JPH062142A - 液体蒸気原料の供給装置 - Google Patents
液体蒸気原料の供給装置Info
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- JPH062142A JPH062142A JP4159099A JP15909992A JPH062142A JP H062142 A JPH062142 A JP H062142A JP 4159099 A JP4159099 A JP 4159099A JP 15909992 A JP15909992 A JP 15909992A JP H062142 A JPH062142 A JP H062142A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＬＳＩの絶縁膜などを形成するための液体蒸
気原料の供給装置において、気化器から反応室に供給さ
れる原料蒸気を精密に安定させることで、各液体蒸気原
料の成分をＳｉ、Ｂ、Ｐとしたときに、ＳｉとＢとＰか
らなる均一性の良いＢＰＳＧ膜を形成する。 【構成】 液体蒸気原料２，４，６を貯蔵する第一のタ
ンク３２，３４，３６と、有機溶媒１，３，５を貯蔵す
る第二のタンク３１，３３，３５と、前記第一及び第二
のタンクに接続され前記液体蒸気原料と前記有機溶媒の
混合液８，１０，１２を貯蔵する第三のタンク３７，３
８，３９と、前記第三のタンクの前記混合液を攪拌する
手段２０，２４と、前記第三のタンクに接続されてこの
第三のタンクから前記混合液の供給を受ける液体マスフ
ローコントローラー４４と、前記液体マスフローコント
ローラーに接続された気化器５０とを備える。
気原料の供給装置において、気化器から反応室に供給さ
れる原料蒸気を精密に安定させることで、各液体蒸気原
料の成分をＳｉ、Ｂ、Ｐとしたときに、ＳｉとＢとＰか
らなる均一性の良いＢＰＳＧ膜を形成する。 【構成】 液体蒸気原料２，４，６を貯蔵する第一のタ
ンク３２，３４，３６と、有機溶媒１，３，５を貯蔵す
る第二のタンク３１，３３，３５と、前記第一及び第二
のタンクに接続され前記液体蒸気原料と前記有機溶媒の
混合液８，１０，１２を貯蔵する第三のタンク３７，３
８，３９と、前記第三のタンクの前記混合液を攪拌する
手段２０，２４と、前記第三のタンクに接続されてこの
第三のタンクから前記混合液の供給を受ける液体マスフ
ローコントローラー４４と、前記液体マスフローコント
ローラーに接続された気化器５０とを備える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液体蒸気原料の供給装置
に関し、特にＬＳＩにおいて使用される絶縁膜を形成す
るための液体蒸気原料の供給装置に関するものである。
に関し、特にＬＳＩにおいて使用される絶縁膜を形成す
るための液体蒸気原料の供給装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＬＳＩにおいてはその集積度が増
大し、デザイン・ルールは次第に厳しくなっている。こ
れに対応し、絶縁膜の形成のためのＣＶＤ装置は、これ
までのように無機化合物の気体原料用のものから、カバ
レッジの良い有機系の液体原料用のものに変わってきて
いる。例えば、ＬＳＩにおいて絶縁膜や平坦化膜として
広く用いられているＢＰＳＧ膜は、無機化合物の気体で
あるＳｉＨ4 （シラン）とＢ2 Ｈ6 （ジボラン）とＰＨ
3 （ホスフィン）とを原料としたものであるが、これに
代わり、有機化合物の液体であるＴＥＯＳ（テトラエチ
ルオルソシリケイト）とＴＥＢ（トリエチルボレイト）
とＴＭＯＰ（テトラメチルホスフェイト）とを原料とし
たＢＰＳＧ膜が用いられている。
大し、デザイン・ルールは次第に厳しくなっている。こ
れに対応し、絶縁膜の形成のためのＣＶＤ装置は、これ
までのように無機化合物の気体原料用のものから、カバ
レッジの良い有機系の液体原料用のものに変わってきて
いる。例えば、ＬＳＩにおいて絶縁膜や平坦化膜として
広く用いられているＢＰＳＧ膜は、無機化合物の気体で
あるＳｉＨ4 （シラン）とＢ2 Ｈ6 （ジボラン）とＰＨ
3 （ホスフィン）とを原料としたものであるが、これに
代わり、有機化合物の液体であるＴＥＯＳ（テトラエチ
ルオルソシリケイト）とＴＥＢ（トリエチルボレイト）
とＴＭＯＰ（テトラメチルホスフェイト）とを原料とし
たＢＰＳＧ膜が用いられている。
【０００３】以下図面を参照しながら、上記した従来の
絶縁膜形成用ＣＶＤ装置におけるＢＰＳＧ膜の形成工程
の一例について説明する。図３は従来の絶縁膜形成用Ｃ
