JPS6210300A - 銅または銅合金線条体の連続電解エツチング方法 - Google Patents
銅または銅合金線条体の連続電解エツチング方法Info
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- JPS6210300A JPS6210300A JP14897585A JP14897585A JPS6210300A JP S6210300 A JPS6210300 A JP S6210300A JP 14897585 A JP14897585 A JP 14897585A JP 14897585 A JP14897585 A JP 14897585A JP S6210300 A JPS6210300 A JP S6210300A
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- electrolytic
- cells
- copper
- anode
- electrolysis
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は銅または銅合金線条体の連続電解エツチング方
法に関し、さらに詳しくは、端子・コネクター・リード
フレーム等電気・電子部品材料に用いられる銅または銅
合金線条体の製造工程或いは成形加工工程において表面
に付着した油脂、酸化皮膜、異物、疵等を均一、かつ、
効率よく除去することができる銅または銅合金線条体を
カソード・アノードの相互変換を行ないながら連続的に
電解エツチングを行なう方法に関する。
法に関し、さらに詳しくは、端子・コネクター・リード
フレーム等電気・電子部品材料に用いられる銅または銅
合金線条体の製造工程或いは成形加工工程において表面
に付着した油脂、酸化皮膜、異物、疵等を均一、かつ、
効率よく除去することができる銅または銅合金線条体を
カソード・アノードの相互変換を行ないながら連続的に
電解エツチングを行なう方法に関する。
[従来技術]
一般に電気・電子部品等に使用される銅または銅合金線
条体(以下銅合金線条体ということがある。)は、溶解
、鋳造、圧延、押出、抽伸、熱処理等の多くの工程を経
て製造されるが、その過程において表面に油脂類の付着
、異物や酸化物の混入、疵、加工変形層等の表面欠陥が
発生し、次工程でめっきを施すとこれらの欠陥によって
均一にめっきができなかったり、ピンホールを発生した
り、密着不良の原因となる等その影響は非常に大きい。
条体(以下銅合金線条体ということがある。)は、溶解
、鋳造、圧延、押出、抽伸、熱処理等の多くの工程を経
て製造されるが、その過程において表面に油脂類の付着
、異物や酸化物の混入、疵、加工変形層等の表面欠陥が
発生し、次工程でめっきを施すとこれらの欠陥によって
均一にめっきができなかったり、ピンホールを発生した
り、密着不良の原因となる等その影響は非常に大きい。
通常、これらの欠陥を除去する方法としては、スカルピ
ング、シェービング等の切削法、ブラッシング、別布研
磨法等の表面研磨法、硫酸、塩酸、硝酸と過酸化物の混
酸等に浸漬する酸洗法およびアルカリ溶液中に浸漬また
はカソード電解、アノード電解、カソード・アノードの
相互極性変換電解法等の化学的、電気的方法があるが、
切削法や表面研磨法の機械的方法は寸法精度がでない、
表面粗度か大きい、加工変形層を新たに発生する等の理
由から銅合金線条体の最終仕上げ法としては好ましくな
い。
ング、シェービング等の切削法、ブラッシング、別布研
磨法等の表面研磨法、硫酸、塩酸、硝酸と過酸化物の混
酸等に浸漬する酸洗法およびアルカリ溶液中に浸漬また
はカソード電解、アノード電解、カソード・アノードの
相互極性変換電解法等の化学的、電気的方法があるが、
切削法や表面研磨法の機械的方法は寸法精度がでない、
表面粗度か大きい、加工変形層を新たに発生する等の理
由から銅合金線条体の最終仕上げ法としては好ましくな
い。
硫酸、塩酸による酸洗法は、表面に付着した酸化スケー
ルを除去することはできるが、材料自体の溶解能が小さ
いため、異物、酸化物等の押込みや疵を完全に除去する
