JPS6179770A - 蒸着用装置 - Google Patents
蒸着用装置Info
- Publication number
- JPS6179770A JPS6179770A JP20310484A JP20310484A JPS6179770A JP S6179770 A JPS6179770 A JP S6179770A JP 20310484 A JP20310484 A JP 20310484A JP 20310484 A JP20310484 A JP 20310484A JP S6179770 A JPS6179770 A JP S6179770A
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- JP
- Japan
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- vapor deposition
- angle
- vapor
- vanes
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- Prior art date
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は蒸着用装置、特に安定な蒸着速度をコントロー
ルした方式を具備した蒸着用装置に関する。
ルした方式を具備した蒸着用装置に関する。
試料例えばウェハ上に蒸着によって茫着物の膜を被着す
ることは知られている。そのためには、るつぼ（蒸着Ｖ
ａ）の中に蒸発物を入れ、るつぼをヒータで加熱し蒸着
物を溶融して蒸着物の粒子を飛散させそれをウェハ上に
被着させる。このような方法でウェハ上に蒸着物の膜を
被着させることは、半導体装置の？！造工程において常
時行われている。
ることは知られている。そのためには、るつぼ（蒸着Ｖ
ａ）の中に蒸発物を入れ、るつぼをヒータで加熱し蒸着
物を溶融して蒸着物の粒子を飛散させそれをウェハ上に
被着させる。このような方法でウェハ上に蒸着物の膜を
被着させることは、半導体装置の？！造工程において常
時行われている。
従来は、蒸着源に取り付けたヒータの通電量をコントロ
ールして蒸着源の加熱状態によって蒸着量（蒸着速度）
をコントロールしていたが、熱容量の大きなるつぼを用
いると、レスポンスが遅いためコントロールが十分にで
いない問題があった。
ールして蒸着源の加熱状態によって蒸着量（蒸着速度）
をコントロールしていたが、熱容量の大きなるつぼを用
いると、レスポンスが遅いためコントロールが十分にで
いない問題があった。
すなわち、通電量を増減しても、蒸着量増減が直ちに発
生しないという両者間のずれが不可避であった。特に、
ウェハが大口径化するにつれて蒸着源が大型化する傾向
にある一方で、集積回路は微細化されるようになってき
たので、ウェハ上に被着する蒸着物の量を厳密に制御す
ることは重要な事項であるが、従来の装置では蒸着量の
コントロールの微調整ができない問題がある。
生しないという両者間のずれが不可避であった。特に、
ウェハが大口径化するにつれて蒸着源が大型化する傾向
にある一方で、集積回路は微細化されるようになってき
たので、ウェハ上に被着する蒸着物の量を厳密に制御す
ることは重要な事項であるが、従来の装置では蒸着量の
コントロールの微調整ができない問題がある。
本発明は、上記問題点を解決した安定な蒸着速度の制御
が可能な［煉着用装置を提供するもので、その手段は、
蒸着量一定の蒸着源と蒸着物を被着させる回転試料との
間に角度可変ばねをもった蒸着遮蔽部材を配置し、蒸着
量モニターの菫着世検知によって可変ばねの角度を制御
することを特徴とする蒸着用装置によってなされる。
が可能な［煉着用装置を提供するもので、その手段は、
蒸着量一定の蒸着源と蒸着物を被着させる回転試料との
間に角度可変ばねをもった蒸着遮蔽部材を配置し、蒸着
量モニターの菫着世検知によって可変ばねの角度を制御
することを特徴とする蒸着用装置によってなされる。
上記蒸着用装置は、どのような蒸着源を用いても禎密に
→着速度のコントロールを可能にした蒸着装置を提供す
ることを目的とするもので、蒸着源と試料との間に角度
可変なばねを多数枚もったメダ′８遮蔽部材を設け、遮
蔽部材のばねの傾きの状態によって蒸発源から出てきた
蒸発物の量をコントロールするものである。
→着速度のコントロールを可能にした蒸着装置を提供す
ることを目的とするもので、蒸着源と試料との間に角度
可変なばねを多数枚もったメダ′８遮蔽部材を設け、遮
