JPS6188A - オキサゾリノアゼチジン誘導体の製造方法 - Google Patents
オキサゾリノアゼチジン誘導体の製造方法Info
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- JPS6188A JPS6188A JP60011650A JP1165085A JPS6188A JP S6188 A JPS6188 A JP S6188A JP 60011650 A JP60011650 A JP 60011650A JP 1165085 A JP1165085 A JP 1165085A JP S6188 A JPS6188 A JP S6188A
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- aralkyl
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- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は抗生物質の合成中間体として有用なオキサゾ
リノアゼチジノン化合物（Ｉ）とその製造方法に関する
。
リノアゼチジノン化合物（Ｉ）とその製造方法に関する
。
式（Ｉ）で表わきれる化合物（Ｉ）は、式（ＩＩ）で表
わされるペニシリン・１−オキンド化合物（ｎ）を開閉
環反応に付して製造する。
わされるペニシリン・１−オキンド化合物（ｎ）を開閉
環反応に付して製造する。
（式中、
Ｒはアラルキル、フェノキシメチル、アリールまたは低
級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲンないし
シアノで置換されたアリール；Ｂはヒドロキシ、低級ア
ルコキシ、ハロゲン化低級アルコキン、アラルコキシま
たはニトロアラルコキシ； ｘは水ｉ、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルカノイルオ
キシ、ハロゲン化低級アルカノイルオキン、ニトロオキ
シ、アリールチオ、アリールスルフイニ１しまたは低級
プルキルテトラソリルチオ；をそれぞれ示す。
級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲンないし
シアノで置換されたアリール；Ｂはヒドロキシ、低級ア
ルコキシ、ハロゲン化低級アルコキン、アラルコキシま
たはニトロアラルコキシ； ｘは水ｉ、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルカノイルオ
キシ、ハロゲン化低級アルカノイルオキン、ニトロオキ
シ、アリールチオ、アリールスルフイニ１しまたは低級
プルキルテトラソリルチオ；をそれぞれ示す。
たたし、Ｒがアラルキル、フェノキシメチル、フェニル
であって、Ｂが低級アルコキシ、アラルコキシまたはニ
トロ低級アラルコキシである場合には、Ｘは水素、ハロ
ゲンまたは低級アルカノイルオキシではないものとする
） 化合物（Ｉ）は化合物（１工）を開閉環反応に付せば製
造できる。化合物（１１）はＪ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ
。
であって、Ｂが低級アルコキシ、アラルコキシまたはニ
トロ低級アラルコキシである場合には、Ｘは水素、ハロ
ゲンまたは低級アルカノイルオキシではないものとする
） 化合物（Ｉ）は化合物（１工）を開閉環反応に付せば製
造できる。化合物（１１）はＪ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ
。
Ｐｅｒｋｉｎ Ｉ １９７３．９３２に準して製造でき
る。
る。
この開閉環反応は実施例に記した通りに加熱のみでも起
こる（ヘンゼン十Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（３：
