JPS62105985A - 釉施工法 - Google Patents

釉施工法

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JPS62105985A
JPS62105985A JP24555785A JP24555785A JPS62105985A JP S62105985 A JPS62105985 A JP S62105985A JP 24555785 A JP24555785 A JP 24555785A JP 24555785 A JP24555785 A JP 24555785A JP S62105985 A JPS62105985 A JP S62105985A
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好男 市川
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  • Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 f産業上の利用分野j 本発明は釉、すなわち基材の表面で融けた薄いカラス層
のことで、JIS R4301のほうろううわぐすりを
焼きつけたもの、またJIS R4204のガラス質を
1ら成分とした耐熱性のうわぐすりを焼きつけたものな
どの」−記表面に対する施7「法に関し、さらに詳細に
は、鉄、ステンレス、アルミニウムおよびその他の金属
ならびにガラス、セラミックス、セメントおよびその他
の製品、または1耐熱性塗膜等の基材表面に、釉の組成
を塗4iL、炭酸ガスレーザーによって所要短時間に焼
成し、耐熱性、耐蝕性、対摩経性、化粧性、1R気絶縁
性、遠赤外線放射性等のへで優れた被膜を形成するため
に好適な柚に下注に係るものである。
r従来の技術」 従来、釉は焼成炉で焼成することで、陶磁器など基材素
地表面に形成するのが常である。
l!uち、 7111M1成を基材に施和1し、それを
基材ごと焼成炉の中に入れ、高温で焼成すること−なる
から、当然基材が高温に曝され、この結果、使[[1で
きる基材が高温で熱変化を起さないものに限られてしま
う。
釉には焼成温度が550℃前後と非常に低いアルミニウ
ム川はうろうフリットのようなものもあるが、焼成温度
が低い釉M1成は相対的にPbO,Na2O。
K2Oなどのアルカリ酸化物のX4%が多く、硬IL耐
食性が劣る。
通常の柚組成は焼成温度が750〜l、000℃であり
、特に硬度、#食性に優れた5in2. Al2O3な
どの多い抽組成はl、000℃以I−であり、特に高温
熔融抽の中には1.500’C前後のものもある。
このため上記従来の焼成炉を使用する方法では、前記の
如く軸流工のできる基材が大幅に制約され、特に鋼、ア
ルミニウムなどの製品に使用されている釉組成では焼成
温度が制約されるため硬度、耐食性などにどうしても限
界があり、満足すべき商品が提供できないなどの問題を
有している。
「発明が解決しようとする問題点」 本発明による軸流工法は公知の釉組成の塗膜を従来の加
熱炉で焼成する方法を用いず、炭酸ガスレーザーによっ
て大気中で短時間だけ焼成することにより、極めて高出
力な炭酸ガスレーザーを用い、しかも釉組成の塗膜が、
当該レーザー光の吸収性良好である特性を活用して、極
めて短時間の施工時間で目的を達し得るようにし、これ
によって高い生産性と低コスト化を実現させるのが第1
の目的である。
そして、さらに重要なことは、上記レーザー光に対する
吸収性により、基材の方は高温に曝すことなしに、釉の
焼成を可能として、基材が大きな熱変化を受けないよう
になし、これにより8属やセラミンクなどの他、従来軸
流[が不可能であった低融点の金属や、1耐熱温度の低
いガラス、セメント製品、または1耐熱性樹脂、耐熱性
塗膜およびその他の表面にも使用でき、更に従来鋼板そ
の他のり、(材であって、これらには使用不可能であっ
た高性能化を期待できる高融魚粕の使用をも回部として
、優良製品を提供し得るようにするのが第2の目的であ
り、本発明では併せて作業環境の改4をも実現させよう
としている。
r L’1題点を解決するための手段」未発lす1は]
1記の[1的を達成するため、公知の柚のMtL&を基
材に塗布し、炭酸ガスレーザー発振器によって出力が3
