JPS6195519A - 電子線描画装置の試料移動台 - Google Patents
電子線描画装置の試料移動台Info
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- JPS6195519A JPS6195519A JP21621884A JP21621884A JPS6195519A JP S6195519 A JPS6195519 A JP S6195519A JP 21621884 A JP21621884 A JP 21621884A JP 21621884 A JP21621884 A JP 21621884A JP S6195519 A JPS6195519 A JP S6195519A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本装置は電子線描画装置に係り、特に描画試料の恒温化
に好適な試料移動台に関する。
に好適な試料移動台に関する。
マスクプレートの精度は０．１μｍ以下という高精度が
要求されている。精度悪化の大きな要因の一つとして描
画試料の温度変化があり、この温度変化は±ｏ、ｏｓｔ
：’以下の絶対温度変化が要求されている。従来の描画
試料は第１図に示すような構成により恒温化を実施して
いる。すなわち、描画試料１は試料台（Ｘテーブル２、
Ｙテーブル３、ベース４）上に位置しておシ、試料台（
２，３゜４）、試料台を駆動する軸５、および信号を検
出するリード線６により直接又は間接の伝導熱、試料台
をつつむ試料室７、電子線を照射する成子レンズ８から
の輻射熱によって、温度変化が与えられている。この熱
を吸収するために、試料室外壁に冷却管９を設は描画試
料を恒温化している。
要求されている。精度悪化の大きな要因の一つとして描
画試料の温度変化があり、この温度変化は±ｏ、ｏｓｔ
：’以下の絶対温度変化が要求されている。従来の描画
試料は第１図に示すような構成により恒温化を実施して
いる。すなわち、描画試料１は試料台（Ｘテーブル２、
Ｙテーブル３、ベース４）上に位置しておシ、試料台（
２，３゜４）、試料台を駆動する軸５、および信号を検
出するリード線６により直接又は間接の伝導熱、試料台
をつつむ試料室７、電子線を照射する成子レンズ８から
の輻射熱によって、温度変化が与えられている。この熱
を吸収するために、試料室外壁に冷却管９を設は描画試
料を恒温化している。
上述した恒温方式では、恒温化する領域が多いため、熱
貫性が大きく、周囲の温度変化が描画試料に影響し、前
述した如く描画試料を±ｏ、ｏｓｔ：’以内Ω温度変化
を得ることが難しい。
貫性が大きく、周囲の温度変化が描画試料に影響し、前
述した如く描画試料を±ｏ、ｏｓｔ：’以内Ω温度変化
を得ることが難しい。
本発明の目的は描画試料に流入する熱を極力押え、この
少なくなった流入熱のみをコントロールすることＫより
、熱買性を小さくして、描画試料の温度変化を少なくし
た試料移動台を提供することＫある。
少なくなった流入熱のみをコントロールすることＫより
、熱買性を小さくして、描画試料の温度変化を少なくし
た試料移動台を提供することＫある。
以下、本発明の一実施例を第２図によシ説明する。第２
図は試料移動台部の断面で基本構成は第１図と同一であ
る。
図は試料移動台部の断面で基本構成は第１図と同一であ
る。
駆動軸５部は軸の途中に２ケ所断面積を小さくしたくび
れ部１０を設け、又ベース４部は蛇管９をつけた４ケの
支柱１１を設けることにより試料室７壁からの熱伝導面
積を小さくしである。ベース４には蛇管９を巻き温度コ
ントロールを行なう。
れ部１０を設け、又ベース４部は蛇管９をつけた４ケの
支柱１１を設けることにより試料室７壁からの熱伝導面
積を小さくしである。ベース４には蛇管９を巻き温度コ
ントロールを行なう。
ベース４に一台として描画試料１、Ｘテーブル２、Ｙテ
ーブル３及び駆動軸５をかこむように蛇管９を取付は温
度コントロール機能を持つ支切板１２を設けである。信
号ケーブル６はベース部の蛇管近傍に接触固定後描画試
料部等へ接続しである。
ーブル３及び駆動軸５をかこむように蛇管９を取付は温
度コントロール機能を持つ支切板１２を設けである。信
号ケーブル６はベース部の蛇管近傍に接触固定後描画試
料部等へ接続しである。
描画試料は上述したように、試料室壁からの伝導熱は駆
動軸５のくびれ部、支柱１１、ベース部で吸熱される信
号ケーブルによって、制限される。
動軸５のくびれ部、支柱１１、ベース部で吸熱される信
号ケーブルによって、制限される。
また試料室壁、電子レンズ８からの輻射熱は、支切板に
よって制限される。さらに各部に設けた蛇管に温度コン
トロールされた空気を送ることＫよシ流入熱を吸収する
。ここでは空気を用いているが、水、油等熱交換可能な
ものであれば同様な機能を持つと共に防錆剤、防腐剤等
の処理された物質であれば信頼性が向上する。
よって制限される。さらに各部に設けた蛇管に温度コン
