JPS62104022A - 液体原料気化装置 - Google Patents
液体原料気化装置Info
- Publication number
- JPS62104022A JPS62104022A JP24330885A JP24330885A JPS62104022A JP S62104022 A JPS62104022 A JP S62104022A JP 24330885 A JP24330885 A JP 24330885A JP 24330885 A JP24330885 A JP 24330885A JP S62104022 A JPS62104022 A JP S62104022A
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- JP
- Japan
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- raw material
- liquid
- cylinder
- liquid raw
- temperature
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の用分野〕
本発明はＣＶＤ法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｕｒ
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などにおいて、液体原料を
キャリアーガスのバブリングにより気化させて、該液体
原料の上記を供給する際に用いられる液体原料気化装置
に関する。
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などにおいて、液体原料を
キャリアーガスのバブリングにより気化させて、該液体
原料の上記を供給する際に用いられる液体原料気化装置
に関する。
本発明はＣＶＤ法などに用いられる、液体原料を恒温槽
を仕様して一定温度に保ち、中に挿入したチューブより
気体を導入して該液体原料をバブリングすることによっ
て該液体原料を気化させる液体原料気化装置において、
該容器の周りを熱伝導率の高い材料で囲むことより、該
容器内の温度が均一になるようにしたものである。
を仕様して一定温度に保ち、中に挿入したチューブより
気体を導入して該液体原料をバブリングすることによっ
て該液体原料を気化させる液体原料気化装置において、
該容器の周りを熱伝導率の高い材料で囲むことより、該
容器内の温度が均一になるようにしたものである。
（従来の技術〕
第２図には従来用いられている液体原料気化装置の概略
図を示す、シリンダー１０中には液体原料１１が封入さ
れていて、ガス出口用バルブがシリンダー１０の上部設
置されている。液体原料ｌＩＩにはガス入口用バルブ１
３を有するディップチューブ１４が挿入されている。シ
リンダー１０は恒温槽１５に冷媒１６を入れた中に入っ
ていて、シリンダー１０内の温度が一定に保たれるよう
になっている。キャリアーガスはガス入口用バルブ１３
及びディップチューブ１４を通り、シリンダー１０の底
部において液体原料１１中に放出される、放出されたキ
ャリアーガスは気泡１７となって液体原料１１の中を上
昇しながら、液体原料１１を該気泡中に含む形で気化さ
せる。液体原料１１の蒸気を含むキャリアーガスはガス
出口用バルブ１２を経て反応炉へ供給される。この際、
キャリアーガスに含まれる液体原料の量は理想的には、
液体原料の温度によって決まる飽和蒸気圧とキャリアー
ガスの導入量により決まる。実際には、シリンダー１０
を恒温槽１５にセントすることにより液体原料１１を所
定の温度に設定し、この温度と導入するキャリアーガス
の体積により気化する液体原料１１の量が制御できる。
図を示す、シリンダー１０中には液体原料１１が封入さ
れていて、ガス出口用バルブがシリンダー１０の上部設
置されている。液体原料ｌＩＩにはガス入口用バルブ１
３を有するディップチューブ１４が挿入されている。シ
リンダー１０は恒温槽１５に冷媒１６を入れた中に入っ
ていて、シリンダー１０内の温度が一定に保たれるよう
になっている。キャリアーガスはガス入口用バルブ１３
及びディップチューブ１４を通り、シリンダー１０の底
部において液体原料１１中に放出される、放出されたキ
ャリアーガスは気泡１７となって液体原料１１の中を上
昇しながら、液体原料１１を該気泡中に含む形で気化さ
せる。液体原料１１の蒸気を含むキャリアーガスはガス
出口用バルブ１２を経て反応炉へ供給される。この際、
キャリアーガスに含まれる液体原料の量は理想的には、
液体原料の温度によって決まる飽和蒸気圧とキャリアー
ガスの導入量により決まる。実際には、シリンダー１０
を恒温槽１５にセントすることにより液体原料１１を所
定の温度に設定し、この温度と導入するキャリアーガス