ことは期待できない。
ルを除去することはできるが、材料自体の溶解能が小さ
いため、異物、酸化物等の押込みや疵を完全に除去する
ことは期待できない。
硫酸と過酸化物の混酸による酸洗法は、材料自体の溶解
能を有しているため表面欠陥を溶解除去することは可能
であるが、過酸化物が不安定であること、溶出した銅合
金の成分によって分解が促進されることがら酸洗液組成
が変動し易く均一な処理面が得られ難い。
能を有しているため表面欠陥を溶解除去することは可能
であるが、過酸化物が不安定であること、溶出した銅合
金の成分によって分解が促進されることがら酸洗液組成
が変動し易く均一な処理面が得られ難い。
アルカリ溶液に浸)責する方法は油脂類等の表面汚染物
の除去には有効であるが、材料自体の溶解能が小さく、
溶解能を上げるために濃度、温度を上昇させると変色を
発生して好ましくない。
の除去には有効であるが、材料自体の溶解能が小さく、
溶解能を上げるために濃度、温度を上昇させると変色を
発生して好ましくない。
苛性アルカリを主成分とする水溶液中で電解洗浄する方
法について、カソード電解法は水素〃ス発生による還元
および離脱作用によって油脂等の表面汚染物の除去には
非常に効果的であるが、材料自体の溶解能がな(、また
、アノード電解法は酸素〃スによる酸化および離脱作用
とアノード電解による材料自体の溶出を伴なうところか
ら高度の清浄表面を要求される場合に多用されているが
、材料表面の不均一さおよび電解条件によっては過度に
エツチングされて表面粗度が大きくなったり、局部溶解
を生じて斑やピッティングを発生する等表面仕上げをコ
ントロールするためには高度な技術管理が要求される。
法について、カソード電解法は水素〃ス発生による還元
および離脱作用によって油脂等の表面汚染物の除去には
非常に効果的であるが、材料自体の溶解能がな(、また
、アノード電解法は酸素〃スによる酸化および離脱作用
とアノード電解による材料自体の溶出を伴なうところか
ら高度の清浄表面を要求される場合に多用されているが
、材料表面の不均一さおよび電解条件によっては過度に
エツチングされて表面粗度が大きくなったり、局部溶解
を生じて斑やピッティングを発生する等表面仕上げをコ
ントロールするためには高度な技術管理が要求される。
カソード・アノード相互極性変換電解法は、カソード電
解法と77−ド電解法の長所を有する最良の方法であり
、いままでの相互極性変換電解法は、苛性アルカリを主
成分とする電解液に被処理物と対極とを設置し、両者の
間に周期的に極性が変換する特殊な電源を用して電解を
行なっているが、同一電解液中におけるカソード・アノ
ード電解を繰り返すために溶出した銅イオンが水酸化物
或いは水和酸化物として析出し易く、これらが液中に浮
遊してアノード溶解を妨害したり、不均一に溶解させる
ので、電解液中に沈澱を形成させないような錯化合剤の
添加が必要であった。また、極性変換電源は高価であり
、がっ、大型電源の製造が困難なため実質的には狭幅の
条や線材、成形加工後の小物の洗浄に適用されているに
過ぎず、さらに、極性変換電源を使用する場合、被処理
物への給電は給電ロール等による直接給電方式が必須で
あり、そのためロールとの接触面に疵が発生し易いとい
う問題があった。
解法と77−ド電解法の長所を有する最良の方法であり
、いままでの相互極性変換電解法は、苛性アルカリを主
成分とする電解液に被処理物と対極とを設置し、両者の
間に周期的に極性が変換する特殊な電源を用して電解を
行なっているが、同一電解液中におけるカソード・アノ
ード電解を繰り返すために溶出した銅イオンが水酸化物
或いは水和酸化物として析出し易く、これらが液中に浮
遊してアノード溶解を妨害したり、不均一に溶解させる
ので、電解液中に沈澱を形成させないような錯化合剤の
添加が必要であった。また、極性変換電源は高価であり
、がっ、大型電源の製造が困難なため実質的には狭幅の
条や線材、成形加工後の小物の洗浄に適用されているに
過ぎず、さらに、極性変換電源を使用する場合、被処理
物への給電は給電ロール等による直接給電方式が必須で
あり、そのためロールとの接触面に疵が発生し易いとい