２）混液中還流した例）ので、特に試薬が必須ではない
。
こる（ヘンゼン十Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（３：
２）混液中還流した例）ので、特に試薬が必須ではない
。
この反応は化合物（ＩＩ）からスルフェン酸を生成させ
、これに脱硫反応を施こすことにより実施きれるので、
前段は所謂、ペニシリンスルホキシドからデアセトキシ
セファロスポラン酸を製造する条件が適用でき、後段は
脱硫剤を添加することにより促進できる。ここに、脱硫
剤としては三価りん化合物（トリアリールホスフィン、
トリアルキルホスフィン、トリアルコキシホスフィンな
と） 、硫１１１１（スルフェン酸、スルフィン酸、亜
硫酸塩なと）、ハロゲン化合物（分子状ハロゲン、Ｎ−
ハロアミド、Ｎ−ハロイミドなと）、酸（有機酸、無機
酸）、酸無水物、その他の硫黄原子に親和性のある化合
物が用いられる。
、これに脱硫反応を施こすことにより実施きれるので、
前段は所謂、ペニシリンスルホキシドからデアセトキシ
セファロスポラン酸を製造する条件が適用でき、後段は
脱硫剤を添加することにより促進できる。ここに、脱硫
剤としては三価りん化合物（トリアリールホスフィン、
トリアルキルホスフィン、トリアルコキシホスフィンな
と） 、硫１１１１（スルフェン酸、スルフィン酸、亜
硫酸塩なと）、ハロゲン化合物（分子状ハロゲン、Ｎ−
ハロアミド、Ｎ−ハロイミドなと）、酸（有機酸、無機
酸）、酸無水物、その他の硫黄原子に親和性のある化合
物が用いられる。
反応中にオキシドに由来する水が発生するが、分子篩を
反応液に添加するか、還流液を乾燥することにより、除
去できる。しかし、この反応には脱水条件は必須ではな
い。
反応液に添加するか、還流液を乾燥することにより、除
去できる。しかし、この反応には脱水条件は必須ではな
い。
この反応は溶媒中実施するのが好ましし＼。
溶媒は炭化水素（ベンゼン、トルエン、ヘキサンなど）
、ハロ炭化水素（塩化メチレン、ジクロロエタン、トリ
クロロエタン、クロロベンゼンなど）、エーテル（ジオ
キサン、テトラヒドロフランなど）、アミド（Ｎ、Ｎ−
ジメチルホルムアミドルホスホロトリアミドなど）、エ
ステル（酢酸エチＬ，酢酸アミルなど）、アルコール（
エタノール、ブタノール、ｔ−ブタノールなど）、その
他の種々の不活性溶媒が著しい収率低下なしに用し）ら
れる。
、ハロ炭化水素（塩化メチレン、ジクロロエタン、トリ
クロロエタン、クロロベンゼンなど）、エーテル（ジオ
キサン、テトラヒドロフランなど）、アミド（Ｎ、Ｎ−
ジメチルホルムアミドルホスホロトリアミドなど）、エ
ステル（酢酸エチＬ，酢酸アミルなど）、アルコール（
エタノール、ブタノール、ｔ−ブタノールなど）、その
他の種々の不活性溶媒が著しい収率低下なしに用し）ら
れる。
反応温度は７０℃〜１３０℃が好ましい。７０°Ｃ以下
でも反応は進行するが、反応がおそく、１３０°Ｃ以上
でも反応は進行するが、分解産物が増加する。
でも反応は進行するが、反応がおそく、１３０°Ｃ以上
でも反応は進行するが、分解産物が増加する。
反応は通常、高温では数分で、低温では数時間で終了す
る。
る。
本反応は、好ましくは以下のようにして達成きれる。す
なわち、原料物質を７〜１５重量倍の炭化水素系溶媒（
例えば、ベンゼン、トルエン）および７〜１５重量倍の
／Ｓ口炭化水素系溶媒（例えは、ジクロロエタン、トリ
クロロエタン）の混液に溶かし、０．５〜２当量、更に
好ましくは１，０〜１，５当量の脱硫剤（好ましくは亜
すン酸ト１ツメチルまたはトリフェニルホスフィン）お
よび１〜５重量倍のモレキュラーシープを加え、１０分
〜１５時間、通常は２〜５時間、加熱還流する。
なわち、原料物質を７〜１５重量倍の炭化水素系溶媒（
例えば、ベンゼン、トルエン）および７〜１５重量倍の
／Ｓ口炭化水素系溶媒（例えは、ジクロロエタン、トリ