ＶＤ装置を示すものである。図３において、タンク３２
に貯蔵されたＳｉの液体有機原料であるＴＥＯＳ２は、
マスフローコントローラー４３を通してタンク３７に導
入され、ヒーター９２によって保温される。タンク３７
には、配管３０から供給されマスフローコントローラー
４０によりＴＥＯＳ２の圧送に必要な圧力に調整された
Ｎ2 が配管５４から供給されている。タンク３７内のＴ
ＥＯＳ２は、このＮ2 によって配管６０に送られる。配
管６０に供給されたＴＥＯＳ２は、液体マスフローコン
トローラー４４により必要量に制御され、気化器５０に
送られる。ここで気化されたＴＥＯＳ２は、再び液化し
ないようにヒーター９０で保温されながら反応室８０に
送られる。
絶縁膜形成用ＣＶＤ装置におけるＢＰＳＧ膜の形成工程
の一例について説明する。図３は従来の絶縁膜形成用Ｃ
ＶＤ装置を示すものである。図３において、タンク３２
に貯蔵されたＳｉの液体有機原料であるＴＥＯＳ２は、
マスフローコントローラー４３を通してタンク３７に導
入され、ヒーター９２によって保温される。タンク３７
には、配管３０から供給されマスフローコントローラー
４０によりＴＥＯＳ２の圧送に必要な圧力に調整された
Ｎ2 が配管５４から供給されている。タンク３７内のＴ
ＥＯＳ２は、このＮ2 によって配管６０に送られる。配
管６０に供給されたＴＥＯＳ２は、液体マスフローコン
トローラー４４により必要量に制御され、気化器５０に
送られる。ここで気化されたＴＥＯＳ２は、再び液化し
ないようにヒーター９０で保温されながら反応室８０に
送られる。
【０００４】同様にして、タンク３４に貯蔵されたボロ
ンの液体有機原料であるＴＥＢ４はタンク３８に導入さ
れ、ヒーター９２によって保温される。タンク３８に
は、ＴＥＢ４の圧送に必要な圧力に調整されたＮ2 が配
管５６から供給されている。タンク３８内のＴＥＢ４
は、このＮ2 によって配管６２に送られる。配管６２に
供給されたＴＥＢ４は、液体マスフローコントローラー
４４により必要量に制御され、気化器５０に送られる。
ここで気化されたＴＥＢ４は、再び液化しないようにヒ
ーター９０で保温されながら反応室８０に送られる。
ンの液体有機原料であるＴＥＢ４はタンク３８に導入さ
れ、ヒーター９２によって保温される。タンク３８に
は、ＴＥＢ４の圧送に必要な圧力に調整されたＮ2 が配
管５６から供給されている。タンク３８内のＴＥＢ４
は、このＮ2 によって配管６２に送られる。配管６２に
供給されたＴＥＢ４は、液体マスフローコントローラー
４４により必要量に制御され、気化器５０に送られる。
ここで気化されたＴＥＢ４は、再び液化しないようにヒ
ーター９０で保温されながら反応室８０に送られる。
【０００５】さらに同様にして、タンク３６に貯蔵され
たリンの液体有機原料であるＴＭＯＰ６はタンク３９に
導入され、ヒーター９２によって保温される。タンク３
９には、ＴＭＯＰ６の圧送に必要な圧力に調整されたＮ
2 が配管５８から供給されている。タンク３９内のＴＭ
ＯＰ６は、このＮ2 によって配管６４に送られる。配管
６４に供給されたＴＭＯＰ６は、液体マスフローコント
ローラー４４により必要量に制御され、気化器５０に送
られる。ここで気化されたＴＭＯＰ６は、再び液化しな
いようにヒーター９０で保温されながら反応室８０に送
られる。
たリンの液体有機原料であるＴＭＯＰ６はタンク３９に
導入され、ヒーター９２によって保温される。タンク３
９には、ＴＭＯＰ６の圧送に必要な圧力に調整されたＮ
2 が配管５８から供給されている。タンク３９内のＴＭ
ＯＰ６は、このＮ2 によって配管６４に送られる。配管
６４に供給されたＴＭＯＰ６は、液体マスフローコント
ローラー４４により必要量に制御され、気化器５０に送
られる。ここで気化されたＴＭＯＰ６は、再び液化しな
いようにヒーター９０で保温されながら反応室８０に送
られる。
【０００６】上記のようにして反応室８０に送られたＴ
ＥＯＳ２、ＴＥＢ４およびＴＭＯＰ６の気体と、配管６
６から供給されたオゾンと酸素の混合ガスとを、反応室
８０においてヒーター９４で保温しながら熱分解反応さ
せることにより、ウェハー８２上にＢＰＳＧ膜を形成さ
せる。
ＥＯＳ２、ＴＥＢ４およびＴＭＯＰ６の気体と、配管６
６から供給されたオゾンと酸素の混合ガスとを、反応室
８０においてヒーター９４で保温しながら熱分解反応さ
せることにより、ウェハー８２上にＢＰＳＧ膜を形成さ
せる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成において、オゾンを含んだ酸素との熱分解反応
によりＢＰＳＧ膜を成膜するのに必要な液体蒸気原料の
