JPS6199599A - 接合方法及びその材料 - Google Patents

接合方法及びその材料

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JPS6199599A
JPS6199599A JP21996784A JP21996784A JPS6199599A JP S6199599 A JPS6199599 A JP S6199599A JP 21996784 A JP21996784 A JP 21996784A JP 21996784 A JP21996784 A JP 21996784A JP S6199599 A JPS6199599 A JP S6199599A
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JP21996784A
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Inventor
Isao Okutomi
功 奥富
Sadao Sugiyama
杉山 貞夫
Hidekazu Aoki
青木 英一
Masanori Ishimatsu
石松 正規
Masanao Tanaka
田中 政直
Takeshiro Sakida
崎田 猛城
Hideki Tamaya
玉谷 英樹
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Toshiba Corp
Ishifuku Metal Industry Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Corp
Ishifuku Metal Industry Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/30Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 1550 degrees C
    • B23K35/3006Ag as the principal constituent

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、接合方法及びその材料に関する。
し発明の技術的背景とその問題点] 一般に、?!!数の部品を接合するのに用いる接合材料
としては、優れた加工性と高い接合強度を持つことが要
求される。また近年では、接合時の省エネルギー或いは
被接合物が受ける熱ストレスの軽減化、炉の汚染の軽減
化の観点から、低い作真温度、即ち、低い溶a温度を有
することも併せて要求されてぎている。
さて、従来から、使用する雰囲気を問わず安定して適用
できる接合材料としては、銀〈以下、八〇と称する)に
、W4(以下cuと称する)を28重Ωパーセント(以
下、wt%と称する)添加したA!ll−Cu共晶合金
(J I S、 BAa−8)が主に用いられている。
しかし乍ら、上記A g−Cu共晶合金は、その溶融温
度が779°Cと高いため、実際の接合作業温度は80
0℃を越える高温を選択しなければならず、被接合物に
よっては熱ストレスに耐えられないケースが多々発生し
ている。そして、この接合布94度を750℃以下とす
るためには、接合合金の溶融温度は更に数十℃低い73
0℃以下、好ましくは700℃以下である必要がある。
そこで、かかる接合材料の低溶触点化の技術の(一つと
しては、例えばJIS現格のBAr+−2(3596△
g−26%Cu−21%Zn−18%C11,液相温度
約700℃)が知られている。
しかし乍ら、上記接合材を斗は、低溶融1度化には有効
であるが、亜鉛、ガトミウム(」ス下、央々Zn、cd
と称する)等の高蒸気圧元素を含有するため、接合炉内
壁の汚染、被接合物の汚染、人体への影響も指摘されて
いる。
また、接合材料の低溶融点化を図るその他の技術として
は、人体へのCdの影響をなくするためにインジウム、
錫(以下、夫々)n、Snと称する)を活用する方法が
知られている。
例えば、特開昭50−74551号公報(八〇−45〜
60. Cu −15〜25. Zn−19〜29.5
n−0,5〜4.In−0.5〜5)特開昭51−62
164号公報(AD−25〜37、Cu −35〜72
.P (リン)=1〜7、またはこれにIn−1〜7.