の体積により気化する液体原料１１の量が制御できる。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし、前
述の従来装置では次のような問題点を存する。
述の従来装置では次のような問題点を存する。
■シリンダーの上部が恒温槽内に入っていないので、シ
リンダー内の温度が不均一である。
リンダー内の温度が不均一である。
■恒温槽内に温度分布があるため、温度制御性が悪い。
■耐食性の面からシリンダーにはステンレス５ＵＳ−３
１６を使用しているため、熱伝導率が低い。
１６を使用しているため、熱伝導率が低い。
これらの理由のため、成長した化合物半導体薄膜の膜厚
及び素子の特性にばらつきがあり、高品質の結晶を成長
させることは難かしく、また、原料の使用量に対する予
測が不可能で原料の量的管理ができないため、早めに使
用を中止するという問題がある。
及び素子の特性にばらつきがあり、高品質の結晶を成長
させることは難かしく、また、原料の使用量に対する予
測が不可能で原料の量的管理ができないため、早めに使
用を中止するという問題がある。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、シリンダー内の液体原料とガス
の温度が周囲の温度の変動の影響をうけにくくなること
、また、それによって長期に及んで化合物半導体薄膜の
膜厚及びその特性、素子の特性を安定的に制御すること
が可能になることにある。
の目的とするところは、シリンダー内の液体原料とガス
の温度が周囲の温度の変動の影響をうけにくくなること
、また、それによって長期に及んで化合物半導体薄膜の
膜厚及びその特性、素子の特性を安定的に制御すること
が可能になることにある。
本発明は、シリンダー全体の熱伝導率の高い材料でおお
うことを特徴とする。
うことを特徴とする。
以下、本発明の実施例における液体原料気化装置の図で
ある。
ある。
シリンダー１中には液体原料２が密封して封入されてい
て、ガス出口用バルブ３がシリンダー〇の上部に設置さ
れている。液体原料２中にはガス入口用パルプ４を有す
るディップチューブ５が挿入されている。シリンダー１
は熱伝導率の高いＡ１９にひだをつけたものでおおわれ
ていて恒温槽６に冷媒７を入れた中に入っている。キャ
リアーガスはガス入口用パルプ４及びディップチューブ
５を通り、シリンダー１の底部において液体原料２中に
放出される。放出されたキャリアーガスは気泡８となっ
て液体原料２の中を上昇しながら、液体原料２を該気泡
中に含む形で気化させる。液体原料２の蒸気を含む気化
キャリアーガスはガス出口用バルブ３を経て反応炉へと
むかっていく。
て、ガス出口用バルブ３がシリンダー〇の上部に設置さ
れている。液体原料２中にはガス入口用パルプ４を有す
るディップチューブ５が挿入されている。シリンダー１
は熱伝導率の高いＡ１９にひだをつけたものでおおわれ
ていて恒温槽６に冷媒７を入れた中に入っている。キャ
リアーガスはガス入口用パルプ４及びディップチューブ
５を通り、シリンダー１の底部において液体原料２中に
放出される。放出されたキャリアーガスは気泡８となっ
て液体原料２の中を上昇しながら、液体原料２を該気泡
中に含む形で気化させる。液体原料２の蒸気を含む気化
キャリアーガスはガス出口用バルブ３を経て反応炉へと
むかっていく。
本実施例は、シリンダーｌ熱全体を熱伝導率の高いＡｌ
１でおおうことを特徴とする。それによって恒温槽６の
冷媒７の温度がシリンダー全体に伝わり、シリンダー内
の温度が均一になる。すなわち、従来困難であった液体
原料及びガスの温度の制御が可能となり、ガスの使用量
を予測することができ、原料の量的管理が可能になる。
１でおおうことを特徴とする。それによって恒温槽６の
冷媒７の温度がシリンダー全体に伝わり、シリンダー内
の温度が均一になる。すなわち、従来困難であった液体
原料及びガスの温度の制御が可能となり、ガスの使用量
を予測することができ、原料の量的管理が可能になる。
また、長期に及んで化合物半導体薄膜の膜厚及びその特
性、素子の特性を安定的に制御することが可能になる。
性、素子の特性を安定的に制御することが可能になる。
〔実施例２〕
本実施例の基本構造は〔実施例１〕と同じであるが、シ
リンダ−１全体をおおう熱伝導率の高い材料９がＣｕで
あることが特徴である。ＣｕはＡ１より熱伝導率が高い
ため、原料の量的管理をすること、化合物半導体薄膜の
膜ｒｇ−及びその特性、素子の特性を安定的に制御する
ことがより可能でる。
リンダ−１全体をおおう熱伝導率の高い材料９がＣｕで
あることが特徴である。ＣｕはＡ１より熱伝導率が高い
ため、原料の量的管理をすること、化合物半導体薄膜の
膜ｒｇ−及びその特性、素子の特性を安定的に制御する
ことがより可能でる。
以上のべたように本発明によれば、シリンダー全体を熱
伝導率の高い材料でおおい、恒温槽内にセントすること
によりシリンダー内の温度が均一になるため、液体原料