量は、ＴＥＯＳが０．４０（ｇｒ／分）〜２．００（ｇ
ｒ／分）、ＴＥＢが０．０４０（ｇｒ／分）〜０．２０
（ｇｒ／分）、ＴＭＯＰが０．０４０（ｇｒ／分）〜
０．２０（ｇｒ／分）と極少量であるため、図４に示す
様に液体マスフローコントローラー４４において調節弁
４５により制御された液体原料は連続した流体となら
ず、不連続な滴状の流体９となる。このため、気化器５
０には不連続な滴状の流体９が供給され、気化器５０か
ら調節弁４１を介して、図３に示される反応室８０に供
給される原料蒸気１４は、その供給量がパルス的に変化
し、ウエハー８２上には面内および膜の深さの両方向共
に、成分の均一性の悪いＢＰＳＧ膜しか堆積することが
できないという問題点を有していた。
うな構成において、オゾンを含んだ酸素との熱分解反応
によりＢＰＳＧ膜を成膜するのに必要な液体蒸気原料の
量は、ＴＥＯＳが０．４０（ｇｒ／分）〜２．００（ｇ
ｒ／分）、ＴＥＢが０．０４０（ｇｒ／分）〜０．２０
（ｇｒ／分）、ＴＭＯＰが０．０４０（ｇｒ／分）〜
０．２０（ｇｒ／分）と極少量であるため、図４に示す
様に液体マスフローコントローラー４４において調節弁
４５により制御された液体原料は連続した流体となら
ず、不連続な滴状の流体９となる。このため、気化器５
０には不連続な滴状の流体９が供給され、気化器５０か
ら調節弁４１を介して、図３に示される反応室８０に供
給される原料蒸気１４は、その供給量がパルス的に変化
し、ウエハー８２上には面内および膜の深さの両方向共
に、成分の均一性の悪いＢＰＳＧ膜しか堆積することが
できないという問題点を有していた。
【０００８】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
であり、気化器から反応室に供給される原料蒸気の量を
精密に安定させ、成分の均一性の良いＢＰＳＧ膜を形成
し得る液体蒸気原料を供給することを目的とするもので
ある。
であり、気化器から反応室に供給される原料蒸気の量を
精密に安定させ、成分の均一性の良いＢＰＳＧ膜を形成
し得る液体蒸気原料を供給することを目的とするもので
ある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明の液体蒸気原料の供給装置は、液体蒸気原料
を貯蔵する第一のタンクと、有機溶媒を貯蔵する第二の
タンクと、前記第一及び第二のタンクに接続され前記液
体蒸気原料と前記有機溶媒の混合液を貯蔵する第三のタ
ンクと、前記第三のタンクの前記混合液を攪拌する手段
と、前記第三のタンクに接続されてこの第三のタンクか
ら前記混合液の供給を受ける液体マスフローコントロー
ラーと、前記液体マスフローコントローラーに接続され
た気化器とを備えた。
めに本発明の液体蒸気原料の供給装置は、液体蒸気原料
を貯蔵する第一のタンクと、有機溶媒を貯蔵する第二の
タンクと、前記第一及び第二のタンクに接続され前記液
体蒸気原料と前記有機溶媒の混合液を貯蔵する第三のタ
ンクと、前記第三のタンクの前記混合液を攪拌する手段
と、前記第三のタンクに接続されてこの第三のタンクか
ら前記混合液の供給を受ける液体マスフローコントロー
ラーと、前記液体マスフローコントローラーに接続され
た気化器とを備えた。
【００１０】
【作用】上記構成の本発明の液体蒸気原料の供給装置に
よれば、第一のタンクから供給された極少量の液体蒸気
原料と第二のタンクから供給された多量の有機溶媒とが
第三のタンク中で混合され、液体マスフローコントロー
ラーにより液体蒸気原料を連続した流体として制御する
のに充分な量とされているので、液体マスフローコント
ローラーによって精密に流量制御することができる。さ
らに第三のタンク中に混合液を攪拌する手段が設けられ
ていることによって、混合液の成分比は常に一定となっ
ている。このため、気化器から反応室に供給される原料
蒸気を常に安定かつ精密に制御することができるので、
各液体蒸気原料の成分をＳｉ、Ｂ、Ｐとしたときに、こ
れらＳｉとＢとＰからなる均一性の良い膜を形成するこ
とができる。
よれば、第一のタンクから供給された極少量の液体蒸気
原料と第二のタンクから供給された多量の有機溶媒とが
第三のタンク中で混合され、液体マスフローコントロー
ラーにより液体蒸気原料を連続した流体として制御する
のに充分な量とされているので、液体マスフローコント
ローラーによって精密に流量制御することができる。さ
らに第三のタンク中に混合液を攪拌する手段が設けられ
ていることによって、混合液の成分比は常に一定となっ
ている。このため、気化器から反応室に供給される原料
蒸気を常に安定かつ精密に制御することができるので、