Zn−1〜27の1種又は2種)、 特開昭51−117148号公報(Alll−18〜4
8.Cu −15〜40.Zn−20〜35゜5n−0
,5〜7またはこれにIn−0,5〜7゜Mn(vンガ
ン)−0,15〜2.Li  (リチウム)−0,15
〜5の少なくとも2種)、特開昭51−128664号
公1 (A+1 =30〜50.Cu−10〜25.Z
n−10〜25゜0(+−15〜30にin、Sn、G
a  (ガリウム)。
Ge  (ゲルマニウム)の1?lのときには1〜12
%、2陣のときには1〜15%)等が知られている。
しかし乍ら、これらの接合材料は、In、Snは低い蒸
気圧特性を有するものの、いずれもZn等高蒸気圧元素
を含有する点において上記接合材料BAQ−2と同ff
iの欠点がある。
ざらに、接合材11の低溶融点化を図るその他の技tF
iとしては、A(lとCLIとをベースとし、SnとI
nとを共同添加したA(J−Cu−8n−I n 4元
素が、接合材料として特開昭51−13214号、特公
昭44−11009号にて開示されている。
すなわち、まず前者はAg−70〜47wt%。
Cu −25〜4 Qwt%、5n−2〜5wt%、 
 In−3〜7wt%からなり、雰囲気ガス中または真
空中での接合が可能で、加工性良好な恨ロウ合金である
ことを主旨としている。
しかし乍ら、この合金組成の範囲で1よ、低溶融点化に
対して最も期待できる可能性の高い3n−5wt%、I
n −7wt%の合金においてさえ接合作業温度が75
0℃以上となり、成る程度の接合強度は得られるものの
被接合物への熱ストレスが著しくなる等、実質的に好ま
しい接合結果を得ることが困難であるばかりでなく、S
ロー6wt%。
In−7wt%より多い3n、inでは同公報でも述べ
ているように加工性が低下するという欠点を有している
一方、後者はA9とCu共晶合金に3n+1n=30〜
60wt%、 Sn −15〜30wt%、1n−15
〜30Vlt%でかつSn 、/In −1,・1かう
なり、Ag−Cd0系接点合金に対する。5れ性を改善
するためにS n−I n合金を従来の共晶接合合金に
添加することを主旨としている。
しかし乍ら、この接合材料では、濡れ性の劣るCdOに
対して3 n、 ] nを大きに使用しているので、合
金を線材や薄板状に加工するのが非常に困難であるとい
う欠点を有している。
[発明の目的1 本発明は上記に基づいてなされたもので、その目的は、
適度に低い接合作業温度の採用が可能で、且つ加工性の
優れた材料として経済的でしかも被接合物へ与える熱ス
トレスの少ない接合方法及びその材料を提供することに
ある。
[発明の慨要1 上記目的を達成するために本発明の接合材料は3n、l
nの少なくとも1種を含有し、且つA(lとCIJとの
比率が略Ap−Cu系の共晶組成よりなるA+1−Cu
%3n又は/及びIn系合金ヲ16礎組成とし、0.0
3〜1wt%のボロンを含有してなるものとし、接合方
法は、750℃より高い接合作業温度で接合する第1の
接合箇所と、500〜750℃の接合作業温度で接合す
る第2の接合r    箇所とを、上記接合材料を用い
て順次ロウ接合することを特勺とする。
[発明の実施例] 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
まず、実施例の説明に先立ち、本発明の)〒用される条
件について説明する。即ち、上述した目的を達成させる
ためには、八〇とC1とを基調とし低い蒸気圧特性を有
する元素を活用することが(q策と考えられる。
接合作業は、大気中或いは雰囲気ガス中で行なわれる以
外に真空中で行なう場合もある。特に真空中で行なう場
合には、前述したように高蒸気圧成分の蒸発による炉、
被接合物等への汚染が著しいので、通常、接合作業が行
なわれる750°C〜800℃での蒸気圧は、蒸発抑制
の1q点から1×10’Torrよりも低いことが必要
であると考えられる。
そして、800℃でI X 10” TOrrより低い
蒸気圧を有する元素としては、In  (6X104T
orr )、 Sn  (6X10’−’ Torr 
)カ好マしい元素として夫々挙げられる。これに対して
、接合材料として通常多用されているZnは、2X10
” 2Torr 、 (:dは1Xio+3’rot”
rであり好ましくない。
そこで、Ag−Cu合金の液相温度を下げることができ
、且つ低い蒸気圧性を有するin、3nの使用が有(り
と考えられる。
この低い蒸気圧性を有する接合材料は、例えば、接合を
要する多数の部品で構成される構造体、電子部品等で許
される空隙が極く微小な精密部品、或いは復雑な(a造
を有する被接合体等において、その内部の各部品、接合
部分が夫々確実に接合されているか否かを確認する必要
があるときには、各部品、接合部分夫々を段階的に接合
する接合方法を探ることが好ましい。
上述した諸要求を満足するには、低い蒸気圧性、低い溶