クロロエタン）の混液に溶かし、０．５〜２当量、更に
好ましくは１，０〜１，５当量の脱硫剤（好ましくは亜
すン酸ト１ツメチルまたはトリフェニルホスフィン）お
よび１〜５重量倍のモレキュラーシープを加え、１０分
〜１５時間、通常は２〜５時間、加熱還流する。
要すれは、反応中生成する水を、持続して、或し）は、
時々、共沸蒸留によって除去してもよ＋７）。
時々、共沸蒸留によって除去してもよ＋７）。
このようにして製造した化合物は分子篩を入れたときは
これを濾去し、水洗、乾燥後、濃縮し、要すればシリカ
ゲルクロマトなどで精製するなと、常法により、精製す
れば容易に単離することができる。ペニシリン・１−オ
キシト類番こトリフェニルポスフィンを作用させてアゼ
チジノチアソ′リンを製造した例は公知であるが、６−
ニビペニシリン・１−オキシトでは生成物が異なり、ア
ゼチジノオキサゾリンを得ることは未だ知られてし１な
い６本発明はこの新反応を利用して、オキサセノアロス
ボリン類の新合成中間体を高収率で製造するためのもの
である。
これを濾去し、水洗、乾燥後、濃縮し、要すればシリカ
ゲルクロマトなどで精製するなと、常法により、精製す
れば容易に単離することができる。ペニシリン・１−オ
キシト類番こトリフェニルポスフィンを作用させてアゼ
チジノチアソ′リンを製造した例は公知であるが、６−
ニビペニシリン・１−オキシトでは生成物が異なり、ア
ゼチジノオキサゾリンを得ることは未だ知られてし１な
い６本発明はこの新反応を利用して、オキサセノアロス
ボリン類の新合成中間体を高収率で製造するためのもの
である。
このようにして製造した化合物（Ｉ）は抗生物質の合成
中間体として利用することができる。たとえば、化合物
（Ｉ）を塩基と処理すれは（ＩＩＩ）で表わ跡れる化合
物（ＩＩＩ ）を製造できる。
中間体として利用することができる。たとえば、化合物
（Ｉ）を塩基と処理すれは（ＩＩＩ）で表わ跡れる化合
物（ＩＩＩ ）を製造できる。
（式中、ＣＯＢ、Ｒ，Ｘは前記と同意義）この反応も前
記反応と同様な不活性溶媒中、有機塩基（アルキルアミ
ン、アラルキルアミンなど）または無機塩基（アルカリ
金属の水酸化物、次酸塩なと）を、例えば０°Ｃ〜７０
°Ｃで１分ないし５時間作用させれば容易に実施できる
。
記反応と同様な不活性溶媒中、有機塩基（アルキルアミ
ン、アラルキルアミンなど）または無機塩基（アルカリ
金属の水酸化物、次酸塩なと）を、例えば０°Ｃ〜７０
°Ｃで１分ないし５時間作用させれば容易に実施できる
。
Ｒがアリールである化合物（ＩＩＩ ）はオキサゾリン
環の開裂反応を促進するので重要である。
環の開裂反応を促進するので重要である。
化合物（ｍ）はプロパルギル・アルコールを作用芒せた
のち水和し、アゼチジノンの１位の側鎖をオゾン開裂後
還元、ハロゲン置換したのち、トリフェニルホスフィン
を作用許せてウイテイヒ試薬を作り、閉環することによ
り、１−オキサゾチアセファロスポリンを製造すること
ができる。
のち水和し、アゼチジノンの１位の側鎖をオゾン開裂後
還元、ハロゲン置換したのち、トリフェニルホスフィン
を作用許せてウイテイヒ試薬を作り、閉環することによ
り、１−オキサゾチアセファロスポリンを製造すること
ができる。
本発明方法によれば特願昭５１−１３５８００号に記載
の方法よりも高収率で、副反応少なく目的とする１−オ
キサゾチアセファロスポリンを製造することができる。
の方法よりも高収率で、副反応少なく目的とする１−オ
キサゾチアセファロスポリンを製造することができる。
化合物（Ｉ）はエキソメチレン基を四酸化オスミウムで
ジオールに変えだのも、三ふつ化はう素を作用させて閉
環し、生成物を脱水することによって、公知方法よりも
容易に１−オキサゾチアセファロスポリンを製造するこ
とができる。
ジオールに変えだのも、三ふつ化はう素を作用させて閉
環し、生成物を脱水することによって、公知方法よりも