00〜3,0OOW、焼成速度が4tE分当り1〜15
mの条件で焼成する軸流1法を提供するものである。
以下未発ゆ1について詳細に述べる。
(1)釉組成 釉は通常、急冷ガラス片であるフリット(用途によって
はフラックスともいう)を使用する。
フリ・ントのみで使用することもあるが、殆どは、これ
に可塑性原料と水、用途によって無機顔料やシリカ、長
石、アルミナ、ジルコンなど、また含水量を少なくし、
粘度を低くする炭酸、亜硝酸その他のアルカリ金属塩、
あるいは流動性の調節や分散材としての酸などを添加し
て使用する。
この他スクリーン印刷用オイルや小麦粉、アラビヤゴム
などの有機結合剤を使用することもある。
前記の+jf塑性原料は、水で練ったときに成形できる
性質をもった原料のことで具体的にはカオリン、末節粘
土、蛙[I粘土、高アルミナ粘土、スリップクレー、ベ
ントナイト、滑石または市販の浮遊剤などであり、この
うちの1種または2種以上を使用する。
フリットは釉の組成に水溶性の物質や有害な物質または
比重が大きく沈澱しやすい物資などを使用することが多
いため、あらかじめ組成全体またはその一部を融かして
ガラス状にしたものであり、I」的により多種多様なフ
リットが市販されている。
即ち、下塗用(一般に下ぐずり用という)、に4川(に
ぐずり)、着色されたもの、透明なもの、無鉛なもの、
はうろう用やP4磁器用、湿式または乾式に適したもの
、或いは耐酩性のもの、焼成温度が低いものから高いも
のまで、その他非常に多種多様なものが市販されている
柚の成分にはL120. Na2C1,K2Oなどのア
ルカリ酸化物、Cab、 MgO,BaOなどのアルカ
リ土類金属酸化物、Al2O3,8203などの両性酸
化物、S+02゜Z「02などの酸性酸化物があり、ア
ルカリ酸化物及びアルカリド金属酸化物と酸性酸化物は
反応してガラスを作る。
またアルカリ土金属酸化物は釉の性質を調整し、両性酸
化物は熔融状態を左右するものである。
低融I5X釉はアルカリ酸化物の比率が高く、酸性酸化
物の比率が低く、また高融魚粕は逆に酸性酸化物の51
02の比率が高くなる。
釉は基材の表面で融けたガラス層であり、硬くτ−メ′
、沢が島+、J、透明でk)るが、顔1)や乳濁剤を入
れて石色什1、乳濁化することかできる。
、−の釉は2番↓地を硬化し、不透過性に17、化学的
に不活性にL2、滑らかにするものである。
つ、きに市販の11本フェロ−株製のフリットを使Jr
l したMの組成例を示す。(以下の数字は屯41部と
する6) ■)鋼板用下釉 #2232フリット     35 #2236フリン(・35 月 2240 7” リ ン 1・         
30けい石           5 蛙[1粘上         7 11F硝酸ソーダ        0.25含本礪砂 
         0・5 木                  502)泪板
用土釉 #1598クリy h     100蛙1−4粘(・
         5 ■島化カリ           0.25本    
             !−103)鋼板用1凹什
1.抽 11:155:11−Bフリ・、(・ 100It![
1粘ト          3FIO−(]γ敵剤  
    2 (11(〕、自−抹製) 炭酸マグネシウム      0.75111)硝酸ソ
ー、9’          0.25水      
              454)セラミ・・・ク
ス、セメンh m j緊鉛lt1′緑色抽#3915 
       35 #39 i 7        25 長  石                35蛙]1
粘l:5 酸化銅           2.5 カルポキシルメチーレセ一しローブく′0.2 水                  50(2)軸
流丁/去 前記のような釉組成を200メ、・、・〕缶、−の網涌
渦程度に粉砕[71、これを金属、乃″ノス、セラミ−
1・クス、セメントなどのり品或いは酎き署″[塗11
(yの表面に塗4i l、 、乾燥させてから、炭酸7
す゛ス1/−ザーエネルキ−によって短時間で熔融させ
、/jラス質の11/、’Bを作るものである。
E・−ザーエネルギー1こよる熔融は、光を先学的に微
小なスボ・ソトに集中することによりエネルキー畜1.