う問題があった。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明は上記に説明した種々の銅合金線条体の機械的・
化学的なエンチングにおける問題点、特に、最も優れた
エツチングとされているカソード・アノード相互極性変
換電解法における銅合金線条体の連続電解エツチングの
問題点に鑑み、本発明者が鋭意研究を行なった結果、 ■)特殊な電源を使用することなく相互極性変換を行な
うことができること。
化学的なエンチングにおける問題点、特に、最も優れた
エツチングとされているカソード・アノード相互極性変
換電解法における銅合金線条体の連続電解エツチングの
問題点に鑑み、本発明者が鋭意研究を行なった結果、 ■)特殊な電源を使用することなく相互極性変換を行な
うことができること。
2)錯化剤等の沈澱防止剤を添加する必要のない簡単な
溶液組成の電解液を使用できること。
溶液組成の電解液を使用できること。
3)材料表面を疵付けることがない無接触給電が行なえ
ること。
ること。
等の諸条件を満足させることができ、さらに、製造工程
中に付着した汚染物や加工変形層を簡単、均一に除去す
ることができる銅または銅合金線条体の連続電解エツチ
ング方法を開発したのである。
中に付着した汚染物や加工変形層を簡単、均一に除去す
ることができる銅または銅合金線条体の連続電解エツチ
ング方法を開発したのである。
F問題点を解決するための手段]
本発明に係る銅または銅合金線条体の連続電解エツチン
グ方法の特徴とするところは、10〜300g/lの苛
性アルカリを含む電解液を循環供給できる電解槽を4個
以上連続配置し、かつ、奇数番目の被処理物を陰極とす
るカソード電解槽に循環供給する電解液と偶数番目の被
処理物を陽極とするアノード電解槽に循環供給する電解
液を別々とし、そして、アノード電解槽に循環供給する
電解液のCuイオン濃度を5〜200ppI11とし、
1回のアノード電解槽への通電量を5〜100coul
omb/dm2とし、さらに、被処理物のカソード電解
・アノード電解を2回以上繰り返すことにある。
グ方法の特徴とするところは、10〜300g/lの苛
性アルカリを含む電解液を循環供給できる電解槽を4個
以上連続配置し、かつ、奇数番目の被処理物を陰極とす
るカソード電解槽に循環供給する電解液と偶数番目の被
処理物を陽極とするアノード電解槽に循環供給する電解
液を別々とし、そして、アノード電解槽に循環供給する
電解液のCuイオン濃度を5〜200ppI11とし、
1回のアノード電解槽への通電量を5〜100coul
omb/dm2とし、さらに、被処理物のカソード電解
・アノード電解を2回以上繰り返すことにある。
本発明に係る銅または銅合金線条体の連続電解エツチン
グ方法は、特殊電源を使用することなく相互極性変換電
解を行なうことができ、また、カソード電解液とアノー
ド電解液とが混合されることがなく、電解液の汚染が防
止でき、結果として、処理後の仕上り表面にエツチング
斑のない美麗な表面を得ることができる。
グ方法は、特殊電源を使用することなく相互極性変換電
解を行なうことができ、また、カソード電解液とアノー
ド電解液とが混合されることがなく、電解液の汚染が防
止でき、結果として、処理後の仕上り表面にエツチング
斑のない美麗な表面を得ることができる。
本発明に係る銅または銅合金線条体の電解エツチング方
法について以下図面に示す例を参照して詳細に説明する
。
法について以下図面に示す例を参照して詳細に説明する
。
第1図は、本発明に係る銅または銅合金線条体の電解エ
ツチング方法(以下単に本発明に係る方法ということが
ある。)に使用する装置の概略図であり、カソード電解
槽、アノード電解槽が2個あってカソード電解、アノー
ド電解を2回ずつ繰り返す場合を示している。
ツチング方法(以下単に本発明に係る方法ということが
ある。)に使用する装置の概略図であり、カソード電解
槽、アノード電解槽が2個あってカソード電解、アノー
ド電解を2回ずつ繰り返す場合を示している。
即ち、第1電解槽1、第2電解槽2、第3電解槽3、第
4電解槽4を連続して直列に配置腰電解槽1および3内