容易に１−オキサゾチアセファロスポリンを製造するこ
とができる。
前記の通り、このと発明は有用な中間体とその能率の高
い製法を提供するものである。
い製法を提供するものである。
以下に実施例を記載して本発明の実例と製法を説明する
。
。
実施例１
ペニシリン・１−オキシド（ＩＩ ）からオキサゾリノ
アゼチシン化合物（Ｉ）の製造 第１表は標記開閉反応の反応条件を例示する。
アゼチシン化合物（Ｉ）の製造 第１表は標記開閉反応の反応条件を例示する。
第１Ｉ表は生成物の物理定数を示す。
操作の詳細を示すため、第１表Ｎｏ、 ８の反応と後処
理の操作を以下に記載する。
理の操作を以下に記載する。
（Ｎｏ、 １０ ）
６α−ヘンスアミドベニシラン酸ジフェニルメチルエス
テル・１−才キシト３８．５１ｇとトリフェニルホスフ
ィン２２．１１ｇ、！：をトルエン３０８ｍ１と１，２
−ジクロＤエタン３０８ｍ１との混液にとかし、分子篩
をつめたティーン・スターク型脱水器により留液を脱水
しながら３．５時間還流する。冷板、反応液を１５０ｍ
１まで濃縮したのち、１０％含水シリカゲル５００ｇ上
クロマトグラフして精製し、ヘンゼン＋酢酸エチル（１
９：１）と（４：１）で流出する部分をエーテルから結
晶化させればα−（３−フェニル−７−オキリー４−オ
キサー２，６−ンアザビシクロ［３゜２０コヘプト−２
−エン−６−イル）−α−インフロベニル酢酸ジフェニ
ルメチルエステル２８．１５ｇを得る。収率、８１．２
％。ｍｐ１１６．５〜１１８°Ｃ０ 実施例２ 化合物（Ｉ）から二重結合の異性体（ＩＩＩ ）の製造 （１）α−（３−フェニル−７−オキソ−４−才キサー
２．６−シアザビンクロ［３，２，０コヘブト−２−エ
ン−６−イル）−α−インプロペニル酢酸ｐ−ニトロベ
ンジル２８１ｍｇを塩化メチレン２ｍｌにとかし、これ
にトリエチルアミン４８μｍを加えて室温で１５分間放
置°する。反応液を減圧濃縮すれはα−（３−フェニル
−７−オキソ−４−才キサー２，６−シアザビシクロ［
３，２，０］ヘブＦ−２−エン−６−イル）−α−イソ
プロピリデンｉｌ［ｔｐ−ニトロヘンンル２７８ｍｇを
得る。
テル・１−才キシト３８．５１ｇとトリフェニルホスフ
ィン２２．１１ｇ、！：をトルエン３０８ｍ１と１，２
−ジクロＤエタン３０８ｍ１との混液にとかし、分子篩
をつめたティーン・スターク型脱水器により留液を脱水
しながら３．５時間還流する。冷板、反応液を１５０ｍ
１まで濃縮したのち、１０％含水シリカゲル５００ｇ上
クロマトグラフして精製し、ヘンゼン＋酢酸エチル（１
９：１）と（４：１）で流出する部分をエーテルから結
晶化させればα−（３−フェニル−７−オキリー４−オ
キサー２，６−ンアザビシクロ［３゜２０コヘプト−２
−エン−６−イル）−α−インフロベニル酢酸ジフェニ
ルメチルエステル２８．１５ｇを得る。収率、８１．２
％。ｍｐ１１６．５〜１１８°Ｃ０ 実施例２ 化合物（Ｉ）から二重結合の異性体（ＩＩＩ ）の製造 （１）α−（３−フェニル−７−オキソ−４−才キサー
２．６−シアザビンクロ［３，２，０コヘブト−２−エ
ン−６−イル）−α−インプロペニル酢酸ｐ−ニトロベ
ンジル２８１ｍｇを塩化メチレン２ｍｌにとかし、これ
にトリエチルアミン４８μｍを加えて室温で１５分間放
置°する。反応液を減圧濃縮すれはα−（３−フェニル
−７−オキソ−４−才キサー２，６−シアザビシクロ［
３，２，０］ヘブＦ−２−エン−６−イル）−α−イソ
プロピリデンｉｌ［ｔｐ−ニトロヘンンル２７８ｍｇを
得る。
収率；定量的。泡状物。
ＮＭＲ：８ ｃＤ”ｓ １．９６ｓ３Ｈ，２，３０ｓ３
Ｈ，５，０５ｓｌＨ，５，１８ｓ１）ｔ、 ５．４８ｄ
（３Ｈｚ＞ＬＨ，６，１７ｄ（３Ｈｚ）ＩＨ，７，３−
７，６＋７．９−４ｍ０ （２）前記（１）と同様にしてα−（３−ヘンノルー７
−オキソ−４−オキサ−２，６−ジアザビシクロ［３，
２，０コヘプト−２−エン−６−イル）−α−インプロ
