JPS62101860U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS62101860U JPS62101860U JP19145985U JP19145985U JPS62101860U JP S62101860 U JPS62101860 U JP S62101860U JP 19145985 U JP19145985 U JP 19145985U JP 19145985 U JP19145985 U JP 19145985U JP S62101860 U JPS62101860 U JP S62101860U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wall
- reaction gas
- reactive ion
- ion plating
- evaporated substance
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 1
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図はこの考案の一実施例を説明するための
概略構成図である。 １……ベルジヤー、２……ルツボ、３……電子
銃、４……放電電極、５……基板（非処理物）、
６……シヤツター、７……壁、８……ノズル（導
入部）。
概略構成図である。 １……ベルジヤー、２……ルツボ、３……電子
銃、４……放電電極、５……基板（非処理物）、
６……シヤツター、７……壁、８……ノズル（導
入部）。
Claims (1)
- ベルジヤー内の蒸発物質と反応ガスをイオン化
して、非処理物の表面に付着させる反応型イオン
プレーテイング装置において、蒸発物質の蒸発部
の周囲を壁によつて囲み、この壁に、当該壁の内
に反応ガスを導入する導入部を設けたことを特徴
とする反応型イオンプレーテイング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19145985U JPS62101860U (ja) | 1985-12-12 | 1985-12-12 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19145985U JPS62101860U (ja) | 1985-12-12 | 1985-12-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62101860U true JPS62101860U (ja) | 1987-06-29 |
Family
ID=31145622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19145985U Pending JPS62101860U (ja) | 1985-12-12 | 1985-12-12 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62101860U (ja) |
-
1985
- 1985-12-12 JP JP19145985U patent/JPS62101860U/ja active Pending
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