JPS6175263A - 反応管カセツト - Google Patents
反応管カセツトInfo
- Publication number
- JPS6175263A JPS6175263A JP19578284A JP19578284A JPS6175263A JP S6175263 A JPS6175263 A JP S6175263A JP 19578284 A JP19578284 A JP 19578284A JP 19578284 A JP19578284 A JP 19578284A JP S6175263 A JPS6175263 A JP S6175263A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction tube
- tube cassette
- reaction
- cassette
- wear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
- B01L9/00—Supporting devices; Holding devices
- B01L9/06—Test-tube stands; Test-tube holders
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Clinical Laboratory Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野］
本発明は自動化分析装置、特に臨床検査用の自動化学分
析装置に使用する反応管カセットに関するものである。
析装置に使用する反応管カセットに関するものである。
〔発明の技術的背景］
近年、臨床検査における血液中の酸素成分の分析が病気
診断の重要な決め手となっている。
診断の重要な決め手となっている。
例えば、肝臓疾患の際、肝細胞より血液中に逸脱する酵
素、グルタル酸オキザロ酢酸トランスアミラーゼ（以下
ｒＧＯＴＪという）、ゲルタン酸ピルビン酸トランスア
ミラーゼ（以下ｒＧＰＴＪという）γ−グルタミル１〜
ランスペプチターゼ〈以下「γ−ＧＴＰＪという〉など
の検査を行ない、その検査結果が診断の１要な情報とな
ってきている。
素、グルタル酸オキザロ酢酸トランスアミラーゼ（以下
ｒＧＯＴＪという）、ゲルタン酸ピルビン酸トランスア
ミラーゼ（以下ｒＧＰＴＪという）γ−グルタミル１〜
ランスペプチターゼ〈以下「γ−ＧＴＰＪという〉など
の検査を行ない、その検査結果が診断の１要な情報とな
ってきている。
国際臨床化学連合（ＩＦＣＣ）の勧告により、酵素の測
定は濃度よりも活性値を求めるのが正しいとされている
。
定は濃度よりも活性値を求めるのが正しいとされている
。
酵素の活性値は一定の単位で表わされ、酵素一単位は至
適条件下で毎分１μｍｏｌの基質を変化させるために要
する酵素量として定義されている。
適条件下で毎分１μｍｏｌの基質を変化させるために要
する酵素量として定義されている。
酵素の活性値を測定する代表的なものとして、補酵素で
あるニコチンアミドアデニンヌクオチド還元型（以下ｒ
ＮＡＤＨ２Ｊという）を使う試薬系があり、その試薬と
血清を混合しＮＡＤＨ２の酸化による紫外域での光吸収
の変化を経時的にモニタし、活性値を求める紫外部反応
速度方法（以下「レート法」という）が知られている。
あるニコチンアミドアデニンヌクオチド還元型（以下ｒ
ＮＡＤＨ２Ｊという）を使う試薬系があり、その試薬と
血清を混合しＮＡＤＨ２の酸化による紫外域での光吸収
の変化を経時的にモニタし、活性値を求める紫外部反応
速度方法（以下「レート法」という）が知られている。
ところで、血清中の酵素の活性値は極めて低く、例えば
ＧＯＴは健康人で１０〜３０１Ｕ／ｍｌである（■Ｕは
国際単位）。
ＧＯＴは健康人で１０〜３０１Ｕ／ｍｌである（■Ｕは
国際単位）。
この活性値に相当するＮＡＤＨ２の３４０ｎｍにおける
吸光度変化は１分間で約０．００１〜０．００３ （Ａ
ｂ Ｓ＞であり、高精度の測定を行なうときは１分間以
上のモニタが必要となる。
吸光度変化は１分間で約０．００１〜０．００３ （Ａ
ｂ Ｓ＞であり、高精度の測定を行なうときは１分間以
上のモニタが必要となる。
この場合、１チヤンネルのディスクリート方式の自動化
学分析装置を用いれば、１時間当り６０検体しか処理で
きない。
学分析装置を用いれば、１時間当り６０検体しか処理で
きない。
また、酵素の正確な活性値を測定するためには、反応状
態をモニタし反応が直線的に進行していることを確認す
る必要があり、少なくとも数分の観測時間が望ましい。
態をモニタし反応が直線的に進行していることを確認す
る必要があり、少なくとも数分の観測時間が望ましい。
一方、近年臨床検査の検体数も項目数も増加しており、
多数の検体を短時間に処理することが要請されている。
多数の検体を短時間に処理することが要請されている。
［発明の背景技術とその問題点］
上述した要請に応えるべく多数の検体を多項目に亘って
処理する装置が市販されている。
処理する装置が市販されている。
例えば多チャンネルの反応ラインを持った大型の自動化