ペニル酢酸ジフェニルメチル７５■を塩化メチレフ５ｍ
ｌ中トリエチルアミン０．０３ｍ１と室温で１時間かき
まぜればα−（３−ベンジル−７−オキソ−４−オキサ
−２，６−ジアザビシクロ［３，２，０１ヘプト−２−
エン−６−イル）−α−イソプロピリデン酢酸ジフェニ
ルメチルを得る。ｍｐ１０４．５〜１０６℃。収率：９
５％。
Ｈ，５，０５ｓｌＨ，５，１８ｓ１）ｔ、 ５．４８ｄ
（３Ｈｚ＞ＬＨ，６，１７ｄ（３Ｈｚ）ＩＨ，７，３−
７，６＋７．９−４ｍ０ （２）前記（１）と同様にしてα−（３−ヘンノルー７
−オキソ−４−オキサ−２，６−ジアザビシクロ［３，
２，０コヘプト−２−エン−６−イル）−α−インプロ
ペニル酢酸ジフェニルメチル７５■を塩化メチレフ５ｍ
ｌ中トリエチルアミン０．０３ｍ１と室温で１時間かき
まぜればα−（３−ベンジル−７−オキソ−４−オキサ
−２，６−ジアザビシクロ［３，２，０１ヘプト−２−
エン−６−イル）−α−イソプロピリデン酢酸ジフェニ
ルメチルを得る。ｍｐ１０４．５〜１０６℃。収率：９
５％。
参考例１ 原料の製造（その１）
（以下余白）
Ｘ ＝ ＣＨ３ＣＯＯ−、Ｘ ＝ Ｃ１−（イ）化合物
（１）３．６３ｇと２−メルカブトヘンゾグーアソール
１．１４ｇとをトルエン中４５分還流後濃縮する。残留
物を少量の塩化メチレンにとかし、石油エーテルを加え
て晶出させれば化合物（２）２．９０ｇ；を得る。ｍｐ
８３〜８６℃。
（１）３．６３ｇと２−メルカブトヘンゾグーアソール
１．１４ｇとをトルエン中４５分還流後濃縮する。残留
物を少量の塩化メチレンにとかし、石油エーテルを加え
て晶出させれば化合物（２）２．９０ｇ；を得る。ｍｐ
８３〜８６℃。
ＩＲｖ ｍａｘ（ＣＨＣＩ、） ３４３０．
３００５． １７８５． １７４５゜１７００ｃｍ
−’。
３００５． １７８５． １７４５゜１７００ｃｍ
−’。
ＮＭＲ：８ ′Ｄ”、 １．９２ｂｒｓ３）１．４．
４７ｓ２Ｈ，５，０１ｓｌＨ。
４７ｓ２Ｈ，５，０１ｓｌＨ。
４．９−５．３ｍ３Ｈ，５，１７ｄ（２Ｈｚ）ＩＨ，６
，９３ｓｌＨ，６，８−８，１ｍ５Ｈ０ （ロ） （Ｘ−０ＣＣＨ，）−化合物（２） １ 、３
６ ｇ、酢酸銀４００ｍｇ、および酢酸１ｍｌを酢酸エ
チル２１ｍ１中室温で３時間かきませる。不溶物を濾去
した反応液を濃縮し、得られる残留物を１０％含水シリ
カゲル１５ｇ上クロマトグラフすれば、ヘンゼン＋酢酸
エチル（９５：５）混液で溶出する分画より化合物（３
）４６０ｍｇを得る。
，９３ｓｌＨ，６，８−８，１ｍ５Ｈ０ （ロ） （Ｘ−０ＣＣＨ，）−化合物（２） １ 、３
６ ｇ、酢酸銀４００ｍｇ、および酢酸１ｍｌを酢酸エ
チル２１ｍ１中室温で３時間かきませる。不溶物を濾去
した反応液を濃縮し、得られる残留物を１０％含水シリ
カゲル１５ｇ上クロマトグラフすれば、ヘンゼン＋酢酸
エチル（９５：５）混液で溶出する分画より化合物（３
）４６０ｍｇを得る。
ＩＲ’ｌ／ｍａＸ（Ｃ）ｌｃ１＋＞ ３４１５．３０
０５．’ １７８５．１７４５゜１６９６、１６００ｃ
ｍ−’。
０５．’ １７８５．１７４５゜１６９６、１６００ｃ
ｍ−’。
ＮＭＲ：ε””、 １．２１ｓ３１（、２，１０ｓ３
Ｈ，３，８４ｄ（１１，５Ｈｚ＞ＬＨ，４，２６ｄ（１
１，５Ｈｚ）ＩＨ，４，５３ｓ２Ｈ，４，８８ｓｌＨ，
５，２３ｄｄ（９；２Ｈｚ）ＩＨ，５，３８ｄ（２Ｈｚ
）ＬＨ，６，９８ｓｌＨ，６，８−７，８ｍ５Ｈ９ 含水ピリジン１．４ｍｌにとかし、ヨードベンゼンジク
ロリド７６０ｍｇのピリジン溶液１．−４ｍ１を加えて
室温で１時間半かきまぜる。反応液に酢酸エチル５０ｍ
１を加えて不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮する。残留
物をンリやゲルクロマトにより精製すれは、ヘンゼン＋
酢酸エチル（１：１）混液で溶出する分画より化合物（
４）４０９ｍｇを得る。
Ｈ，３，８４ｄ（１１，５Ｈｚ＞ＬＨ，４，２６ｄ（１