’a−のきわめて高い熱源をつくり出す原理を利用する
ものであり、炭酸ガスレーザーは他のガスし・−ザーや
固体レーザ゛−と比べて効率が高く2大出力エネルギー
を連続的に発生できる特徴をもつものである。
また、釉組成である金属酸化物は殆どが炭酸ガスし・−
ザーの出力波長である10.6μ譚領域の光吸収率(熱
吸収率に同じ)が高い。
これをall明するためにド記のような実験を行なった
叩らサイア、’50 ! 50 X 2 mmの鋼板(
545G)を6枚用代し、このうち3枚に前記組成例の
1)、3)、4)を約30μm塗布し、150°Cで3
0分加熱した。
つぎ番こ、11水分光株製のIRA−2、y、+赤外分
光光1n゛、11伺属装置然・放射率測定装置を用い7
1 oo℃對1°Cに於ける彼に域10〜llptmの
放射率を測定1゜た。
その結束柚組成を塗4j(、、た鋼板のQ欣!N 4人
(、−れは然吸収平ら、−等しい)は0.114−09
13で、1)っt・。
−力塗布I、4゛い鋼板は0.38〜0452でk)−
1な。
本発明によるlll+施[”法は前記炭酸り゛ニス1.
...、、−、− シl’−による人出力エネルギーと
柚′M11表の尤の高1畏11.1<性により上り時間
で’th+よく焼成Cきるもので島イ)。
このjQ4酸tf :、”<レーザ一番こよる焼成lH
炭酸ノjスレーザー9:振器によって行なう。
例えば、E Z: ’+1.j機■製のにLIOM、 
ML25N、礼501ンなどがあり、これらの発振蔦l
;目1力波Kが10(]gm、レーザーtjスMl成は
N、、 He、 Go、、 COの4挿J+:合ガスで
定格出力(ew)iオそれぞれl、f)00W、 2.
500 W、 5,000 Wである。
このよらな)↓:酎耐スレーザー守振:居を使用1−(
出υ300〜3,0OOW、焼成速In: ’#7j分
缶1リ lへ・15mの菜ヂlで、抽Ut成を焼成する
ものである。
しかしレーザーは広い面積を一度に加熱するような能力
はなく、微小表面のみを急速に加熱するものであるから
使用に際してはこの炭酸ガスレーザー発振器の加工ヘッ
ドを操作して照射幅を拡大し【焼成することになる。
通常の釉組成の焼成温度は750〜1.000℃と比較
的低いため、加工ヘッドを早い速度で操作することによ
り、相当幅の広い基材の焼成も可能になる。
炭酸ガスレーザーの出力が大きければ更にその速度を早
めることができるため焼成幅を拡大することができるも
のである。
)父酸ガスレーザー発振器の出力及び焼成速度は、基材
の幅、釉組成の焼成温度、塗膜厚或は基材の1耐熱温度
などを考慮して調節するものである。
本発明の条件で出力が3OOW未満の場合は焼成に必要
なエネルギーが小さ過ぎ、焼成速度を遅くして焼成しよ
うとすれば基材ごと焼成することになったり、或は一部
しか焼成できなかったりする。
また出力が3,0OOWを超過した場合は、エネルギー
が高曇ぎてノ1(材を損傷することが多くなる。仮に焼
成速度を1iLめて焼成しようとすると均一な焼成がで
きなかったり、操作が非常に難しくなったりする。
一方焼成速度は前記のように出力とのバランスで決定さ
れるものであるが、毎分当り1m未満では基材を損傷す
ることがあり、また毎分15mを超過すると均一な焼成
が難しくなる。
好ましくは出力が500〜1,200 W、焼成速度は
毎分当り5〜10mである。
例えば、柚組成の焼成温度が800°Cで100100
x100の鋼板に施釉した場合、)?#カスレーザー発
振器の出力は800Wで焼成速度は毎分7mが適当であ
る。
この釉組成を1耐熱温度600℃のlfl’を熱塗膜(
100! 100 mmの鋼板ヒに■11板研究所製の
グラス力11QOを約40湊鶴塗布し、12(1℃で3
0分間加熱して硬化させたもの)の−ヒに塗IIjシ、
前記の出力800冒、焼成速度毎分当り71で焼成して
、下膜の変化を観察したが、下膜は全く変化が見られず
、これにより下地の耐熱温度は釉組成の熔融温度よりも
相当低い温度でもII)能であることが判明し、更に前
記のようにド膜が焼成されずにヒ膜の釉組成のみの焼成
ができることが証明さ、れた。
本発明の軸流下注により得られる釉は従来の軸流[法で
ある焼成炉で)&材ごと焼成する方法と比較して、全く
同一のものであることはいうまでもない。
1実 施 例」 以下、実施例を挙げ本発明をす!に具体的に説明するが