には直流電源7の陽極に接続されている電極5および6
が設けられており、電解槽2お上り4内には直流電源7
の陰極に接続されている電極8および9が設けられてお
り、さらに、第1、第2、第3および第4の各電解槽1
.2.3および4には底部に電解液供給バイブ10.1
1.12および13が取付けられ、電解槽1および3は
ポンプ14、フィルター15を介して貯液タンク16に
接続され、電解槽1および3の上部には戻りバイブ17
.18が取付けられて貯液タンク16と接続されており
、貯液タンク16の電解液19がポンプ14により電解
槽1および3に循環供給されるようになっている。
4電解槽4を連続して直列に配置腰電解槽1および3内
には直流電源7の陽極に接続されている電極5および6
が設けられており、電解槽2お上り4内には直流電源7
の陰極に接続されている電極8および9が設けられてお
り、さらに、第1、第2、第3および第4の各電解槽1
.2.3および4には底部に電解液供給バイブ10.1
1.12および13が取付けられ、電解槽1および3は
ポンプ14、フィルター15を介して貯液タンク16に
接続され、電解槽1および3の上部には戻りバイブ17
.18が取付けられて貯液タンク16と接続されており
、貯液タンク16の電解液19がポンプ14により電解
槽1および3に循環供給されるようになっている。
同様に、電解槽2および4はポンプ20、フィルター2
1を介して貯液タンク22に接続され、電解槽2および
4の上部には戻りバイブ23.24が取付けられて貯液
タンク22と接続されており、この貯液タンク22の電
解液25がポンプ20により電解槽2および4に循環供
給されるようになっている。
1を介して貯液タンク22に接続され、電解槽2および
4の上部には戻りバイブ23.24が取付けられて貯液
タンク22と接続されており、この貯液タンク22の電
解液25がポンプ20により電解槽2および4に循環供
給されるようになっている。
被処理材の銅合金線条体26は電解槽1.2.3および
4内を連続的に通過し、各電解槽を通過する時に各電解
槽内に設置されている電極5.8.6および9の対極と
なり、銅合金線条体26が電解槽1を通過する時にはカ
ッ−に、電解槽2を通過する時にはアノード、電解槽3
を通過する時にはカソード、電解槽4を通過する時には
アノードと順次相互に極性が変換されて無接触で給電さ
れる。
4内を連続的に通過し、各電解槽を通過する時に各電解
槽内に設置されている電極5.8.6および9の対極と
なり、銅合金線条体26が電解槽1を通過する時にはカ
ッ−に、電解槽2を通過する時にはアノード、電解槽3
を通過する時にはカソード、電解槽4を通過する時には
アノードと順次相互に極性が変換されて無接触で給電さ
れる。
なお、図において被処理物は床面に対して水平に通過し
ているが、垂直に通過させてもよく、通過方式はどのよ
うなものでもよい。
ているが、垂直に通過させてもよく、通過方式はどのよ
うなものでもよい。
また、被処理材の銅合金線条体26は無酸素銅、脱酸銅
等の純銅、Zn、 Sn、 Ni、 Co、 Fe、
Si、Be、AI、Ti、Zr、P等を適宜に含有して
イル銅合金等であり、特に、AIやBeを含有する難溶
解性スケールを生成する銅合金の連続電解エツチングに
適している。
等の純銅、Zn、 Sn、 Ni、 Co、 Fe、
Si、Be、AI、Ti、Zr、P等を適宜に含有して
イル銅合金等であり、特に、AIやBeを含有する難溶
解性スケールを生成する銅合金の連続電解エツチングに
適している。
電解液19.22はNaOH%KOHのような苛性アル
カリの単独または混合溶液を使用でき、沈澱防止の錯化
剤の添加は必要ない。
カリの単独または混合溶液を使用でき、沈澱防止の錯化
剤の添加は必要ない。
苛性アルカリの濃度は10〜300FI/Iとするのが
よく、純銅、合金成分含有量の少ない銅合金は低濃度液
、Be、AI等を含有する難溶解スケールを発生する銅
合金、加工工程で形成された表面の疵、スケール、加工
変形層が厚い場合には高濃度液を使用するのがよいが、
10g/1未満では溶解量が少ないためスケールや疵、
異物の除去が不充分であり、また、300g/Iを越え
