
出υ300〜3,0OOW、焼成速In: ’#7j分
缶1リ lへ・15mの菜ヂlで、抽Ut成を焼成する
ものである。
しかしレーザーは広い面積を一度に加熱するような能力
はなく、微小表面のみを急速に加熱するものであるから
使用に際してはこの炭酸ガスレーザー発振器の加工ヘッ
ドを操作して照射幅を拡大し【焼成することになる。
はなく、微小表面のみを急速に加熱するものであるから
使用に際してはこの炭酸ガスレーザー発振器の加工ヘッ
ドを操作して照射幅を拡大し【焼成することになる。
通常の釉組成の焼成温度は750〜1.000℃と比較
的低いため、加工ヘッドを早い速度で操作することによ
り、相当幅の広い基材の焼成も可能になる。
的低いため、加工ヘッドを早い速度で操作することによ
り、相当幅の広い基材の焼成も可能になる。
炭酸ガスレーザーの出力が大きければ更にその速度を早
めることができるため焼成幅を拡大することができるも
のである。
めることができるため焼成幅を拡大することができるも
のである。
)父酸ガスレーザー発振器の出力及び焼成速度は、基材
の幅、釉組成の焼成温度、塗膜厚或は基材の1耐熱温度
などを考慮して調節するものである。
の幅、釉組成の焼成温度、塗膜厚或は基材の1耐熱温度
などを考慮して調節するものである。
本発明の条件で出力が3OOW未満の場合は焼成に必要
なエネルギーが小さ過ぎ、焼成速度を遅くして焼成しよ
うとすれば基材ごと焼成することになったり、或は一部
しか焼成できなかったりする。
なエネルギーが小さ過ぎ、焼成速度を遅くして焼成しよ
うとすれば基材ごと焼成することになったり、或は一部
しか焼成できなかったりする。
また出力が3,0OOWを超過した場合は、エネルギー
が高曇ぎてノ1(材を損傷することが多くなる。仮に焼
成速度を1iLめて焼成しようとすると均一な焼成がで
きなかったり、操作が非常に難しくなったりする。
が高曇ぎてノ1(材を損傷することが多くなる。仮に焼
成速度を1iLめて焼成しようとすると均一な焼成がで
きなかったり、操作が非常に難しくなったりする。
一方焼成速度は前記のように出力とのバランスで決定さ
れるものであるが、毎分当り1m未満では基材を損傷す
ることがあり、また毎分15mを超過すると均一な焼成
が難しくなる。
れるものであるが、毎分当り1m未満では基材を損傷す
ることがあり、また毎分15mを超過すると均一な焼成
が難しくなる。
好ましくは出力が500〜1,200 W、焼成速度は
毎分当り5〜10mである。
毎分当り5〜10mである。
例えば、柚組成の焼成温度が800°Cで100100
x100の鋼板に施釉した場合、)?#カスレーザー発
振器の出力は800Wで焼成速度は毎分7mが適当であ
る。
x100の鋼板に施釉した場合、)?#カスレーザー発
振器の出力は800Wで焼成速度は毎分7mが適当であ
る。
この釉組成を1耐熱温度600℃のlfl’を熱塗膜(
100! 100 mmの鋼板ヒに■11板研究所製の
グラス力11QOを約40湊鶴塗布し、12(1℃で3
0分間加熱して硬化させたもの)の−ヒに塗IIjシ、
前記の出力800冒、焼成速度毎分当り71で焼成して
、下膜の変化を観察したが、下膜は全く変化が見られず
、これにより下地の耐熱温度は釉組成の熔融温度よりも
相当低い温度でもII)能であることが判明し、更に前
記のようにド膜が焼成されずにヒ膜の釉組成のみの焼成
ができることが証明さ、れた。
100! 100 mmの鋼板ヒに■11板研究所製の
グラス力11QOを約40湊鶴塗布し、12(1℃で3
0分間加熱して硬化させたもの)の−ヒに塗IIjシ、
前記の出力800冒、焼成速度毎分当り71で焼成して
、下膜の変化を観察したが、下膜は全く変化が見られず
、これにより下地の耐熱温度は釉組成の熔融温度よりも
相当低い温度でもII)能であることが判明し、更に前
記のようにド膜が焼成されずにヒ膜の釉組成のみの焼成
ができることが証明さ、れた。
本発明の軸流下注により得られる釉は従来の軸流[法で
ある焼成炉で)&材ごと焼成する方法と比較して、全く
同一のものであることはいうまでもない。
ある焼成炉で)&材ごと焼成する方法と比較して、全く
同一のものであることはいうまでもない。
1実 施 例」
以下、実施例を挙げ本発明をす!に具体的に説明するが
、本発明は特許請求の範囲を越えない限り以Fの実施例
に限定されるものではない。
、本発明は特許請求の範囲を越えない限り以Fの実施例
に限定されるものではない。
なお、実施例中1部および%は、特に断らない限り屯H
,す1(準である。
,す1(準である。
本発明の軸流1法により施工した被膜(柚)の性能を調
べるため、先ず、第1表に示すA、B、Cの3種類の組
成を配合した。
べるため、先ず、第1表に示すA、B、Cの3種類の組
成を配合した。
第 1 表
(−記3種類の組成をボールミルで粉砕し、全を逢20
0 メツシュの網を通過させた。
0 メツシュの網を通過させた。
つぎにサイズ200 ! 200 X 2 aa+の鋼
板(S45G)6枚を用意し、このうち3枚に■[I板
研究所製の耐熱コーティング剤グラス力1100を乾燥
時の膜厚に換1〕シて約40用腸塗lHt L、120
°Cで30分間加熱、硬化させた。
板(S45G)6枚を用意し、このうち3枚に■[I板
研究所製の耐熱コーティング剤グラス力1100を乾燥
時の膜厚に換1〕シて約40用腸塗lHt L、120
°Cで30分間加熱、硬化させた。
また200 x 200 x 2 mtaサイズのアル
ミニウム材す1枚と200 x 200 x 5 mm
+Fイズのスレート板1枚を川、a、シた。
ミニウム材す1枚と200 x 200 x 5 mm
+Fイズのスレート板1枚を川、a、シた。
これらの8枚を用いて別添第2表に示す仕様でテストピ
ースを作製した。
ースを作製した。
第2表
塗装方法は第2表に従いエアースプレーガンを用いてテ
ストピースの片面に1枚宛約25g(塗7旧l′1.後
)Q、布した。
ストピースの片面に1枚宛約25g(塗7旧l′1.後
)Q、布した。