、本発明は特許請求の範囲を越えない限り以Fの実施例
に限定されるものではない。
なお、実施例中1部および%は、特に断らない限り屯H
,す1(準である。
本発明の軸流1法により施工した被膜(柚)の性能を調
べるため、先ず、第1表に示すA、B、Cの3種類の組
成を配合した。
第  1  表 (−記3種類の組成をボールミルで粉砕し、全を逢20
0 メツシュの網を通過させた。
つぎにサイズ200 ! 200 X 2 aa+の鋼
板(S45G)6枚を用意し、このうち3枚に■[I板
研究所製の耐熱コーティング剤グラス力1100を乾燥
時の膜厚に換1〕シて約40用腸塗lHt L、120
°Cで30分間加熱、硬化させた。
また200 x 200 x 2 mtaサイズのアル
ミニウム材す1枚と200 x 200 x 5 mm
 +Fイズのスレート板1枚を川、a、シた。
これらの8枚を用いて別添第2表に示す仕様でテストピ
ースを作製した。
第2表 塗装方法は第2表に従いエアースプレーガンを用いてテ
ストピースの片面に1枚宛約25g(塗7旧l′1.後
)Q、布した。
乾燥後、疋菱電機w4Vの変酸ガスレーザー加り機ML
25Mを用いて、出力的soow、焼成速度6−/毎分
で焼成した。
この様にして得られたテストピースを用い、各種のテス
トを11施した結果を別添第3表に>i<す。
なお、第3表中の各種試験イ1目はF記の・L没に従っ
た。
1列」見] 、IIS R4301−5,3によりmll”ZL、た
[1Il14熱性1 JIS R4301−5,7により′All1宇し、た
[対P?耗性I Its R4301−5,8に↓、すAll「Iv じ
t−1[λ: 7. M ] JIS R430ト5.5により4(11定した。
[1酎酸+111 JIS R4301−5,9,1+こより測定し、た。
「1酎アルカリ刊」 JIS R4301−5,10により測定した。
[耐熱水性] JIS R4301−5,111によtj側定1.f−
[j耐ki4木性] JIS R4301−5,12,1によりへIII定し
た2、[ピンホールテスI・] JIS R4301−5,12,2L、Z Jl:す2
,0OOVテA11定した。
第3表 」 1・1′発明の効果」 以l−のようにしてなる本発明の軸流[法によるときは
、 (L)iKMカスレーザーにより大気中で短時間で焼成
できるため基材紮殆ど損傷1−ない。
(2)このためn11熱温;■が200〜300℃とい
った低いJ、(材に軸流りができる。
(3)金属なとに従来使用できなかった高性能の高融点
柚が使用できる。
(4)金属面の1耐熱塗膜のl−柚として使用り。
l−釉のみを焼成させることかり能なので金属に対しr
q塑性のある塗膜を作ることがびきる。
(5)、没備も簡単なものCすみ、かつ、人F、H生ψ
カ< Tq能で大幅なコストダウンかできる。
(′6)作業環境が良く、安全−C,わる。
rど数々の利点を41−シ、そのF7的・:1.んは極
めて(であり、このため、本発明の用途は例(ば、自刃
!1(部品、主1、電気部品、台所製品、産業]用機[
氏などの化粧防食、1絶縁、摩耗用((−1遠赤外線放
)(、その他際限なく拡がるものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 公知の釉の組成を基材に塗布し、炭酸ガスレーザー発振
    器によって出力が300〜3,000W、焼成速度が毎
    分当り1〜15mの条件で焼成することを特徴とする釉
    施工法。
JP24555785A 1985-11-01 1985-11-01 釉施工法 Pending JPS62105985A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62246885A (ja) * 1986-04-17 1987-10-28 三菱マテリアル株式会社 セラミツクコ−テイング方法
JP2005015334A (ja) * 2003-06-27 2005-01-20 Jih-Hsin Tsai 遠赤外線照射作用のナノ特性釉薬

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4943252A (ja) * 1972-09-01 1974-04-23

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