る濃度では効果が変らず飽和してしまい不経済である。
よく、純銅、合金成分含有量の少ない銅合金は低濃度液
、Be、AI等を含有する難溶解スケールを発生する銅
合金、加工工程で形成された表面の疵、スケール、加工
変形層が厚い場合には高濃度液を使用するのがよいが、
10g/1未満では溶解量が少ないためスケールや疵、
異物の除去が不充分であり、また、300g/Iを越え
る濃度では効果が変らず飽和してしまい不経済である。
また、カソード電解槽とアノード電解槽の夫々の電解液
は、苛性アルカリの成分、濃度は同一でも異なっていて
もどちらでもよいが、各電解槽1.2.3および4の間
における水洗が省略でき、かつ、多少電解液が混合して
も影響が少ないことがら同一成分、同一濃度とするのが
よい。
は、苛性アルカリの成分、濃度は同一でも異なっていて
もどちらでもよいが、各電解槽1.2.3および4の間
における水洗が省略でき、かつ、多少電解液が混合して
も影響が少ないことがら同一成分、同一濃度とするのが
よい。
処理される銅合金線条体26は、第1電解槽1ではカソ
ードとして作用するので被処理物の表面から多量の水素
が発生し、これに伴なってスケールの還元、汚染物の離
脱、分解により被処理物表面の清浄化が進む。
ードとして作用するので被処理物の表面から多量の水素
が発生し、これに伴なってスケールの還元、汚染物の離
脱、分解により被処理物表面の清浄化が進む。
次いで、第2電解槽2では銅合金線条体26はアノード
として作用するので表面層は溶解し、表面疵やスケール
、加工変形層、埋込まれた異物等が除去され、エツチン
グにより溶出したCuイオンが対極8に析出されるので
、銅板を対極8として定期的に交換するが、研磨ステン
レス鋼板を使用して析出した銅を物理的に脱落させ、電
解液の循環経路内に設置したフィルター21により除去
することによって電解液中のCuイオン濃度が維持され
、安定したエツチングが可能となる。
として作用するので表面層は溶解し、表面疵やスケール
、加工変形層、埋込まれた異物等が除去され、エツチン
グにより溶出したCuイオンが対極8に析出されるので
、銅板を対極8として定期的に交換するが、研磨ステン
レス鋼板を使用して析出した銅を物理的に脱落させ、電
解液の循環経路内に設置したフィルター21により除去
することによって電解液中のCuイオン濃度が維持され
、安定したエツチングが可能となる。
このアノード電解槽中の電解液のCuイオン濃度はSO
〜200ppmとするのがよく、50ppm未満ではエ
ツチング力が強いため表面が粗化され易く・また・ 2
00 ppmを越える濃度では工・ンチングカの低下に
より局部エツチングを生じ易く、表面が均一に仕上らな
くなる。
〜200ppmとするのがよく、50ppm未満ではエ
ツチング力が強いため表面が粗化され易く・また・ 2
00 ppmを越える濃度では工・ンチングカの低下に
より局部エツチングを生じ易く、表面が均一に仕上らな
くなる。
また、7メード電解槽におけるエツチング量は、電解液
濃度、Cuイオン濃度および通電量によって決定される
が、被処理物の表面は平滑ではなく、スケールの組成、
厚みの不均一、加工工程中に発生する疵、異物の押込み
、加工変形層の不均一等が常に存在しており、このよう
な状態においてアノード溶解が進行すると時間の経過と
共に、これらの不均一が助長され、さらに、7ノ一ド反
応生成物、例えば、スマット、アノード酸化物が生成さ
れて一層不均一が増大する。
濃度、Cuイオン濃度および通電量によって決定される
が、被処理物の表面は平滑ではなく、スケールの組成、
厚みの不均一、加工工程中に発生する疵、異物の押込み
、加工変形層の不均一等が常に存在しており、このよう
な状態においてアノード溶解が進行すると時間の経過と
共に、これらの不均一が助長され、さらに、7ノ一ド反
応生成物、例えば、スマット、アノード酸化物が生成さ
れて一層不均一が増大する。
このような各種の不均一という問題を解決するために、
1回のアノード電解における通−電量を5−100 c
oulo+nb/ c1m2とし、カソード電解・7メ
ード電解を2回以上繰返すのであり、通電量が5cou