トロールされた空気を送ることＫよシ流入熱を吸収する
。ここでは空気を用いているが、水、油等熱交換可能な
ものであれば同様な機能を持つと共に防錆剤、防腐剤等
の処理された物質であれば信頼性が向上する。
支切板１２は内部の真空排効率を向上するため適度な迷
路構造となっている。
路構造となっている。
上述した構成において蛇管に通す気体の温度は描画試料
所望の温度±００５Ｃ程度の温度差で十分に描画試料を
±０．０５ＣＫコントロールできる。
所望の温度±００５Ｃ程度の温度差で十分に描画試料を
±０．０５ＣＫコントロールできる。
又試料室外の温度変化が±２Ｃ以内において十分に効果
を発揮する。
を発揮する。
なお支切板は描画試料をつつみ込む構成であるから材質
にパーマロイを用いており磁気シールドの効果もある。
にパーマロイを用いており磁気シールドの効果もある。
以上詳述したように本発明によれば、描画試料に加わる
伝導、輻射熱を絶縁後、温度コントロールを行なうため
、コントロール熱容量を約１／１０にできるため熱貫性
が小さくなり、±ｏ、ｏｓｔ：’以内の温度変化に描画
試料を保持することができる。
伝導、輻射熱を絶縁後、温度コントロールを行なうため
、コントロール熱容量を約１／１０にできるため熱貫性
が小さくなり、±ｏ、ｏｓｔ：’以内の温度変化に描画
試料を保持することができる。
温度コントロール熱容量の減小に伴なう経済的効果、さ
らに熱交換効率の悪い気体コントロールも可能となシ信
頼性の向上に与える効果も大きい。
らに熱交換効率の悪い気体コントロールも可能となシ信
頼性の向上に与える効果も大きい。
第１図は電子線描画装置の従来の試料移動台部の断面図
、第２図は本発明の試料移動台部の断面図を示す。 工・・・描画試料、２・・・Ｘテーブル、３・・・Ｙテ
ーブル、４・・・べ−７，５・・・駆動軸、６・・・リ
ード線、７・・・試翳１図 キ２図
、第２図は本発明の試料移動台部の断面図を示す。 工・・・描画試料、２・・・Ｘテーブル、３・・・Ｙテ
ーブル、４・・・べ−７，５・・・駆動軸、６・・・リ
ード線、７・・・試翳１図 キ２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、描画試料及びその保持機構、試料を移動するための
ＸＹテーブルと駆動機構、電子線を照射するための電子
レンズ及び前記各構成部材を保持しかつ真空容器として
の試料室を少なくとも備えた電子線描画装置において、
ＸＹテーブルに対して伝導熱を与える接続部材及び輻射
熱を与える空間部に熱絶縁部を設けたことを特徴とする
電子線描画装置の試料移動台。 ２、特許請求の範囲第１項において、熱絶縁部材が試料
部分の磁気シールドを兼用したことを特徴とする電子線
描画装置の試料移動台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21621884A JPS6195519A (ja) | 1984-10-17 | 1984-10-17 | 電子線描画装置の試料移動台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21621884A JPS6195519A (ja) | 1984-10-17 | 1984-10-17 | 電子線描画装置の試料移動台 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6195519A true JPS6195519A (ja) | 1986-05-14 |
Family
ID=16685124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21621884A Pending JPS6195519A (ja) | 1984-10-17 | 1984-10-17 | 電子線描画装置の試料移動台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6195519A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8962122B2 (en) | 2007-08-24 | 2015-02-24 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Sealing material |
-
1984
- 1984-10-17 JP JP21621884A patent/JPS6195519A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8962122B2 (en) | 2007-08-24 | 2015-02-24 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Sealing material |
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