及びガスの温度の制御が可能であるという効果、また、
温度管理が正確にできることによりガスの使用量を予測
することができ、実験及び製造の過程において原料の量
的管理が可能であるという効果を有する。
伝導率の高い材料でおおい、恒温槽内にセントすること
によりシリンダー内の温度が均一になるため、液体原料
及びガスの温度の制御が可能であるという効果、また、
温度管理が正確にできることによりガスの使用量を予測
することができ、実験及び製造の過程において原料の量
的管理が可能であるという効果を有する。
本発明は、化合物半導体薄膜の膜圧及びその特性、素子
の特性を安定的に制御することが可能になるため、ＬＥ
Ｄや半導体レーザーなどの発光デバイス、光ＩＣ，電子
バイスや光デバイスなどへの活気的な効果を期待できる
。
の特性を安定的に制御することが可能になるため、ＬＥ
Ｄや半導体レーザーなどの発光デバイス、光ＩＣ，電子
バイスや光デバイスなどへの活気的な効果を期待できる
。
第１図は実施例１．２に示す液体原料気化装置の断面概
略図である。 １、シリンダー ２．液体原料 ３、ガス出口用バルブ ４．ガス入口用バルブ５、ディ
ップチューブ ６．恒温槽 ７、冷媒 ８．気泡 ９、熱伝導率の高い材料 第２図は従来の液体原料気化装置の断面概略図である。 １０、 シリンダー １１、液体原料 １２、ガス出口用バルブ １３、ガス入口用バルブ １４、ディップチューブ １５、恒温槽 １６、冷媒 １７、気泡 以 上 炙左、？ｌ Ｌ２ｔ・示■液祥ｊ神地ζ装置。町テ七〇
各仏第１図
略図である。 １、シリンダー ２．液体原料 ３、ガス出口用バルブ ４．ガス入口用バルブ５、ディ
ップチューブ ６．恒温槽 ７、冷媒 ８．気泡 ９、熱伝導率の高い材料 第２図は従来の液体原料気化装置の断面概略図である。 １０、 シリンダー １１、液体原料 １２、ガス出口用バルブ １３、ガス入口用バルブ １４、ディップチューブ １５、恒温槽 １６、冷媒 １７、気泡 以 上 炙左、？ｌ Ｌ２ｔ・示■液祥ｊ神地ζ装置。町テ七〇
各仏第１図
Claims (1)
- 恒温槽により一定温度に保たれた液体原料内に挿入した
チューブより気体を導入して該液体原料をバブリングす
ることによって該液体原料を気化させる液体原料気化容
器において、該容器の周りを熱伝導の高い材料で囲むこ
とを特徴とする液体原料気化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24330885A JPS62104022A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 液体原料気化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24330885A JPS62104022A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 液体原料気化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62104022A true JPS62104022A (ja) | 1987-05-14 |
Family
ID=17101900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24330885A Pending JPS62104022A (ja) | 1985-10-30 | 1985-10-30 | 液体原料気化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62104022A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008533746A (ja) * | 2005-03-17 | 2008-08-21 | ノア プレシジョン リミテッド ライアビリティ カンパニー | バブラー用温度制御装置 |
| CN110658352A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-07 | 中国科学技术大学 | 一种进样装置 |
-
1985
- 1985-10-30 JP JP24330885A patent/JPS62104022A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008533746A (ja) * | 2005-03-17 | 2008-08-21 | ノア プレシジョン リミテッド ライアビリティ カンパニー | バブラー用温度制御装置 |
| CN110658352A (zh) * | 2019-10-14 | 2020-01-07 | 中国科学技术大学 | 一种进样装置 |
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