融点、及びある程度の加工性を有する新たな接合材料が
必要とされる。
通當知られているA g−Cu−8n系接合材料、及び
7へo−Cu−1nn接接材料に関する実験によれば、
これらは3n、inの低い蒸気圧特性によって周辺への
汚染は防止される材料であるが、一方、接合雰囲気条件
によってロウ材の流動性不良を起こしやすい傾向を有し
、そのため電子部品等精密箇所の接合において、局部的
に被接合物の表面に1れていないところが観察され、ま
た気密性を要するところへの適用のときには気密性不良
を示す用合も認められた。
これらの現象を示した接合箇所をm m 鏡的に眼察す
ると、数μm又は数100μm程度の大きさの空孔の存
在が認められる場合が多く、且つこの場合の素材自身に
は、ガスが多く含有される傾向にあることが判った。
このような接合後の接合層中の空孔の特に精密筒所の接
合部での発生は、接合部の接合強さの相持、或いは気密
性の確保などの点で、逢力「lthする必要がある。
また、空孔の大きさもAg−Cuの初晶に相当している
ことから、接合材1ミ1自体の相憚の微性化が必要であ
る。
上述したように接合層中における空孔の存在は、接合部
の接合信頼性のn9点から好ましいものではない。また
その発生原因は、接合条件の選定等の接合技術、或いは
接合合金の溶解時のガスの吸収等か関係していることは
明らかであるが、これ以外にも3u、inの多p添加に
よる加工性の低下に起因する加工時にロウ材内に発生す
るミクロ的亀裂部に付着・吸蔵するガス、或いは水分も
原因として加えられる。このことは、S n、 I n
を多9に含何する接合合金自体の加工性の向上の必要性
を示唆している。
前述した条件を4Mだすためには、最も重要である所定
溶融温度を確保した上で、接合材料自体の710工性が
bれていること、接合層には空孔の残存がないことが、
良好な接合結果を得るのに重要と言える。
本発明では、上記の如くの観点に基づきA C+−CL
l−1n系合金又は/及び3n系合金の長所を利用すべ
く 、 Ag−Cu−1n系合金又は/及び5n−s系
合金を種々検討し、低融点性、加工性の(点において工
業的@i値の高い新規な接合合金を開光した。
第1図及び第2図は夫々本発明に係る接合材料を用いて
2個の部品を接合する例を断面図にて示したものである
。第1間及び第2図において、予しめ、8部品7は、第
1の接合筒所4にて接合材料5によりへ部品6の側面に
Oつ接接合されている。そして最後に、へ部品6は、第
2の接合箇所2にて接合材料3により本体基部1にOつ
接接合されている。
この場合、750〜500°Cの接合作業温度で接合す
る第2の接合箇所2を接合するとき、750℃より高い
接合作業温度で接合する第1の接合箇所4の接合部の8
部品7が落下、或い(ま外れのないように1の接合箇所
4に使う接合材料5の溶融点は、第2の接合箇所2に用
いる接合材u3の溶融点よりも高くする必要がある。即
ち、少なくとも50〜100℃の温度差のあることが好
ましい。
一方、本体基部1とへ部品6との間隙8が慴造上十分に
とれない構成では、第2の接合局所2に用いる接合材料
3の蒸気圧が高いときB部品7の表面に接合材料3が蒸
着する場合がある。
特に、?′l!密部品の接合の場合には、接合材料を微
細にかつ複雑な形状に打抜くため、嵌れた加工性か要求
さ1すると共に、接合部の接合信頼性を確保するために
接合部内の残存空孔、及び接合材料自身のガス含有Qな
どは(モカ少なく調整することが1要である。
さて、上述したような接合条件に適用する特に第2の接
合筒所2を接合する接合材料3を選択する目安として、
別表に示した液相温度、接合作業の好ましい温度、接合
部の強さ、接合内の空孔、接合材料のガス伊及び接合材
料の加工性を挙げて、A Q−CLl−1n系合金又は
7・′及び5n−B系合金の評価を行った。
上記評価に使用したへ〇−Cu−In系合金、へo−C
u−8n系合金、A g−CII−I n−B系合金、
へり−Cll−8II−B系合金、A Q−Cu−I 
n−8n−B系合金の製造の慨要を示す。
即ち、上記表に示した各組成を有する夫々の試料を秤吊
し、約850〜900℃の耐火るつぼ中で真空溶解した
後鋳造し、直径20m、長さ200順の素材を得る。
つぎに、この素材を450〜700 ℃で熱間鍛造した
後に、冷間圧延、熱間圧延と熱処理を組合せながら、8
柊的に厚さ85μm2幅50mの薄板を製作する。
そして、この時の表面亀裂の程度等加工性について評価
したところ、上記表のように、B(ボロン)を含有しな
い比較例−1、比較例−3、比較例−5、及びB(ホロ
ン)を0.015%含有した比較1!’!1−2の4例
の場合は、亀裂発生などによって加工作業(鍛造又は圧
延)が困難であった。
そのためこの4神の材料については、塊状の材料を評1
ilix材として使用し、その他のものについては厚さ
85μm1幅50amの薄板まで圧31 u、直径2.