各液体蒸気原料の成分をＳｉ、Ｂ、Ｐとしたときに、こ
れらＳｉとＢとＰからなる均一性の良い膜を形成するこ
とができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の液体蒸気原料の供給装置の一
実施例について、図１を参照しながら説明する。
実施例について、図１を参照しながら説明する。
【００１２】図１において、タンク３２に貯蔵されたＳ
ｉの液体有機原料であるＴＥＯＳ２とタンク３１に貯蔵
された容量比でその５０から５００倍の有機溶媒として
のエタノール１とは、マスフローコントローラー４３を
通してタンク３７に導入される。タンク３７内には攪拌
子２０が備えられており、この攪拌子２０は、タンク外
に位置する完全に独立の構造の攪拌用モーター２４によ
り磁力によって攪拌のための動力が与えられている。タ
ンク３７に導入されたＴＥＯＳ２とエタノール１との混
合液８は攪拌子２０によって攪拌混合されるとともに、
ヒーター９２によって保温される。また、タンク３７に
は配管３０から供給されマスフローコントローラー４０
により混合液８の圧送に必要な圧力に調整されたＮ2 が
配管５４から供給されている。タンク３７内の攪拌され
た混合液８は、このＮ2 によって配管６０に送られる。
配管６０に供給された混合液８は、液体マスフローコン
トローラー４４により必要量に制御され、気化器５０に
送られる。混合液８はここで気化され、再び液化しない
ようにヒーター９０で保温されながら反応室８０に送ら
れる。
ｉの液体有機原料であるＴＥＯＳ２とタンク３１に貯蔵
された容量比でその５０から５００倍の有機溶媒として
のエタノール１とは、マスフローコントローラー４３を
通してタンク３７に導入される。タンク３７内には攪拌
子２０が備えられており、この攪拌子２０は、タンク外
に位置する完全に独立の構造の攪拌用モーター２４によ
り磁力によって攪拌のための動力が与えられている。タ
ンク３７に導入されたＴＥＯＳ２とエタノール１との混
合液８は攪拌子２０によって攪拌混合されるとともに、
ヒーター９２によって保温される。また、タンク３７に
は配管３０から供給されマスフローコントローラー４０
により混合液８の圧送に必要な圧力に調整されたＮ2 が
配管５４から供給されている。タンク３７内の攪拌され
た混合液８は、このＮ2 によって配管６０に送られる。
配管６０に供給された混合液８は、液体マスフローコン
トローラー４４により必要量に制御され、気化器５０に
送られる。混合液８はここで気化され、再び液化しない
ようにヒーター９０で保温されながら反応室８０に送ら
れる。
【００１３】また、タンク３４に貯蔵されたボロンの液
体有機原料であるＴＥＢ４とタンク３３に貯蔵された容
量比でその５０から５００倍の有機溶媒としてのエタノ
ール３とは、マスフローコントローラー４３を通してタ
ンク３８に導入される。タンク３８に導入されたＴＥＢ
４とエタノール３との混合液１０は、混合液８と同様に
して攪拌子２０によって攪拌混合されるとともに、ヒー
ター９２によって保温される。また、タンク３８には、
マスフローコントローラー４０により混合液１０の圧送
に必要な圧力に調整されたＮ2 が配管５６から供給され
ている。タンク３８内の攪拌された混合液１０は、この
Ｎ2 によって配管６２に送られる。配管６２に供給され
た混合液１０は、液体マスフローコントローラー４４に
より必要量に制御され、気化器５０に送られる。混合液
１０はここで気化され、再び液化しないようにヒーター
９０で保温されながら反応室８０に送られる。
体有機原料であるＴＥＢ４とタンク３３に貯蔵された容
量比でその５０から５００倍の有機溶媒としてのエタノ
ール３とは、マスフローコントローラー４３を通してタ
ンク３８に導入される。タンク３８に導入されたＴＥＢ
４とエタノール３との混合液１０は、混合液８と同様に
して攪拌子２０によって攪拌混合されるとともに、ヒー
ター９２によって保温される。また、タンク３８には、
マスフローコントローラー４０により混合液１０の圧送
に必要な圧力に調整されたＮ2 が配管５６から供給され
ている。タンク３８内の攪拌された混合液１０は、この
Ｎ2 によって配管６２に送られる。配管６２に供給され
た混合液１０は、液体マスフローコントローラー４４に
より必要量に制御され、気化器５０に送られる。混合液
１０はここで気化され、再び液化しないようにヒーター
９０で保温されながら反応室８０に送られる。
【００１４】さらに、タンク３６に貯蔵されたリンの液
体有機原料であるＴＭＯＰ６とタンク３５に貯蔵された