１，５Ｈｚ）ＩＨ，４，５３ｓ２Ｈ，４，８８ｓｌＨ，
５，２３ｄｄ（９；２Ｈｚ）ＩＨ，５，３８ｄ（２Ｈｚ
）ＬＨ，６，９８ｓｌＨ，６，８−７，８ｍ５Ｈ９ 含水ピリジン１．４ｍｌにとかし、ヨードベンゼンジク
ロリド７６０ｍｇのピリジン溶液１．−４ｍ１を加えて
室温で１時間半かきまぜる。反応液に酢酸エチル５０ｍ
１を加えて不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮する。残留
物をンリやゲルクロマトにより精製すれは、ヘンゼン＋
酢酸エチル（１：１）混液で溶出する分画より化合物（
４）４０９ｍｇを得る。
ＩＲ：ｌ、＋ｍａｘ（ＣＨＣ１＋） ３４２０．３０
１０．１７９５．１７５０゜１７００、１６００ｃｍ弓
。
１０．１７９５．１７５０゜１７００、１６００ｃｍ弓
。
ＮＭＲ：δ””ｓ １．０９ｓ’３Ｈ，２，１３ｓ３
Ｈ，４，３３ｂｒｓ２Ｈ。
Ｈ，４，３３ｂｒｓ２Ｈ。
４．５６ｓ２Ｈ，５，０１ｄ（２，３Ｈｚ）ＬＨ，５，
６２ｄｄ（２，３；９Ｈｚ）ＩＨ。
６２ｄｄ（２，３；９Ｈｚ）ＩＨ。
６、９９ｓｌＨ，６，９−７，７ｍ１５）１．７．８９
ｄ（９Ｈｚ＞ＬＨ。
ｄ（９Ｈｚ＞ＬＨ。
（ニ） （’ Ｘ＝Ｃ１）−化合物（２） ６ 、６６
ｇと塩化第二銅３．３３ｇを塩化メチレン１００ｍ１
にとかし、室温で３時間かきまぜる。不溶物を濾去して
得られる濾液を減Ｅｆ：、濃縮し１０％含水シリカゲル
上クロマトグラフして精製すれば化合物（３） （Ｘ＝
Ｃ１）２．７２ｇを得る。収率、５０％。
ｇと塩化第二銅３．３３ｇを塩化メチレン１００ｍ１
にとかし、室温で３時間かきまぜる。不溶物を濾去して
得られる濾液を減Ｅｆ：、濃縮し１０％含水シリカゲル
上クロマトグラフして精製すれば化合物（３） （Ｘ＝
Ｃ１）２．７２ｇを得る。収率、５０％。
ＩＲニジｍａｘ（ＣＨＣｌａ） ３４１５．１７９０
．１７５０．１７００゜１５０５ｃｍ−’。
．１７５０．１７００゜１５０５ｃｍ−’。
ＮＭＲ：８ｃＤｃｌ、 １．２７ｓ３Ｈ，３，４７ｓ
２Ｈ，４，４３ｓ２Ｈ，５，１０ｓｌＨ，５，１２ｄｄ
（８Ｈｚ； １．５Ｈｚ）ＬＨ，５，２８ｄ（１，５
）１ｚ）ＬＨ。
２Ｈ，４，４３ｓ２Ｈ，５，１０ｓｌＨ，５，１２ｄｄ
（８Ｈｚ； １．５Ｈｚ）ＬＨ，５，２８ｄ（１，５
）１ｚ）ＬＨ。
６．８３ｓｌＨ，６，５−７，５ｍ１５Ｈ，７，５４ｄ
（８Ｈｚ＞ＩＨｏ（＊） （ｘ、ｃｌ）−化合物（３）
（Ｘ＝Ｃ１） ２ 、４５ ｇを２０％含水ピリジン４
．５ｍｌにとかし、ヨードベンゼンジクロリド２．４５
ｇのピリジン溶液４．５ｍｌを水冷下に加え、室温にも
どして１時間かきまぜる。反応液を酢酸エチル２００ｍ
１にうすめ、不溶物を濾去する。残留物を含水シリカゲ
ル４５ｇ上クロマトグラフすれば、ベンゼン＋酢酸エチ
ル（４：１）で溶出する分画より化合物■（Ｘ＝Ｃ１’
） １ 、２３ ｇを得る。収率：４９％。
（８Ｈｚ＞ＩＨｏ（＊） （ｘ、ｃｌ）−化合物（３）
（Ｘ＝Ｃ１） ２ 、４５ ｇを２０％含水ピリジン４
．５ｍｌにとかし、ヨードベンゼンジクロリド２．４５
ｇのピリジン溶液４．５ｍｌを水冷下に加え、室温にも
どして１時間かきまぜる。反応液を酢酸エチル２００ｍ
１にうすめ、不溶物を濾去する。残留物を含水シリカゲ
ル４５ｇ上クロマトグラフすれば、ベンゼン＋酢酸エチ
ル（４：１）で溶出する分画より化合物■（Ｘ＝Ｃ１’
） １ 、２３ ｇを得る。収率：４９％。
ＩＲ：Ｉ、＋ｍａｘ（ＣＨＣＩｓ） ３４１５．１７
９５．１７５５．１７００゜ＮＭＲδ””、 １．０
７ｓ３Ｈ，３，７０ｂｒｓ２Ｈ，４，４７ｓ２Ｈ。
９５．１７５５．１７００゜ＮＭＲδ””、 １．０
７ｓ３Ｈ，３，７０ｂｒｓ２Ｈ，４，４７ｓ２Ｈ。
４．９０ｂｒ’ｓｌＨ，５，０ＯｓｌＨ，５，４８ｂｒ
ｄ（８Ｈｚ＞１８． ６．９７ｓｌＨ。
ｄ（８Ｈｚ＞１８． ６．９７ｓｌＨ。
６．８−７．５ｍ１５）１． ８．００ｂｒｄ（８）１
ｚ）ＩＨ。
ｚ）ＩＨ。
参考例２ 原料の製造（その２）