lomb/di2未満ではアノード電解量が不充分であ
り、100coulomb/dm2を越えると局部溶解
が発生して均一なエツチング面が得られなくなる。
1回のアノード電解における通−電量を5−100 c
oulo+nb/ c1m2とし、カソード電解・7メ
ード電解を2回以上繰返すのであり、通電量が5cou
lomb/di2未満ではアノード電解量が不充分であ
り、100coulomb/dm2を越えると局部溶解
が発生して均一なエツチング面が得られなくなる。
そして、第2図に、燐脱酸銅を使用し、KO3150g
/lの電解液で浴温50″Cで工7チングを行なった時
のアノード電解における通電量とエツチング量との関係
を示してあり、この第2図からも明らかなように、通電
量は5〜1. OOcoloum b/dm2の範囲が
適しでいることがわかる。 また、カソード電解・アノ
ード電解が2回未満では、即ち、1回ではカン−に電解
の清浄化、7メード電解のエツチング効果が不充分であ
り、例えば、後工程におけるメッキ等の表面処理におい
て斑を発生するようになる。
/lの電解液で浴温50″Cで工7チングを行なった時
のアノード電解における通電量とエツチング量との関係
を示してあり、この第2図からも明らかなように、通電
量は5〜1. OOcoloum b/dm2の範囲が
適しでいることがわかる。 また、カソード電解・アノ
ード電解が2回未満では、即ち、1回ではカン−に電解
の清浄化、7メード電解のエツチング効果が不充分であ
り、例えば、後工程におけるメッキ等の表面処理におい
て斑を発生するようになる。
[実施例1
本発明に係る銅または銅合金線条体の連続電解エツチン
グ方法の実施例を説明する。
グ方法の実施例を説明する。
実施例
0O21000ppを含有するN2雰囲気において、4
00℃の温度に2時間の加熱を行なった板厚0.25m
m、板幅100關の燐脱酸銅および78.5wL%Cu
−3u+L%Al−1wt%Ni−残部Znの銅合金材
を夫々ラインスピード3va/分で、第1図に示す電解
装置に導入し、電解液温度50℃、カソード電解液と7
)−ド電解液は同一組成で、第1表に示す本発明に係る
方法の範囲内の条件(No、1〜No、13)および本
発明に係る方法外の条件(No。
00℃の温度に2時間の加熱を行なった板厚0.25m
m、板幅100關の燐脱酸銅および78.5wL%Cu
−3u+L%Al−1wt%Ni−残部Znの銅合金材
を夫々ラインスピード3va/分で、第1図に示す電解
装置に導入し、電解液温度50℃、カソード電解液と7
)−ド電解液は同一組成で、第1表に示す本発明に係る
方法の範囲内の条件(No、1〜No、13)および本
発明に係る方法外の条件(No。
14〜No、23)で電解エツチング処理を行ない、次
いで、水洗、酸洗、水洗を行なった後、Niメッキ槽に
導入した。
いで、水洗、酸洗、水洗を行なった後、Niメッキ槽に
導入した。
メッキ条件
Niメッキ浴
N15O,・6H20250g/1
NiCl・55H2O45/I
H3B0. 30g/l市
販光沢剤 Sml/l浴温
45℃ 電流密度 4A/dm2 メッキ厚 1μの光沢メツキ メツキ後水洗、乾燥して試片を作製した。
販光沢剤 Sml/l浴温
45℃ 電流密度 4A/dm2 メッキ厚 1μの光沢メツキ メツキ後水洗、乾燥して試片を作製した。
Agメッキは、Niメンキと同様に電解エツチング後水
洗、酸洗、水洗を行なった後、Agメッキ槽に導入した
。
洗、酸洗、水洗を行なった後、Agメッキ槽に導入した
。
メッキ条件
Agメッキ浴
KAg(CN)2 150g/1K
CN 100g/1K
2C0,16g/l 市販光沢剤 1ml/1浴温
25°C 電流密度 1 、5 A/dm2メッキ厚
3μの半光沢メッキメンキ後水洗、乾燥後試
片を作製した。
CN 100g/1K
2C0,16g/l 市販光沢剤 1ml/1浴温
25°C 電流密度 1 、5 A/dm2メッキ厚
3μの半光沢メッキメンキ後水洗、乾燥後試
片を作製した。
これらの試片について、Niメッキした試片は肉眼で斑
の発生状態を観察し、Agメッキした試片は熱風循環炉