容量比でその５０から５００倍の有機溶媒としてのエタ
ノール５とは、マスフローコントローラー４３を通して
タンク３９に導入される。タンク３９に導入されたＴＭ
ＯＰ６とエタノール５との混合液１２は、混合液８と同
様にして攪拌子２０によって攪拌混合されるとともに、
ヒーター９２によって保温される。また、タンク３９に
は、マスフローコントローラー４０により混合液１２の
圧送に必要な圧力に調整されたＮ2 が配管５８から供給
されている。タンク３９内の攪拌された混合液１２は、
このＮ2 によって配管６４に送られる。配管６４に供給
された混合液１２は、液体マスフローコントローラー４
４により必要量に制御され、気化器５０に送られる。混
合液１２はここで気化され、再び液化しないようにヒー
ター９０で保温されながら反応室８０に送られる。
体有機原料であるＴＭＯＰ６とタンク３５に貯蔵された
容量比でその５０から５００倍の有機溶媒としてのエタ
ノール５とは、マスフローコントローラー４３を通して
タンク３９に導入される。タンク３９に導入されたＴＭ
ＯＰ６とエタノール５との混合液１２は、混合液８と同
様にして攪拌子２０によって攪拌混合されるとともに、
ヒーター９２によって保温される。また、タンク３９に
は、マスフローコントローラー４０により混合液１２の
圧送に必要な圧力に調整されたＮ2 が配管５８から供給
されている。タンク３９内の攪拌された混合液１２は、
このＮ2 によって配管６４に送られる。配管６４に供給
された混合液１２は、液体マスフローコントローラー４
４により必要量に制御され、気化器５０に送られる。混
合液１２はここで気化され、再び液化しないようにヒー
ター９０で保温されながら反応室８０に送られる。
【００１５】上記のようにして、反応室８０には、ＴＥ
ＯＳ２とエタノール１との混合液８の蒸気、ＴＥＢ４と
エタノール３との混合液１０の蒸気、およびＴＭＯＰ６
とエタノール５との混合液１２の蒸気が送られる。これ
らの蒸気と配管６６から供給されたオゾンと酸素の混合
ガスとを、反応室８０においてヒーター９４で保温しな
がら熱分解反応させることにより、ウェハー８２上にＢ
ＰＳＧ膜を形成させる。
ＯＳ２とエタノール１との混合液８の蒸気、ＴＥＢ４と
エタノール３との混合液１０の蒸気、およびＴＭＯＰ６
とエタノール５との混合液１２の蒸気が送られる。これ
らの蒸気と配管６６から供給されたオゾンと酸素の混合
ガスとを、反応室８０においてヒーター９４で保温しな
がら熱分解反応させることにより、ウェハー８２上にＢ
ＰＳＧ膜を形成させる。
【００１６】この時、液体蒸気原料であるＴＥＯＳ２
と、液体蒸気原料であるＴＥＢ４と、液体蒸気原料であ
るＴＭＯＰ６はそれぞれ、容量比でその５０〜５００倍
の有機溶媒であるエタノール１，３，５と混合され、気
化して反応室８０に送り込まれる混合液の全量は、ＴＥ
ＯＳとエタノールの混合液８が２０（ｇｒ／分）〜１０
００（ｇｒ／分）、ＴＥＢとエタノールの混合液１０が
２．０（ｇｒ／分）〜１００（ｇｒ／分）、ＴＭＯＰと
エタノールの混合液１２が２．０（ｇｒ／分）〜１００
（ｇｒ／分）とされる。その結果、図２に示すように、
液体蒸気原料を連続した流体７として扱うことができ、
液体マスフローコントローラー４４により直接、精密に
流量制御することができる。また、気化器５０には常に
安定した液体蒸気原料が供給されるので、気化器５０は
常に安定した量の原料蒸気１４を反応室８０に供給する
ことができる。
と、液体蒸気原料であるＴＥＢ４と、液体蒸気原料であ
るＴＭＯＰ６はそれぞれ、容量比でその５０〜５００倍
の有機溶媒であるエタノール１，３，５と混合され、気
化して反応室８０に送り込まれる混合液の全量は、ＴＥ
ＯＳとエタノールの混合液８が２０（ｇｒ／分）〜１０
００（ｇｒ／分）、ＴＥＢとエタノールの混合液１０が
２．０（ｇｒ／分）〜１００（ｇｒ／分）、ＴＭＯＰと
エタノールの混合液１２が２．０（ｇｒ／分）〜１００
（ｇｒ／分）とされる。その結果、図２に示すように、
液体蒸気原料を連続した流体７として扱うことができ、
液体マスフローコントローラー４４により直接、精密に
流量制御することができる。また、気化器５０には常に
安定した液体蒸気原料が供給されるので、気化器５０は
常に安定した量の原料蒸気１４を反応室８０に供給する
ことができる。
【００１７】なお、ここでは有機溶媒としてエタノール
を用いたが、メタノールあるいはイソプロピルアルコー
ルなどの他の有機溶媒を使用しても同じ結果が得られ
る。
を用いたが、メタノールあるいはイソプロピルアルコー
ルなどの他の有機溶媒を使用しても同じ結果が得られ
る。
【００１８】