蔽部材のばねの傾きの状態によって蒸発源から出てきた
蒸発物の量をコントロールするものである。
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。
。
第１図に本発明実施例の配置が斜視図で示され、同図に
おいて、１はヒータ２を配置した蒸発源（例えばるつぼ
）、３は図示しない駆動源に連結された回転軸４により
回転可能な試料（例えばウェハ）、５は蒸着遮蔽部材、
６は蒸着量モニター、をそれぞれ示す。
おいて、１はヒータ２を配置した蒸発源（例えばるつぼ
）、３は図示しない駆動源に連結された回転軸４により
回転可能な試料（例えばウェハ）、５は蒸着遮蔽部材、
６は蒸着量モニター、をそれぞれ示す。
蒸着遮蔽部材５は複数の可変はね７を備えたもので、こ
れら可変はねの配置は第２図の（ａｌと（ｂｌに示され
る。各はね７は短冊型のものであって、駆’ｆｄＪへ）
Ｌｉト８に連結され、かつ、駆動ベルト８によってその
角度を可変な如くに構成されている。
れら可変はねの配置は第２図の（ａｌと（ｂｌに示され
る。各はね７は短冊型のものであって、駆’ｆｄＪへ）
Ｌｉト８に連結され、かつ、駆動ベルト８によってその
角度を可変な如くに構成されている。
第２図（ａ）と（ｂ）に蒸発物質の流れと可変ばねの状
態との関係が示され、いずれの場合においても、蒸着源
からの蒸発物質は、ヒータへの通電量を一定にするよう
にして、蒸発させる。
態との関係が示され、いずれの場合においても、蒸着源
からの蒸発物質は、ヒータへの通電量を一定にするよう
にして、蒸発させる。
第２図＋ａ＋は大なる蒸着量が要求されるときの可変は
ね７の状態を示し、はねは駆動ヘルド８によって矢印９
で示される蒸着物質の流れをほとんど妨げることのない
角度（蒸着物質の流れ方向に対し小さい角度）に開いて
いる。
ね７の状態を示し、はねは駆動ヘルド８によって矢印９
で示される蒸着物質の流れをほとんど妨げることのない
角度（蒸着物質の流れ方向に対し小さい角度）に開いて
いる。
他方、第２図（ｂ＾には蒸着量を小にしたいときの可変
はね７の状態が示され、各はねは駆動ベルト８によって
蒸着物質の流れ方向に対しある角度（蒸着物質の流れ方
向に対し大なる角度）で配置され、茎着物質の流れの量
を少なくしている。
はね７の状態が示され、各はねは駆動ベルト８によって
蒸着物質の流れ方向に対しある角度（蒸着物質の流れ方
向に対し大なる角度）で配置され、茎着物質の流れの量
を少なくしている。
可変ばねの角度は、外部からヘルド８を駆動することに
よって変更させる。そして、試料３は前記した如く蒸着
中回転しているので、その面上には蒸着物が均一に被着
する。
よって変更させる。そして、試料３は前記した如く蒸着
中回転しているので、その面上には蒸着物が均一に被着
する。
第３図には本発明実施例の制ｊ３１１システムがブロッ
ク図式に示される。蒸着量モニター６で蒸発源１からの
茎着物の量を検知する。モニター６は例えば水晶振動子
で作り、＆ ７ｉｔ物がモニター６に付着すると、水晶
が重くなって振動子の発生する周波数が変更するので、
この周波数の変化を読んで汰発量を検知する。蒸着量が
多くなると、比較回路に予めインプントされた所定の数
値と比較し、はね駆動系１１に信号を出しそれに応じて
ヘルド８を駆動してはね７の角度を変える。比較回路に
は、時間と蒸着量とのシーフェンスをプログラム人力し
ておき、それに応じてはね駆動系１１に信号を出す構成
としてもよい。いずれにしても、蒸着量が大になるとベ
ルト８ではねの角度を小にしく第２図（，１１の状態）
、蒸着量が少なくなるとはねの角度を大にする（第２図
（ｂｌの状態）ことにより、試料に達する蒸着物質の量
が一定になるようにする。
ク図式に示される。蒸着量モニター６で蒸発源１からの
茎着物の量を検知する。モニター６は例えば水晶振動子
で作り、＆ ７ｉｔ物がモニター６に付着すると、水晶
が重くなって振動子の発生する周波数が変更するので、
この周波数の変化を読んで汰発量を検知する。蒸着量が
多くなると、比較回路に予めインプントされた所定の数
値と比較し、はね駆動系１１に信号を出しそれに応じて
ヘルド８を駆動してはね７の角度を変える。比較回路に
は、時間と蒸着量とのシーフェンスをプログラム人力し
ておき、それに応じてはね駆動系１１に信号を出す構成
としてもよい。いずれにしても、蒸着量が大になるとベ
ルト８ではねの角度を小にしく第２図（，１１の状態）
、蒸着量が少なくなるとはねの角度を大にする（第２図
