JPS618913A - Housing box - Google Patents

Housing box

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Publication number
JPS618913A
JPS618913A JP12932684A JP12932684A JPS618913A JP S618913 A JPS618913 A JP S618913A JP 12932684 A JP12932684 A JP 12932684A JP 12932684 A JP12932684 A JP 12932684A JP S618913 A JPS618913 A JP S618913A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
storage box
main body
box
opening
corners
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12932684A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiiku Sano
佐野 喜育
Tsugio Tanigawa
谷川 二男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP12932684A priority Critical patent/JPS618913A/en
Publication of JPS618913A publication Critical patent/JPS618913A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To keep the inside of a housing box always clean by providing an opening at four corners of the box to exhaust a foreign matter in the box through the opening by its own weight or by an air current. CONSTITUTION:A housing box consists of a rectangular parallelepiped main body 2 the top of which is opened and a lid 3 which covers the opening of the main body 2 and is freely fixed or removed. The bottom 6 of the main body 2 is provided with many holes 7 and the four corners of the bottom 6 are cut to make an opening 8. These holes 7 and openings 8 are used for exhausting foreign matters entered into the box 1 or generated within the box 1. A cartridge 4 is housed in the main body 2. For example, 25 wafers 5 are housed in the cartridge 4 stood in parallel and these wafers 5 are always kept clean.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は物品を収容する収容箱、特に常に清浄な状態を
維持する必要のある物品を収容するに適した収容箱に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a storage box for storing articles, and particularly to a storage box suitable for storing articles that need to be kept in a clean state at all times.

〔背景技術〕[Background technology]

半導体製品の集積度向上によって、回路パターンは一層
微細化が図られている。そして、ICパターンの最小線
幅は3μm、2μmを経て1μm以下になろうとしてい
る。このような状況下における半導体製造プロセスにお
いて、より微細なパターンを正確に形成することおよび
歩留り(プローブ歩留り)を向上させるためには、ウェ
ハの塵埃による汚染低減化を図ることが重要であること
が、たとえば、日立評論、 Vol、65.Nα7 (
1983) 。
As the degree of integration of semiconductor products increases, circuit patterns are becoming increasingly finer. The minimum line width of an IC pattern is about to become 1 μm or less after passing through 3 μm and 2 μm. In semiconductor manufacturing processes under these circumstances, it is important to reduce contamination from wafer dust in order to accurately form finer patterns and improve yield (probe yield). For example, Hitachi Hyoron, Vol. 65. Nα7 (
1983).

23〜28頁における八木等による″半導体製造用クリ
ーンシステム″′と題する文献において論じら□れてい
る。
It is discussed in the article entitled "Clean System for Semiconductor Manufacturing" by Yagi et al. on pages 23-28.

ウェハは、一般的には、カートリッジに25枚等複数収
容されており、その移送等にあっては、カートリッジ毎
収容箱に入れられて取り扱われる。
Generally, a plurality of wafers, such as 25 wafers, are stored in a cartridge, and when transporting the wafers, each cartridge is handled by being placed in a storage box.

収容箱の例としては、たとえば、Sem1co!1du
ctor11orld 、別冊、 Buyers Gu
ide & Directory、 1983年10月
20日発行における353頁に紹介されている“キャリ
ア搬送ケース″が知られている。
As an example of the storage box, for example, Sem1co! 1du
ctor11orld, separate volume, Buyers Gu
A "carrier transport case" introduced on page 353 of ide & Directory, October 20, 1983 issue is known.

ところで、本出願人にあっては、カートリッジを搬送す
る収容箱として、たとえば、第1図に示されるような構
造のものを使用している。この収容箱1は、上方が開口
した直方体状の本体2と、この本体2の開口部分を被う
着脱自在の蓋3と、からなっていて、本体2内にカート
リッジ4を収容するようになっている。前記カートリッ
ジ4には、たとえば、25枚のウェハ5が林立状態で並
列に収容されている。
By the way, the present applicant uses, for example, a storage box with a structure as shown in FIG. 1 as a storage box for transporting cartridges. This storage box 1 consists of a rectangular parallelepiped-shaped main body 2 that is open at the top, and a removable lid 3 that covers the opening of the main body 2, and is adapted to accommodate a cartridge 4 inside the main body 2. ing. For example, 25 wafers 5 are housed in the cartridge 4 in a row in parallel.