【発明の効果】本発明の液体蒸気原料の供給装置は、液
体蒸気原料を貯蔵する第一のタンクと、有機溶媒を貯蔵
する第二のタンクと、前記第一及び前記第二のタンクに
接続され前記液体蒸気原料と前記有機溶媒の混合液を貯
蔵する第三のタンクと、前記第三のタンクの前記混合液
を攪拌する手段を設けているため、第一のタンクから供
給された極少量の液体蒸気原料と第二のタンクから供給
された多量の有機溶媒とは第三のタンク中で混合され、
液体マスフローコントローラーにより液体蒸気原料を連
続した流体として制御するのに充分な量とされる。この
ため、液体マスフローコントローラーによって精密に流
量制御することができる。さらに第三のタンク中に混合
液を攪拌する手段が設けられていることによって、混合
液の成分比は常に一定となっている。このため、気化器
から反応室に供給される原料蒸気を常に安定かつ精密に
制御することができるので、液体蒸気原料の成分をＳ
ｉ、Ｂ、Ｐとしたときに、これらＳｉとＢとＰからなる
均一性の良い膜を形成することができる。
体蒸気原料を貯蔵する第一のタンクと、有機溶媒を貯蔵
する第二のタンクと、前記第一及び前記第二のタンクに
接続され前記液体蒸気原料と前記有機溶媒の混合液を貯
蔵する第三のタンクと、前記第三のタンクの前記混合液
を攪拌する手段を設けているため、第一のタンクから供
給された極少量の液体蒸気原料と第二のタンクから供給
された多量の有機溶媒とは第三のタンク中で混合され、
液体マスフローコントローラーにより液体蒸気原料を連
続した流体として制御するのに充分な量とされる。この
ため、液体マスフローコントローラーによって精密に流
量制御することができる。さらに第三のタンク中に混合
液を攪拌する手段が設けられていることによって、混合
液の成分比は常に一定となっている。このため、気化器
から反応室に供給される原料蒸気を常に安定かつ精密に
制御することができるので、液体蒸気原料の成分をＳ
ｉ、Ｂ、Ｐとしたときに、これらＳｉとＢとＰからなる
均一性の良い膜を形成することができる。
【図１】本発明の実施例における液体蒸気原料の供給装
置の構成図である。
置の構成図である。
【図２】図１の液体蒸気原料の供給装置の動作説明のた
めの概略図である。
めの概略図である。
【図３】従来の液体蒸気原料の供給装置の構成図であ
る。
る。
【図４】図３の液体蒸気原料の供給装置の動作説明のた
めの概略図である。
めの概略図である。
1,3,5 エタノール 2 ＴＥＯＳ 4 ＴＥＢ 6 ＴＭＯＰ 8 ＴＥＯＳ、エタノール混合液 10 ＴＥＢ、エタノール混合液 12 ＴＭＯＰ、エタノール混合液 20 攪拌子 24 攪拌用モーター 31,33,35 エタノール用タンク 32 ＴＥＯＳ用タンク 34 ＴＥＢ用タンク 36 ＴＭＯＰ用タンク 37 ＴＥＯＳ、エタノール混合液用タンク 38 ＴＥＢ、エタノール混合液用タンク 39 ＴＭＯＰ、エタノール混合液用タンク 44 液体マスフローコントローラー 50 気化器
Claims (1)
- 【請求項１】 液体蒸気原料を貯蔵する第一のタンク
と、有機溶媒を貯蔵する第二のタンクと、前記第一及び
第二のタンクに接続され前記液体蒸気原料と前記有機溶
媒の混合液を貯蔵する第三のタンクと、前記第三のタン
クの前記混合液を攪拌する手段と、前記第三のタンクに
接続されてこの第三のタンクから前記混合液の供給を受
ける液体マスフローコントローラーと、前記液体マスフ
ローコントローラーに接続された気化器とを備えること
を特徴とする液体蒸気原料の供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4159099A JPH062142A (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 液体蒸気原料の供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4159099A JPH062142A (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 液体蒸気原料の供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH062142A true JPH062142A (ja) | 1994-01-11 |
Family