4mの円板を打抜き、第2の接合箇所2に使用する接合
材料とした。
尚、第1の接合箇所に使用する接合材料は通常の共晶銀
ロウを使用した。
次に第1図において、予じめ72%へq−cumロウ(
溶融点779℃)を用いて820℃で8部品7をへ部品
6に接合した後、このへ部品6と本体基部1とを第2の
接合箇所2で接合した場合、夫々の接合材料の評1iI
i拮渠についてを述べる。
即ち、各接合材料の接合作業温度は、上記表に好ましい
温度として併記した。接合結果を上記表に示すように、
inを約20%含有したAg−Cり合金(比較例−1)
では、薄板状への8:延加工は全く不可能であり、例え
ば、°電子部品の接合のように極りy!!密な接合を行
うようなときのロウ材としては不便である。
一方、B(ボロン)を、0.015%含有させたA!1
l−Cu−In合金(比較例−2)でも、はぼ同じ状況
で、温度的には有利であるものの薄板への加工が困テ霞
である。特にM密な打抜きを要するときには亀裂のみな
らず破断を呈し、且つ加工時のミク[1的亀裂部へのガ
スの吸着などの不都合を示す。
このガスの吸着は、素材自体に内蔵されるガスと共に接
合時の加熱工程中及び溶融時に放出され被接合部分近傍
を汚染しく主として醒化)、その拮累、接合界面同士の
濡れ性を低下させたり、接合部内に空孔を残存させて、
接合強さの低下を招いたり、真空気密部に使用したとき
には真空リークを招く場合がある。特に電子部品など微
細部分での接合には、わずかな鑑れていない部分の発生
、或いは空孔の発生は、極力避ける必要がある。
ここで述べた現象は、/’1−C1−In  (比較例
1゜2)のみならずAg−Cu−3n  (比較例−3
)、Aり−Cu−In−8n  (比較例−5)でも認
められて(いる・ これに対して、B(ボロン)を0.03%含有したへq
−Cu−In  (実施例−1) 、A!J−Cu−8
n(実施例−4)などでは、上記欠点が大幅に改良され
ている。B(ボロン)を最低限0.0396含有するこ
とによって引張り強さも少なくとも25に9以上を維持
でき、更に上記表に示すように、接合部内の残存空孔も
大幅に少なくなり且つ亀裂なく薄板への加工が可能であ
るばかりでなく素材中のガス含有量も著しく減少してい
る。
以上よりB(ボロン)伊は0.03%で前記効果を発揮
するが、8(ボロン)!lは更に多い0.3%近傍(実
施例−2,実施例−5,実施例−6)でも、又1%近傍
(実施例−3)でも同じ効果を維持する。
この場合、B(ボロン)が1%以上になると溶融点への
影響も無視できなくなると共に、溶解時の8の添加技術
も高度化を要求されるなど得策でない。従って本発明に
おける上記特性改善の為には、B(ボロン)は1%で充
分でおることからその範囲は0.03〜1%に限定され
る。
一方、Sn又は/及びInのりが、10%未消では、液
相温度が700℃を確保することが出来ず、本発明の主
旨から不適当であり、又、25?6以上ではB(ボロン
)を添加しても精密部品用として必要な加工性を確保す
ることが出来ないため10〜25%の3n又は/及び)
nを含有したA (1−Cu合金に対してB(ボロン)
を含有させるものとする。
、  次に上記接合材料の製造について述べる。即ち、
実施例−6の場合、カーボン坩堝に462gの八〇を収
納し、真空巾約1100℃で溶解後、これにCu及びC
u−2%B母合金をcut!iが2909となるよう添
加し、更に809のIn、2419の3nを同時に添加
し、A (+−CIt−8n−I n−8インゴツトを
得た。
そして、次に表面の皮むき及び焼鈍後、約1%程度の加
工度で所定の厚さまで温間又は冷間圧延を行う。
ボロン源としては、上記実施例−6で示したC1−8n
合金以外でも金属ボロンをAg又はCuの箔に包み、こ
れを、Ag−Cu溶渇中に投入し攪拌しても同じ効果で
ある。
上述したように、本実施例の接合材料は、3n又は/及
びIOの少なくとも1種を10〜25wt%含有するA
 IJ−Cu合金のA(lとCuが略々共晶比率にある
合金に対して、B(ボロン)を0.03〜1wt%含有