しかし、このような収容箱1は密閉構造であることから
、下記のような現象が生じ、塵埃を嫌う半導体製造プロ
セスで使用する収容箱としては、必ずしも適当とは言え
ないことが本発明者によって明らかとされた。
However, since such a storage box 1 has a sealed structure, the following phenomenon occurs, and the inventors have found that it is not necessarily suitable as a storage box for use in semiconductor manufacturing processes where dust is averse. It was made clear.

すなわち、収容箱1は密閉構造であることから、内部に
異物が混入したり、あるいは保管、運搬等における振動
等によってウェハ5とカートリッジ4との接触部分で発
塵したりすると、これらの異物がウェハ5に付着し、歩
留りが低下する可能性がある。
That is, since the storage box 1 has a sealed structure, if foreign matter gets inside or dust is generated at the contact area between the wafer 5 and the cartridge 4 due to vibrations during storage, transportation, etc., these foreign matter may It may adhere to the wafer 5 and reduce the yield.

また、前述のように、収容箱lは常に清浄にしておく必
要があることから、定期的に洗浄する必要がある。しか
し、収容箱1の本体2は、直方体状の箱型構造となって
いるため、隅部、特に四隅l       は洗い難く
、異物の完全なる除去はし難い。
Furthermore, as described above, the storage box l needs to be kept clean at all times, so it needs to be cleaned regularly. However, since the main body 2 of the storage box 1 has a box-like structure in the form of a rectangular parallelepiped, it is difficult to wash the corners, especially the four corners 1, and it is difficult to completely remove foreign substances.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は被収容物が汚染され難い構造の収容箱を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a storage box with a structure that prevents objects to be contaminated.

本発明の他の目的は内部が常に自動的に清浄化され易い
構造の収容箱を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a storage box whose interior is easily cleaned automatically at all times.

本発明の他の目的は洗浄によって内部が清浄化され易い
構造の収容箱を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a storage box whose interior is easily cleaned by washing.

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特沈は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel special precipitation of the present invention are as follows:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、本発明の収容箱は、被収容物を収容する収容
箱本体の四隅部分を開口させ、収容箱内の異物がこれら
の開口部を通して、自重あるいは気流によって外部に排
出されるようにして、常に収容箱の内部が清浄に保たれ
るようになっているとともに、本体の四隅が開口状態と
なっているこ      1とから収容箱の洗浄におい
て従来面倒であった四隅の洗浄がないことによって清浄
に洗浄できることとなり、常に収容箱を清浄に維持でき
、被収容物の汚染防止効果が向上する。
That is, in the storage box of the present invention, the four corners of the main body of the storage box for storing objects are opened, and the foreign objects inside the storage box are discharged to the outside by their own weight or airflow through these openings. The inside of the storage box is kept clean at all times, and the four corners of the main body are open. As a result, the storage box can be kept clean at all times, and the effect of preventing contamination of stored objects is improved.

〔実施例〕〔Example〕

第2図は本発明の一実施例による収容箱を示す斜視図、
第3図は同じく収容箱を裏返しにした状態を示す斜視図
、第4図は同じくダウンフロー構造のクリーンルームに
おける収容箱を示す模式図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a storage box according to an embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a perspective view showing the storage box turned upside down, and FIG. 4 is a schematic diagram showing the storage box in a clean room with a downflow structure.