で450°Cの温度に加熱後5分間保持してから空冷し
、7フレ発生の有無を40倍の実体顕微鏡により観察し
た。
の発生状態を観察し、Agメッキした試片は熱風循環炉
で450°Cの温度に加熱後5分間保持してから空冷し
、7フレ発生の有無を40倍の実体顕微鏡により観察し
た。
比較例として、上記と同一の銅合金を長さ100mmに
切断後、Na0I−150g/1.Na2CO370g
/l、Na、Si0.2g/l、EDTA ・2 Na
1g/lの電解液において、カソード・アノード極性
変換電源を使用し、浴温50゛C1電流密度4A/dm
2、カソード・アノードの極性変換の1回の電解時間各
1秒で15回繰り返し電解後、実施例と同じ条件で光1
fiNiメッキ、半光NAgメッキを行ない同様な評価
を行なった(No、 24、No、25)。
切断後、Na0I−150g/1.Na2CO370g
/l、Na、Si0.2g/l、EDTA ・2 Na
1g/lの電解液において、カソード・アノード極性
変換電源を使用し、浴温50゛C1電流密度4A/dm
2、カソード・アノードの極性変換の1回の電解時間各
1秒で15回繰り返し電解後、実施例と同じ条件で光1
fiNiメッキ、半光NAgメッキを行ない同様な評価
を行なった(No、 24、No、25)。
これらの結果を第1表に示す。
この第1表に示すように、本発明に係る方法によるNo
、 1−No、 13においては比較例No、24、N
o、25に示す錯化剤を添加した複雑な電解液により特
殊な極性変換電源を用いてエツチングした場合と同等の
メッキ性能が得られているが、本発明に係る方法外の条
件のNo、14〜No、23ではNiメッキに斑が発生
したり、Agメッキの耐熱密着性が悪く、フクレを発生
するという問題が生じた。
、 1−No、 13においては比較例No、24、N
o、25に示す錯化剤を添加した複雑な電解液により特
殊な極性変換電源を用いてエツチングした場合と同等の
メッキ性能が得られているが、本発明に係る方法外の条
件のNo、14〜No、23ではNiメッキに斑が発生
したり、Agメッキの耐熱密着性が悪く、フクレを発生
するという問題が生じた。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明に係る銅または銅合金線条
体の連続電解エツチング方法は上記の構成を有している
から、特殊な電源を必要とせず、複雑な電解液を使用す
ることなく、被処理物に無接触で給電を行ないながら相
互極性変換による連続電解エツチングが可能となり、被
処理材の表面を疵付けることなく均一、かつ、迅速にエ
ツチングができ、また、通電量の調節によってエツチン
グ量を変更することができるので、被処理材の表面状態
に応じてエツチング条件を設定することができるという
工業的に優れた効果を有する。
体の連続電解エツチング方法は上記の構成を有している
から、特殊な電源を必要とせず、複雑な電解液を使用す
ることなく、被処理物に無接触で給電を行ないながら相
互極性変換による連続電解エツチングが可能となり、被
処理材の表面を疵付けることなく均一、かつ、迅速にエ
ツチングができ、また、通電量の調節によってエツチン
グ量を変更することができるので、被処理材の表面状態
に応じてエツチング条件を設定することができるという
工業的に優れた効果を有する。
第1図は本発明に係る銅または銅合金線条体の連続電解
エツチング方法を実施するための装置の概略図、第2図
は通電量とエツチング量との関係を示す図である。 1.2.3.4・・電解槽、5.6.8.9・・対極、
7・・直流電源、10.11.12.13・・電解液供
給パイプ、14.20・・ポンプ、15.21・・フィ
ルター、 16.22・・貯液タンク、17.18.
23.24・・戻りバイブ、19.25・・電解液。 ?2図
エツチング方法を実施するための装置の概略図、第2図
は通電量とエツチング量との関係を示す図である。 1.2.3.4・・電解槽、5.6.8.9・・対極、
7・・直流電源、10.11.12.13・・電解液供
給パイプ、14.20・・ポンプ、15.21・・フィ
ルター、 16.22・・貯液タンク、17.18.