（以下余白）
（イ）参考例１（イ）と同様にして化合物（５） １
、０２ ｇと２−メルカプトベンゾチアソール０．３５
ｇをトルエン３０ｍ１中還流すれは化合物（６）を得る
。
、０２ ｇと２−メルカプトベンゾチアソール０．３５
ｇをトルエン３０ｍ１中還流すれは化合物（６）を得る
。
ＩｔＭＲ：ｌ； ｃＤ”、 １．９７ｓ３）１．４．
４７ｓ２Ｈ，４ＪＯ−５，２５ｍ６Ｈ。
４７ｓ２Ｈ，４ＪＯ−５，２５ｍ６Ｈ。
５．４３ｄ（１）１ｚ）Ｉｆ（、６，１１Ｎ］−７，９
２ｍ１２Ｈ，８，１０ｄ（４Ｈｚ）２８゜（ロ）前“記
＜イ）の反応液に酢酸５ｍｌと酢酸銀０．７ｇとを加え
、参考例２（０）と同様に処理すれば化合物（７）０
、５４ ｇと７α−フェノキンアセトアミド−３−メチ
ル−３−アセトキシセファム−４−カルボン酸ｐ−ニト
ロペンシル０．１８ｇの混合物を得る。
２ｍ１２Ｈ，８，１０ｄ（４Ｈｚ）２８゜（ロ）前“記
＜イ）の反応液に酢酸５ｍｌと酢酸銀０．７ｇとを加え
、参考例２（０）と同様に処理すれば化合物（７）０
、５４ ｇと７α−フェノキンアセトアミド−３−メチ
ル−３−アセトキシセファム−４−カルボン酸ｐ−ニト
ロペンシル０．１８ｇの混合物を得る。
ＮＭＲ：δ””ｓ １．３８ｓ、 １．８３ｓ、 １
．９３ｓ、 ３．４３ｄ（２Ｈｚ）、 ３．６７＋４．
２３ｑ（６Ｈｚ）、 ４．５０ｓ、 ４．８７ｓ、 ５
．３０ｓ。
．９３ｓ、 ３．４３ｄ（２Ｈｚ）、 ３．６７＋４．
２３ｑ（６Ｈｚ）、 ４．５０ｓ、 ４．８７ｓ、 ５
．３０ｓ。
５．０７−５．４０ｍ、 ６，８３４．？３ｒｎ、
８．３０ｄ＜４Ｈｚン。
８．３０ｄ＜４Ｈｚン。
（ハ）参考例１（ハ）と同様にして化合物（７）０．４
５ｇをピリジン２ｍｌと水０．４ｍｌとの混液中ヨード
ベンゼンジクロリド５２０ｍｇのピリジン溶液１．５ｍ
ｌと室温で３時間かきまぜれは化合物（８）Ｏ，，３９
ｇを得る。泡状物。
５ｇをピリジン２ｍｌと水０．４ｍｌとの混液中ヨード
ベンゼンジクロリド５２０ｍｇのピリジン溶液１．５ｍ
ｌと室温で３時間かきまぜれは化合物（８）Ｏ，，３９
ｇを得る。泡状物。
ＩＲニジｍａｘ（ＣＨＣＩ、＞ １８００．１７５５
．１７００ｃｍ−’。
．１７００ｃｍ−’。
ＮＭＲ：ε′Ｄ”ｓ １．３３ｓ３Ｈ，２，１０ｓ３
Ｈ，４，１０ｂｒｓ２Ｈ。
Ｈ，４，１０ｂｒｓ２Ｈ。
４．５７ｓ２Ｈ，４，８７ｓｌＨ，５，０５ｄ（ＩＨｚ
＞ＬＨ，５，３３ｓ２Ｈ。
＞ＬＨ，５，３３ｓ２Ｈ。
５．５３ｄｄ（１；４Ｈｚ）ＬＨ，６：８３−７．４２
ｍ５Ｈ，７，６２＋８．２７ｑ（４Ｈｚ）４Ｈ，７，９
３ｄ（４Ｈｚ＞ＬＨ。
ｍ５Ｈ，７，６２＋８．２７ｑ（４Ｈｚ）４Ｈ，７，９
３ｄ（４Ｈｚ＞ＬＨ。
（以下余白）
Claims (1)
- （１）次式で表わされる化合物： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、 Ｒはアラルキル、フェノキシメチル、アリールまたは低
級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲンないし
シアノで置換されたアリール； Ｂはヒドロキシ、低級アルコキシ、ハロゲン化低級アル
コキシ、アラルコキシまたはニトロアラルコキシ； Ｘは水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルカノイルオ
キシ、ハロゲン化低級アルカノイルオキシ、ニトロオキ
シ、アリールチオ、アリールスルフィニルまたは低級ア
ルキルテトラゾリルチオ；をそれぞれ示す。 ただし、Ｒがアラルキル、フェノキシメチル、フェニル
であつて、Ｂが低級アルコキシ、アラルコキシまたはニ
トロ低級アラルコキシである場合には、Ｘは水素、ハロ
ゲンまたは低級アルカノイルオキシではないものとする