（ｂｌの状態）ことにより、試料に達する蒸着物質の量
が一定になるようにする。
以上説明したように本発明によれば、試料上への蒸着物
の被着において、蒸発源のコントロールを行うことなく
蒸着速度がコントロール可能となるので、蒸着の歩留り
と信頼性向上に有効である。
の被着において、蒸発源のコントロールを行うことなく
蒸着速度がコントロール可能となるので、蒸着の歩留り
と信頼性向上に有効である。
なお、可変はねに付着する蒸着物は、例えばバッチ処理
の終った後に蒸着装置を清浄にするとき同時に清浄にす
ればよく、本発明の実施が作業性に影響を与えることは
防止される。
の終った後に蒸着装置を清浄にするとき同時に清浄にす
ればよく、本発明の実施が作業性に影響を与えることは
防止される。
第１図は本発明実施例の配置を示す図、第２図は本発明
にかかる可変ばねの角度の変化を示す図、第３図は本発
明実施例の制御システムを示す図である。 図中、１は蒸着源、２はヒータ、３は試料、４は回転軸
、５は蒸着遮蔽部材、６は蒸着量モニター、７は可変は
ね、８は駆動ベルト、９は蒸着物質の流れ方向、１０は
比較回路、１１ははね駆動系、をそれぞれ示す。 第１図
にかかる可変ばねの角度の変化を示す図、第３図は本発
明実施例の制御システムを示す図である。 図中、１は蒸着源、２はヒータ、３は試料、４は回転軸
、５は蒸着遮蔽部材、６は蒸着量モニター、７は可変は
ね、８は駆動ベルト、９は蒸着物質の流れ方向、１０は
比較回路、１１ははね駆動系、をそれぞれ示す。 第１図
Claims (1)
- 蒸着量一定の蒸着源と蒸着物を被着させる回転試料との
間に角度可変はねをもった蒸着遮蔽部材を配置し、蒸着
量モニターの蒸着量検知によって可変はねの角度を制御
することを特徴とする蒸着用装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20310484A JPS6179770A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 蒸着用装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20310484A JPS6179770A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 蒸着用装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6179770A true JPS6179770A (ja) | 1986-04-23 |
Family
ID=16468453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20310484A Pending JPS6179770A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 蒸着用装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6179770A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000178728A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-06-27 | Olympus Optical Co Ltd | 光学薄膜の製造装置及び光学薄膜の製造方法 |
| JP2004269988A (ja) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Canon Inc | スパッタ装置 |
-
1984
- 1984-09-28 JP JP20310484A patent/JPS6179770A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000178728A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-06-27 | Olympus Optical Co Ltd | 光学薄膜の製造装置及び光学薄膜の製造方法 |
| JP2004269988A (ja) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Canon Inc | スパッタ装置 |
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