本実施例による収容箱は第2図および第3図に示される
ように、上方が開口した直方体状の本体2と、この本体
2の開口部分を被う着脱自在の蓋3と、からなっている
。この収容箱1はたとえば、ポリプロピレン、ポリエチ
レン等のプラスチックによって形成されている。また、
本体2の底6には、第3図に示されるように、多数の孔
(開口部)7が設けられているとともに、底6の四隅は
切り欠かれて開口部8となっている。こられの孔(開口
部)7および開口部8は収容箱1内に混入した異物およ
び収容箱1内で発生した異物を排出する排出孔となる。
As shown in FIGS. 2 and 3, the storage box according to this embodiment consists of a rectangular parallelepiped-shaped main body 2 with an open top, and a removable lid 3 that covers the opening of the main body 2. There is. The storage box 1 is made of plastic such as polypropylene or polyethylene. Also,
As shown in FIG. 3, the bottom 6 of the main body 2 is provided with a large number of holes (openings) 7, and the four corners of the bottom 6 are cut out to form openings 8. These holes (openings) 7 and openings 8 serve as discharge holes for discharging foreign matter mixed into the storage box 1 and foreign matter generated within the storage box 1.

本体2内にカートリッジ4を収容するようになっている
A cartridge 4 is housed within the main body 2.

このように収容箱1には、第2図に示されるように、ウ
エノ)5を収容するカートリッジ4が収容される。この
カートリッジ4には、たとえば、25枚のウェハ5が林
立状態で並列に収容されている。
As shown in FIG. 2, the storage box 1 accommodates the cartridge 4 that accommodates Ueno 5. For example, 25 wafers 5 are housed in the cartridge 4 in a row in parallel.

そして、このウェハ5は常時清浄に保たれる必要がある
This wafer 5 needs to be kept clean at all times.

このように収容箱lは、たとえば、第4図に示されるよ
うに、半導体装置の製造作業現場で取り扱われる。同図
は作業室全体を無塵化(クリーン化)した状態の模式図
である。この作業室9は。
In this way, the storage box 1 is handled at a semiconductor device manufacturing work site, for example, as shown in FIG. This figure is a schematic diagram of the entire working room in a dust-free (cleaned) state. This work room 9.

ダウンフローによる無塵を図っていることがら、通路1
0の上方および通路10の両側に配設された半導体製造
装置11の上方には、それぞれ高性能フィルタ(HEP
A)12が配設されている。
Passage 1 is designed to be dust-free due to downflow.
0 and above the semiconductor manufacturing equipment 11 disposed on both sides of the passage 10, high performance filters (HEP
A) 12 are arranged.

これら高性能フィルタ(HEPA)12にはサプライダ
クト13から清浄な空気(エアー)14が供給される。
Clean air (air) 14 is supplied to these high performance filters (HEPA) 12 from a supply duct 13.

また、通路10等の露出する床15は網目構造となって
いる。床15の下はリーンダクト16となり、図示しな
い排気系によって強制排気されている。さらに、収容箱
1等を載置するテーブル17や機器側部18には、各所
にエアースルー用の孔19が設けられている。
Furthermore, the exposed floor 15 of the passage 10 and the like has a mesh structure. Beneath the floor 15 is a lean duct 16, which is forcibly exhausted by an exhaust system (not shown). Furthermore, air through holes 19 are provided at various locations on the table 17 on which the storage box 1 and the like are placed and on the device side portion 18.

