JPS6130069U - 被膜形成装置 - Google Patents

被膜形成装置

Info

Publication number
JPS6130069U
JPS6130069U JP11274584U JP11274584U JPS6130069U JP S6130069 U JPS6130069 U JP S6130069U JP 11274584 U JP11274584 U JP 11274584U JP 11274584 U JP11274584 U JP 11274584U JP S6130069 U JPS6130069 U JP S6130069U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion plating
film forming
evaporation source
forming device
sputtering
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11274584U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0121974Y2 (ja
Inventor
松雄 岸
Original Assignee
セイコーインスツルメンツ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by セイコーインスツルメンツ株式会社 filed Critical セイコーインスツルメンツ株式会社
Priority to JP11274584U priority Critical patent/JPS6130069U/ja
Publication of JPS6130069U publication Critical patent/JPS6130069U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0121974Y2 publication Critical patent/JPH0121974Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案にかかる被膜形成装置の断面図であり、
第２図は従来のイオンプレーテイングとスパッタリング
併用装置の断面図である。 １・・・真空槽、２・・・排気系、３・・・イオンプレ
ーテイング蒸発源、４・・・イオン化電極、５・・・ガ
ス導入系、６・・・スパッタリングターゲット、７・・
・スパッタリング用電源、８・・・自公転治具、９・・
椅オンプレーテイング機構、１０・・・スパッタリング
機構。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 自公転もしくは公転治具の公転軌道内側にイオンプレー
    テイング蒸発源を有するイオンプレーテイング装置にお
    いて、前記イオンプレーテイング蒸発源より下方向に位
    置し、かつ前記イオンプレーテイング蒸発源からの蒸発
    方向とスパツタリ冫グ方向を異にするスパッタリング機
    構を有するこ、とを特徴とする被膜形成装置。
JP11274584U 1984-07-25 1984-07-25 被膜形成装置 Granted JPS6130069U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11274584U JPS6130069U (ja) 1984-07-25 1984-07-25 被膜形成装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11274584U JPS6130069U (ja) 1984-07-25 1984-07-25 被膜形成装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6130069U true JPS6130069U (ja) 1986-02-22
JPH0121974Y2 JPH0121974Y2 (ja) 1989-06-29

Family

ID=30671782

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11274584U Granted JPS6130069U (ja) 1984-07-25 1984-07-25 被膜形成装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6130069U (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0121974Y2 (ja) 1989-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6130069U (ja) 被膜形成装置
JPS5877043U (ja) プラズマ処理装置
JPS59107473U (ja) イオンビ−ム照射装置
JPS58101458U (ja) 質量分析装置
JPS6013740U (ja) 試料保持装置
JPS59103756U (ja) 高周波プラズマ励起用電極
JPS59133663U (ja) 電子ビ−ム蒸着装置
JPS58125353U (ja) 負イオン検出装置
JPS58120645U (ja) 真空処理装置
JPS6215566U (ja)
JPS5926859U (ja) 質量分析装置のイオン源装置
JPS62157968U (ja)
JPS6097766U (ja) スパツタ装置
JPS60143770U (ja) 電子衝撃型蒸着装置
JPS6059998U (ja) 放射性ガスの固定化処分装置
JPS5826733U (ja) 金属薄膜磁気記録媒体の製造装置
JPS6097765U (ja) 真空蒸着用蒸発装置
JPS6011062U (ja) ガスクロマトグラフ・質量分析装置
JPS5980467U (ja) 蒸着装置
JPS6120561U (ja) 真空成膜装置
JPS59144561U (ja) ガスクロマトグラフ質量分析装置
JPS62138313U (ja)
JPS6143262U (ja) スパツタ装置用タ−ゲツト
JPS5995158U (ja) 真空蒸着装置
JPS59103267U (ja) ガスクロマトグラフ質量分析装置