JPS6190857U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6190857U JPS6190857U JP17596484U JP17596484U JPS6190857U JP S6190857 U JPS6190857 U JP S6190857U JP 17596484 U JP17596484 U JP 17596484U JP 17596484 U JP17596484 U JP 17596484U JP S6190857 U JPS6190857 U JP S6190857U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- workpiece
- plasma
- processing apparatus
- gas exhaust
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図および第２図はそれぞれ本考案の一実施
例を示したもので、第１図は概略構成図、第２図
は被処理物部分の斜視図である。 １…真空容器、２…被処理物、３…載置台、４
…ガス導入管、５…ガス排出管、６…ガス導入口
、７…ガス排出口、８…エアシリンダ、９…プラ
ズマ発生装置、１０…仕切弁、１１…ニードル弁
、１２…大流量管、１３…真空排気管、１４…真
空排気装置。
例を示したもので、第１図は概略構成図、第２図
は被処理物部分の斜視図である。 １…真空容器、２…被処理物、３…載置台、４
…ガス導入管、５…ガス排出管、６…ガス導入口
、７…ガス排出口、８…エアシリンダ、９…プラ
ズマ発生装置、１０…仕切弁、１１…ニードル弁
、１２…大流量管、１３…真空排気管、１４…真
空排気装置。
Claims (1)
- 真空容器内に固定された被処理物をガスプラズ
マにより地表面処理するプラズマ処理装置におい
て、上記被処理物の上面近傍に、上記被処理物の
長手方向に沿つて延びるスリツト状のガス導入口
を有するガス導入管を設けるとともに、上記被処
理物の下面側近傍に上記ガス導入口に対向するガ
ス排出口を有するガス排出管を設け、上記ガス導
入口から上記ガス排出口に流れるプラズマガス流
に直交する方向に上記被処理物を往復動させる駆
動装置を設けたことを特徴とするプラズマ処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17596484U JPS6190857U (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17596484U JPS6190857U (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6190857U true JPS6190857U (ja) | 1986-06-12 |
Family
ID=30733564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17596484U Pending JPS6190857U (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6190857U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000043568A1 (fr) * | 1999-01-22 | 2000-07-27 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Appareil de depot chimique en phase vapeur a plasma par micro-ondes |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP17596484U patent/JPS6190857U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000043568A1 (fr) * | 1999-01-22 | 2000-07-27 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Appareil de depot chimique en phase vapeur a plasma par micro-ondes |