乾燥後、疋菱電機w4Vの変酸ガスレーザー加り機ML
25Mを用いて、出力的soow、焼成速度6−/毎分
で焼成した。
25Mを用いて、出力的soow、焼成速度6−/毎分
で焼成した。
この様にして得られたテストピースを用い、各種のテス
トを11施した結果を別添第3表に>i<す。
トを11施した結果を別添第3表に>i<す。
なお、第3表中の各種試験イ1目はF記の・L没に従っ
た。
た。
1列」見]
、IIS R4301−5,3によりmll”ZL、た
。
。
[1Il14熱性1
JIS R4301−5,7により′All1宇し、た
。
。
[対P?耗性I
Its R4301−5,8に↓、すAll「Iv じ
t−1[λ: 7. M ] JIS R430ト5.5により4(11定した。
t−1[λ: 7. M ] JIS R430ト5.5により4(11定した。
[1酎酸+111
JIS R4301−5,9,1+こより測定し、た。
「1酎アルカリ刊」
JIS R4301−5,10により測定した。
[耐熱水性]
JIS R4301−5,111によtj側定1.f−
。
。
[j耐ki4木性]
JIS R4301−5,12,1によりへIII定し
た2、[ピンホールテスI・] JIS R4301−5,12,2L、Z Jl:す2
,0OOVテA11定した。
た2、[ピンホールテスI・] JIS R4301−5,12,2L、Z Jl:す2
,0OOVテA11定した。
第3表
」
1・1′発明の効果」
以l−のようにしてなる本発明の軸流[法によるときは
、 (L)iKMカスレーザーにより大気中で短時間で焼成
できるため基材紮殆ど損傷1−ない。
、 (L)iKMカスレーザーにより大気中で短時間で焼成
できるため基材紮殆ど損傷1−ない。
(2)このためn11熱温;■が200〜300℃とい
った低いJ、(材に軸流りができる。
った低いJ、(材に軸流りができる。
(3)金属なとに従来使用できなかった高性能の高融点
柚が使用できる。
柚が使用できる。
(4)金属面の1耐熱塗膜のl−柚として使用り。
l−釉のみを焼成させることかり能なので金属に対しr
q塑性のある塗膜を作ることがびきる。
q塑性のある塗膜を作ることがびきる。
(5)、没備も簡単なものCすみ、かつ、人F、H生ψ
カ< Tq能で大幅なコストダウンかできる。
カ< Tq能で大幅なコストダウンかできる。
(′6)作業環境が良く、安全−C,わる。
rど数々の利点を41−シ、そのF7的・:1.んは極
めて(であり、このため、本発明の用途は例(ば、自刃
!1(部品、主1、電気部品、台所製品、産業]用機[
氏などの化粧防食、1絶縁、摩耗用((−1遠赤外線放
)(、その他際限なく拡がるものである。
めて(であり、このため、本発明の用途は例(ば、自刃
!1(部品、主1、電気部品、台所製品、産業]用機[
氏などの化粧防食、1絶縁、摩耗用((−1遠赤外線放
)(、その他際限なく拡がるものである。
Claims (1)
- 公知の釉の組成を基材に塗布し、炭酸ガスレーザー発振
器によって出力が300〜3,000W、焼成速度が毎
分当り1〜15mの条件で焼成することを特徴とする釉
施工法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24555785A JPS62105985A (ja) | 1985-11-01 | 1985-11-01 | 釉施工法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24555785A JPS62105985A (ja) | 1985-11-01 | 1985-11-01 | 釉施工法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62105985A true JPS62105985A (ja) | 1987-05-16 |
Family
ID=17135473
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24555785A Pending JPS62105985A (ja) | 1985-11-01 | 1985-11-01 | 釉施工法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62105985A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62246885A (ja) * | 1986-04-17 | 1987-10-28 | 三菱マテリアル株式会社 | セラミツクコ−テイング方法 |
JP2005015334A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Jih-Hsin Tsai | 遠赤外線照射作用のナノ特性釉薬 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4943252A (ja) * | 1972-09-01 | 1974-04-23 |
-
1985
- 1985-11-01 JP JP24555785A patent/JPS62105985A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4943252A (ja) * | 1972-09-01 | 1974-04-23 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62246885A (ja) * | 1986-04-17 | 1987-10-28 | 三菱マテリアル株式会社 | セラミツクコ−テイング方法 |
JP2005015334A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Jih-Hsin Tsai | 遠赤外線照射作用のナノ特性釉薬 |
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