JPS6182453A - エツチング加工用素材 - Google Patents

エツチング加工用素材

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Publication number
JPS6182453A
JPS6182453A JP20477684A JP20477684A JPS6182453A JP S6182453 A JPS6182453 A JP S6182453A JP 20477684 A JP20477684 A JP 20477684A JP 20477684 A JP20477684 A JP 20477684A JP S6182453 A JPS6182453 A JP S6182453A
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JP
Japan
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etching
carbon content
nickel
iron alloy
arabic gum
Prior art date
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Granted
Application number
JP20477684A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0587585B2 (ja
Inventor
Tsunenori Katou
加藤　凡典
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication of JPS6182453A publication Critical patent/JPS6182453A/ja
Publication of JPH0587585B2 publication Critical patent/JPH0587585B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はエツチング加工用素材に係り、更に詳しくはＩ
Ｃ用リードフレームなどのエツチング加工用素材に関す
る。
〔従来の技術〕
ＩＣ用リードフレームの多くは板厚０．１０〜０．３１
）ＸＩの４２合金と呼ばれる４２％−二、クルー鉄合金
をプレス打ち抜き加工、あるいはエツチング加工によっ
て製造されている。また。
表示管などの各種電子部品用素材として５０チ二、クル
ー鉄合金や５２チニツケル一鉄合金などの二、ケル−鉄
合金が用いられている。
しかしながら、二、ケル−鉄合金よりなる素材ヲ工、チ
ップ加工する場合、比較的長い工。
チング時間を要し、特に細かいパターンをエツチング加
工するときにエツチング時間が長くなることから、フォ
トレジストと素材の密着力が低下し、エツチングにより
て形成される製品の加工部の直線性などがそこなわれる
という問題があった。
又、エツチングによって形成される断面がアラビと呼ば
れる状態になシ、ガサツキが生じてしまうという問題が
ちった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
そこで本発明が解決しようとする問題点は上記の従来の
欠点を解消したエツチング加工用素材を提供することに
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者は上記の問題点を解決すべく研究の結果、素材
中の炭素含有量を０．０１％以下にすることにより、所
期の目的を達成し得ることを見いだし、かかる知見にも
とづいて本発明を完成したものである。
即ち、本発明の要旨は冷間圧延によって製造される板厚
０．０２０〜０．４０ｍ　　のニッケルー鉄合金よシな
るエツチング加工用素材において、該素材中の炭素含有
量が０．０１％以下でちることを特徴とするエツチング
加工用素材である。
〔作　用〕
而して本発明において炭素含有量を０．０１％以下にす
ることによシエッチング速度は早められると共にアラと
が解消されるものである。
二、ケル−鉄合金のエツチング速度は二、ケル含有量に
よって変わり、二、ケル含有量が少ないほど早くなる傾
向はあるが、ニッケル含有ｌが５０％以下の二、ケル−
鉄合金について調べた結果、複数の二、ケル含有量が異
なるニッケルー鉄合金について炭素含有量が０．０１％
以下のときエツチング速度が早いという共通の現象が認
められた。
第１図は４２％ニッケルー鉄合金についてもとめた炭素
含有量によるエツチング速度の変化を示す。
この図からあきらかたように炭素含有量が０．０２％　
のときのエツチング速度を１とすると０．０１％以下の
炭素含有量のときには１．２５〜１．３０と炭素含有量
が０．０２％の場合に比して２５％〜３０チ早くなる。
又、第２図は３６％ニッケルー鉄合金についてもとめた
炭素含有量によるエツチング速度の変化を示す。
３６−二、ケル−鉄合金についても４２％二、ケル−鉄
合金の場合も同様に炭素含有量が０．０１％以下のとき
にエツチング速度が早（なっている。
〔実施例〕
板厚０．１５厘のＮｉチ；４Ｌ５チ、Ｃチ；０．００７
チである二、クルー鉄合金よシなる素材の両面に１００
ビンのリードフレームのレジストパターンを設け、液温
７０℃の４８°Ｂｅ　Ｆｅ　Ｃ１５腐蝕液を用い、λ０
１のスプレィ圧で両面からスプレィエツチングして、製
品を得た。
〔比較例〕
板厚０．１５ｕの８１％；４１．８チ、０％；０．０２
３チの二、ケル−鉄合金よりなる素材に対して実施例と
同様にしてレジスト製版したのち、液温７０℃の４８°
Ｂ；　Ｆｅ　Ｃ１ｇ腐蝕液を用い、λ０１のスプレィ圧
で両面からスプレィエツチングし。
製品を得た。
第１表は実施例及び比較例の結果を示す。
第１表 （至）エツチング速度は炭素含有】が０．０２３％の素
材をエツチングした時所定の寸法に達するまでの速度を
１としたものである。
第１表に示すように本願発明によるものは従来のものよ
りも早く、精度良く、工、チング卯工することができ、
又、アラピはみられなかった。
〔発明の効果〕
以上詳記した通り、本発明の素材によれば早く、精度良
くエツチング加工することができ、アラビはみられず、
品質の良い壬、チング製品を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は４２％Ｎｉ−Ｆｅ合金についてもとめた炭素量
によるエツチング速度の変化ン示すグラフ、第２図は３
６％歯−Ｆｅ合金についてもとめた炭素量によるエツチ
ング速度の変化を示すグラフでらる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 　冷間圧延によって製造される板厚０．０２０〜０．４
    ０ｍｍのニッケル−鉄合金よりなるエッチング加工用素
    材において、該素材中の炭素含有量が０．０１％以下で
    あることを特徴とするエッチング加工用素材。
JP20477684A 1984-09-29 1984-09-29 エツチング加工用素材 Granted JPS6182453A (ja)

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JP28414594A Division JPH07180072A (ja) 1994-10-25 1994-10-25 エッチング加工部品の製造方法
JP23808196A Division JPH09118959A (ja) 1996-09-09 1996-09-09 エッチング加工用素材

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JPH0587585B2 JPH0587585B2 (ja) 1993-12-17

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03188657A (ja) * 1989-12-19 1991-08-16 Toppan Printing Co Ltd 半導体装置用リードフレーム用材及び半導体装置用リードフレームの製造方法
JPH03188656A (ja) * 1989-12-19 1991-08-16 Toppan Printing Co Ltd 半導体装置用リードフレーム用材及び半導体装置用リードフレームの製造方法
JPH03188658A (ja) * 1989-12-19 1991-08-16 Toppan Printing Co Ltd 半導体装置用リードフレーム用材及び半導体装置用リードフレームの製造方法

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JPS5210818A (en) * 1976-07-16 1977-01-27 Nisshin Steel Co Ltd High ni-fe alloy of good productivity
JPS5845353A (ja) * 1982-08-18 1983-03-16 Sumitomo Special Metals Co Ltd 耐応力腐食割れ性のすぐれた封着用又は集積回路リードフレーム用Ｆｅ―Ｎｉ合金
JPS6144157A (ja) * 1984-08-09 1986-03-03 Nippon Mining Co Ltd プレス打抜き性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金

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