したがって、この作業室9は、サプライダクト13から
送り込まれる清浄なエアー14が、天井の高性能フィル
タ(HEPA)12から常時降り注がれるとともに、網
目状の床15からはリターンダクト16を介して強制的
に排気処理が成される結果、作業室9内は清浄に維持さ
れる。すなわち、作業室9内に異物20が運び込まれる
と、異物20は天井から床15に向かって流れる空気流
によって速やかにリターンダクト16を介して作業室9
の外に排気される。そこで、このような作業室9で本発
明による収容箱1が取り扱われると、収容箱1の底には
多数の開口部7,8が設けられていることから、前記空
気流および自重によって、      収容箱↓内0異
物201D部7・8′!′NG吸パ出され、作業室9内
を流れる空気流に運ばれて作業室9外に排出される。特
に、収容箱1の底の隔部分は一般的に異物20等の塵埃
が溜まり易いが、この実施例の収容箱1は、底の四隅は
切り欠かれて開口されているため、四隅には塵埃は溜ま
り難く、かつダウンフロー構造の作業室9では収容箱1
の内部の清浄化は常に維持される。
Therefore, in this work room 9, clean air 14 sent from a supply duct 13 is constantly poured down from a high-performance filter (HEPA) 12 on the ceiling, and from a mesh-like floor 15 via a return duct 16. As a result of the forced exhaust treatment, the interior of the work chamber 9 is maintained clean. That is, when the foreign object 20 is brought into the work room 9, the foreign object 20 is quickly transported to the work room 9 via the return duct 16 by the airflow flowing from the ceiling toward the floor 15.
Exhausted outside. Therefore, when the storage box 1 according to the present invention is handled in such a work room 9, since the bottom of the storage box 1 is provided with a large number of openings 7 and 8, the storage box 1 is handled by the air flow and its own weight. 0 foreign objects in box ↓ 201D section 7/8'! 'NG is sucked out, carried by the air flow flowing inside the working chamber 9, and discharged outside the working chamber 9. In particular, dust such as foreign matter 20 is likely to accumulate in the partitions at the bottom of the storage box 1, but in the storage box 1 of this embodiment, the four corners of the bottom are cut out and opened. In the work chamber 9, which has a down-flow structure and is difficult to collect dust, the storage box 1
Internal cleanliness is maintained at all times.

この収容箱1は、前述のように、最も汚れ易い底の四隅
が開口されているため、収容箱1内が奇麗であるととも
に、洗浄した場合も早く奇麗になり易い特徴がある。
As mentioned above, the four corners of the bottom of the storage box 1, which are the most likely to get dirty, are open, so the inside of the storage box 1 is clean, and it also has the feature that it can be cleaned quickly when washed.

〔効果〕〔effect〕

■1本発明による収容箱1は底、特に四隅が開口されて
いるため、収容箱1内に混入した異物20あるいはカー
トリッジ4とウェハ5との接触等による摩擦で発生した
異物2oは、前記開口部分から収容箱1の外に排出され
るため、収容箱1の内部は常時清浄に維持され、ウェハ
5の異物20による汚染は生じ難いという効果が得られ
る。
(1) Since the housing box 1 according to the present invention has an opening at the bottom, particularly at the four corners, foreign matter 20 that has entered the housing box 1 or foreign matter 2o generated by friction due to contact between the cartridge 4 and the wafer 5 can be removed from the openings. Since the wafers 1 are discharged from the storage box 1, the inside of the storage box 1 is always kept clean, and the wafers 5 are less likely to be contaminated by the foreign matter 20.

2、本発明による収容箱1は底に開口が設けられ、V ていることから、洗った場合、内部において洗浄   
   ・1水の流れが良いため、短時間に清浄化される
という効果が得られる。特に、汚れの落ち難い底の四隅
は開口されているため、収容箱1内には汚れは残留し難
くなり、清浄状態を維持しなければならないウェハ5の
収容箱として最適である。
2. Since the storage box 1 according to the present invention has an opening at the bottom and a V-shaped
・1 Because the water flows well, the effect of cleaning can be achieved in a short time. In particular, since the four corners of the bottom, which are difficult to remove dirt from, are open, it is difficult for dirt to remain inside the storage box 1, making it ideal as a storage box for wafers 5 that must be maintained in a clean state.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない種々変更可能である
ことはいうまでもない。たとえば、第5図に示されるよ
うに、底に設けられる開口部7,8は底面の四隅と、底
の中央部分に設けるようにしても前記実施例と同様な効
果が得られる。また、第6図に示されるように、本体2
の底に設けられる開口部7は、羽板21を定間隔に配置
した、いわゆるガラリ構造としてスリット状の開口部7
としても、前記実施例同様な効果が得られる。さらに、
本発明の収容箱1にあっては、開口部は蓋3の側部およ
び/または上部に設けても前記実施例同様な効果が得ら
れる。この場合、ウェハに異物が直接落下しないように
するため、開口部はウェハの真上には設けない方が良い
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. . For example, as shown in FIG. 5, the same effect as in the above embodiment can be obtained even if the openings 7 and 8 are provided at the four corners of the bottom and at the center of the bottom. In addition, as shown in FIG. 6, the main body 2
The opening 7 provided at the bottom is a slit-shaped opening 7 as a so-called louver structure in which the blades 21 are arranged at regular intervals.
Even so, the same effect as in the above embodiment can be obtained. moreover,
In the storage box 1 of the present invention, even if the opening is provided on the side and/or the top of the lid 3, the same effect as in the embodiment described above can be obtained. In this case, in order to prevent foreign matter from falling directly onto the wafer, it is better not to provide the opening directly above the wafer.