ID=15686219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4159099A Pending JPH062142A (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 液体蒸気原料の供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062142A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0968319A1 (en) * | 1996-11-27 | 2000-01-05 | Advanced Technology Materials, Inc. | Multiple vaporizer reagent supply system for chemical vapor deposition utilizing dissimilar precursor compositions |
| EP1114882A2 (en) * | 1999-12-30 | 2001-07-11 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for depositing an electroless solution |
| US9327456B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-05-03 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Method and apparatus for manufacturing fiber-reinforced base material |
| US10525641B2 (en) | 2003-08-01 | 2020-01-07 | Northrop Grumman Innovation Systems, Inc. | Composite structures, forming apparatuses and related systems and methods |
-
1992
- 1992-06-18 JP JP4159099A patent/JPH062142A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0968319A1 (en) * | 1996-11-27 | 2000-01-05 | Advanced Technology Materials, Inc. | Multiple vaporizer reagent supply system for chemical vapor deposition utilizing dissimilar precursor compositions |
| EP0968319A4 (en) * | 1996-11-27 | 2004-04-21 | Advanced Tech Materials | MULTIPLE EVAPORATOR REPLACEMENT SYSTEM FOR CVD USING UNIFORM PRECURSOR COMPOSITIONS |
| EP1114882A2 (en) * | 1999-12-30 | 2001-07-11 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for depositing an electroless solution |
| EP1114882A3 (en) * | 1999-12-30 | 2002-07-24 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for depositing an electroless solution |
| US10525641B2 (en) | 2003-08-01 | 2020-01-07 | Northrop Grumman Innovation Systems, Inc. | Composite structures, forming apparatuses and related systems and methods |
| US9327456B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-05-03 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Method and apparatus for manufacturing fiber-reinforced base material |
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