）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60011650A JPS6188A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | オキサゾリノアゼチジン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60011650A JPS6188A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | オキサゾリノアゼチジン誘導体の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52001760A Division JPS6040437B2 (ja) | 1977-01-10 | 1977-01-10 | オキサゾリノアゼチジン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6188A true JPS6188A (ja) | 1986-01-06 |
| JPH0227996B2 JPH0227996B2 (ja) | 1990-06-20 |
Family
ID=11783827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60011650A Granted JPS6188A (ja) | 1985-01-24 | 1985-01-24 | オキサゾリノアゼチジン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6188A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4915207A (en) * | 1988-02-02 | 1990-04-10 | Thyssen-M.A.N. Aufzuge Gmbh | Safety door for the handrail-energy of an escalator |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0522282U (ja) * | 1991-09-09 | 1993-03-23 | 安藤 文宣 | 自転車の装飾フープ |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53121787A (en) * | 1977-03-30 | 1978-10-24 | Shionogi & Co Ltd | Preparation of oxazolinoazetidinylpentenoic acid derivatives |
-
1985
- 1985-01-24 JP JP60011650A patent/JPS6188A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53121787A (en) * | 1977-03-30 | 1978-10-24 | Shionogi & Co Ltd | Preparation of oxazolinoazetidinylpentenoic acid derivatives |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4915207A (en) * | 1988-02-02 | 1990-04-10 | Thyssen-M.A.N. Aufzuge Gmbh | Safety door for the handrail-energy of an escalator |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0227996B2 (ja) | 1990-06-20 |
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