〔利用分野〕[Application field]

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体製造技術に適
用した場合について説明したが、それに限定されるもの
ではなく、たとえば、塵、異物等を嫌う医薬品2食料品
の製造技術などに適用できる。
The above explanation has mainly been about the application of the invention made by the present inventor to semiconductor manufacturing technology, which is the background field of application, but the invention is not limited thereto. It can be applied to manufacturing technology for pharmaceuticals, food products, etc.

本発明は少なくとも清浄状態を維持する必要のある物品
の収容技術に適用できる。
The present invention can be applied at least to techniques for storing articles that need to be maintained in a clean state.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来の収容箱を示す斜視図、 第2図は本発明の一実施例による収容箱を示す斜視図、 第3図は同じく収容箱を裏返しにした状態を示す斜視図
、 第4図は同じくダウンフロー構造のクリーンルームにお
ける収容箱を示す模式図、 第5図は本発明の他の実施例による収容箱を示す斜視図
、 第6図は本発明の他の実施例による収容箱を示す断面図
である。 1・・・収容箱、2・・・本体、3・・・蓋、4・・・
カートリッジ、5・・・ウェハ、6・・・底、7・・・
孔(開口部)、8・・・開口部、9・・・作業室、10
・・・通路、11・・・半導体製造装置、12・・・高
性能フィルタ(HE P A)、13・・・サプライダ
クト、14・・・エアー、15・・・床、16・・・リ
ターンダクト、17・・・テーブル、18・・・機器側
部、19・・・孔、20・・・異物、21・・・調板。 第  1  図
FIG. 1 is a perspective view showing a conventional storage box, FIG. 2 is a perspective view showing a storage box according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a perspective view showing the storage box turned upside down, and FIG. The figure is a schematic diagram showing a storage box in a clean room with a downflow structure, FIG. 5 is a perspective view showing a storage box according to another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a schematic diagram showing a storage box according to another embodiment of the present invention. FIG. 1... Storage box, 2... Main body, 3... Lid, 4...
Cartridge, 5... wafer, 6... bottom, 7...
Hole (opening), 8... Opening, 9... Working chamber, 10
...Aisle, 11...Semiconductor manufacturing equipment, 12...High performance filter (HEPA), 13...Supply duct, 14...Air, 15...Floor, 16...Return Duct, 17... Table, 18... Equipment side, 19... Hole, 20... Foreign object, 21... Control plate. Figure 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、本体と、この本体を塞ぐ蓋と、からなる収容箱であ
って、前記本体の底に開口部が設けられていることを特
徴とする収容箱。 2、前記蓋の四隅に開口部が設けられていることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の収容箱。
[Scope of Claims] 1. A storage box comprising a main body and a lid for closing the main body, characterized in that an opening is provided at the bottom of the main body. 2. The storage box according to claim 1, wherein openings are provided at the four corners of the lid.
JP12932684A 1984-06-25 1984-06-25 Housing box Pending JPS618913A (en)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12932684A JPS618913A (en) 1984-06-25 1984-06-25 Housing box

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0388343U (en) * 1989-12-22 1991-09-10
US5278104A (en) * 1989-07-25 1994-01-11 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor wafer carrier having a dust cover

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