23.24・・戻りバイブ、19.25・・電解液。 ?2図
Claims (1)
- 10〜300g/lの苛性アルカリを含む電解液を循環
供給できる電解槽を4個以上連続配置し、かつ、奇数番
目の被処理物を陰極とするカソード電解槽に循環供給す
る電解液と偶数番目の被処理物を陽極とするアノード電
解槽に循環供給する電解液を別々とし、そして、アノー
ド電解槽に循環供給する電解液のCuイオン濃度を5〜
200ppmとし、1回のアノード電解槽への通電量を
5〜100coulomb/dm^2とし、さらに、被
処理物のカソード電解・アノード電解を2回以上繰り返
すことを特徴とする銅または銅合金線条体の連続電解エ
ッチング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14897585A JPS6210300A (ja) | 1985-07-06 | 1985-07-06 | 銅または銅合金線条体の連続電解エツチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14897585A JPS6210300A (ja) | 1985-07-06 | 1985-07-06 | 銅または銅合金線条体の連続電解エツチング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6210300A true JPS6210300A (ja) | 1987-01-19 |
Family
ID=15464864
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14897585A Pending JPS6210300A (ja) | 1985-07-06 | 1985-07-06 | 銅または銅合金線条体の連続電解エツチング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6210300A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04354900A (ja) * | 1991-05-29 | 1992-12-09 | Ebara Yuujiraito Kk | 銅または銅合金からなる材料の電解エッチング液 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51123740A (en) * | 1975-04-23 | 1976-10-28 | Toppan Printing Co Ltd | Electrolytic etching process |
JPS55122899A (en) * | 1979-03-12 | 1980-09-20 | Fujikura Ltd | Degreasing method by high speed contactless electrolysis |
-
1985
- 1985-07-06 JP JP14897585A patent/JPS6210300A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51123740A (en) * | 1975-04-23 | 1976-10-28 | Toppan Printing Co Ltd | Electrolytic etching process |
JPS55122899A (en) * | 1979-03-12 | 1980-09-20 | Fujikura Ltd | Degreasing method by high speed contactless electrolysis |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04354900A (ja) * | 1991-05-29 | 1992-12-09 | Ebara Yuujiraito Kk | 銅または銅合金からなる材料の電解エッチング液 |
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