するようにした接合材料であって、被接合部など他の部
品面を汚染することなく経済的でかつ信頼性に優れた工
業的1iIli値の高い材料を得ることができるもので
ある。
尚、本発明の接合材料を使用して前述した接合を行なう
場合には、大気中、雰囲気ガス中、真空中で接合作業を
行なうことが可能であるが、特に第1の接合筒所を雰囲
気ガス(水素等)中、第2の接合箇所を真空中で行なう
か、若しくは第1および第2の接合箇所とも真空中で1
1なった場合が特に有効的である。またこの場合、真空
中で行なうとぎには10’ Torr以上の高真空で(
テなうことが好ましい。
[発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、接合材料としてSn
、Inの少なくとも−1と、A(lとCuとの比率が略
A (1−Cu系の共晶組成よりなる基礎組成と、0.
03〜1wt%のボロンとからなり、この接合材料を用
いて750℃より高い接合作業温度で接合する第1の接
合箇所と、500〜750℃の接合作業温度で接合する
第2の接合箇所とを順次ロウ接合するようにしたので、
適宜に低い接合作業温度の採用が可能で且つ加工性の優
れた材料として経済的でしかも被加工物へ与える熱スト
レスの少ない接合方法及びその材料が提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は夫々本発明の実施例の接合材料を用
いて2調の部品を接合する実施例を示す断面図である。 1・・・本体基部、2・・・第2の接合箇所、3,5・
・・接合材料、4・・・第1の接合箇所、6,7・・・
A、8部品、8・・・間隙。 出顎人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1 図 第2図

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Sn、Inの少なくとも一種と、AgとCuとの
    比率が略Ag−Cu系の共晶組成よりなる基礎組成と、
    0.03〜1wt%のボロンとからなることを特徴とす
    る接合材料。
  2. (2)Sn、Inの少なくとも一種の量が10〜25w
    t%であり、且つ上記基礎組成の液相温度が略700〜
    500℃であることを特徴とする特許請求の範囲第(1
    )項記載の接合材料。
  3. (3)ボロンは、金属ボロン、Cu−B合金、ホウ化物
    のいずれか一種であることを特徴とする特許請求の範囲
    第(1)項記載の接合材料。
  4. (4)Sn、Inの少なくとも一種と、AgとCuとの
    比率が略Ag−Cu系の共晶組成よりなる基礎組成と、
    0.03〜1wt%のボロンとからなる接合材料を用い
    、750℃より高い接合作業温度で接合する第1の接合
    同所と、500〜750℃の接合作業温度で接合する第
    2の接合箇所とを順次ロウ接合することを特徴とする接
    合方法。
  5. (5)第1の接合箇所を雰囲気ガス中、且つ第2の接合
    箇所を真空中にて接合することを特徴とする特許請求の
    範囲第(4)項記載の接合方法。
  6. (6)第1の接合箇所及び第2の接合箇所を、真空中に
    て接合することを特徴とする特許請求の範囲第(4)項
    記載の接合方法。
  7. (7)真空中での接合は、10^−^4Torr以上の
    高真空で行なうことを特徴とする特許請求の範囲第(5
    )又は第(6)項記載の接合方法。
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JP2013018041A (ja) * 2011-07-13 2013-01-31 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Bi系はんだ合金の製造方法

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