学分析装置とか、１チヤンネルで多項目の処理をする自
動化学分析装置である。
学分析装置とか、１チヤンネルで多項目の処理をする自
動化学分析装置である。
しかしながら、前者の場合、反応ライン毎に項目が固定
されており、しかも、反応液を反応容器から測光１！測
用のセルに移して測定するようにしているため、測定精
度を向上しようとすれば必然的に観測時間が長くなり検
体の処理速度が制限される欠点がある。
されており、しかも、反応液を反応容器から測光１！測
用のセルに移して測定するようにしているため、測定精
度を向上しようとすれば必然的に観測時間が長くなり検
体の処理速度が制限される欠点がある。
一方、後者の場合、上述した欠点は改良されている。即
も、円周上に並べた反応管を回転させながら直接観測し
、ざらに反応開始からその終了に至るまでの間一定周期
毎に反応管の観測を繰り返すようにしているため、１個
毎の反応管の観測時間は短くて済み測定精度を犠牲にせ
ずに検体の処理速度を速く、することができる。
も、円周上に並べた反応管を回転させながら直接観測し
、ざらに反応開始からその終了に至るまでの間一定周期
毎に反応管の観測を繰り返すようにしているため、１個
毎の反応管の観測時間は短くて済み測定精度を犠牲にせ
ずに検体の処理速度を速く、することができる。
しかしながら、−反応ラインでは多数の検体を処理する
ことに自ずと制限があり、天吊の検体を処理する場合円
周反応ラインのブロックを何組かビルトインする必要が
あり、このため大きなスペースが必要となる欠点がある
。
ことに自ずと制限があり、天吊の検体を処理する場合円
周反応ラインのブロックを何組かビルトインする必要が
あり、このため大きなスペースが必要となる欠点がある
。
出願人は、先にこのスペースの問題を解決した発明を特
願昭５９−８０７９４号として出願した。
願昭５９−８０７９４号として出願した。
この内容は、第２図に示すように、１は適当な公知の手
段により一定の温度、例えば、３７℃に保温されている
恒温槽であり、本実施例では恒温（費１の底部は金属製
のヒートプレートにより形成している。
段により一定の温度、例えば、３７℃に保温されている
恒温槽であり、本実施例では恒温（費１の底部は金属製
のヒートプレートにより形成している。
この恒温槽１内には、複数の反応管２をそれぞれ収容し
た反応管カセットＣ−１，Ｃ−２，・・・・・・Ｃ−２
０からなる反応管カセット列が並べられ、かつ、反応管
カセットＣ−１の上部及び反応管カセットＣ−１１の下
部にそれぞれ空白部ａ−ｂが形成されている。
た反応管カセットＣ−１，Ｃ−２，・・・・・・Ｃ−２
０からなる反応管カセット列が並べられ、かつ、反応管
カセットＣ−１の上部及び反応管カセットＣ−１１の下
部にそれぞれ空白部ａ−ｂが形成されている。
そして、空白部ａ及び反応管カセットＣ−１〜Ｃ−１０
により第１の反応ラインＲＬ１を、空白部す及び反応管
カセットＣ−１１〜Ｇ−２０により第２の反応ラインＲ
Ｌ２を形成するとともに、第１．第２の反応ラインＲＬ
Ｉ 、ＲＬ２の一端に位置する反応管カセット（反応管
カセットＣ−１０、反応管カセットＣ−２０）を、それ
ぞれ他方の空白部す、空白部ａへ順次移行させることに
より、各反応管カセットＣ−１〜Ｃ−２０を反応Ｉｆｆ
ｌ内で巡回させる反応ラインを形成している。
により第１の反応ラインＲＬ１を、空白部す及び反応管
カセットＣ−１１〜Ｇ−２０により第２の反応ラインＲ
Ｌ２を形成するとともに、第１．第２の反応ラインＲＬ
Ｉ 、ＲＬ２の一端に位置する反応管カセット（反応管
カセットＣ−１０、反応管カセットＣ−２０）を、それ
ぞれ他方の空白部す、空白部ａへ順次移行させることに
より、各反応管カセットＣ−１〜Ｃ−２０を反応Ｉｆｆ
ｌ内で巡回させる反応ラインを形成している。
反応ラインＲＬＩの一方の端部と前記空白部すとの間に
は光源３．レンズ４．５及び分光器６から成る測光部７
が設けられ、この一方の端部がら空白部すへ各反応管カ
セットＣ−１〜Ｃ−２０が順次移行するときにこれらが
測光部７の光路を横切り、反応管２に対する測光が行な
われる。
は光源３．レンズ４．５及び分光器６から成る測光部７
が設けられ、この一方の端部がら空白部すへ各反応管カ
セットＣ−１〜Ｃ−２０が順次移行するときにこれらが
測光部７の光路を横切り、反応管２に対する測光が行な
われる。
検体（例えば血清）のサンプリング、試薬の分注、反応
管の洗浄、乾燥を行なう装置は図示していないが、例え
ば、サンプリングは反応管カセットＣ−１の位置（反応
開始点）で、第１試薬の分注は反応管カセットＣ−２の
位置で、第２試薬の分注は反応管カセットＣ−９の位置
で、洗浄、乾燥は反応管カセットＣ−１７〜Ｃ−１９の
位置でそれぞれ行なうものである。
管の洗浄、乾燥を行なう装置は図示していないが、例え
ば、サンプリングは反応管カセットＣ−１の位置（反応
開始点）で、第１試薬の分注は反応管カセットＣ−２の
位置で、第２試薬の分注は反応管カセットＣ−９の位置
で、洗浄、乾燥は反応管カセットＣ−１７〜Ｃ−１９の
位置でそれぞれ行なうものである。
尚、前記各反応管カセットＣ−１〜Ｃ−２０は、第３図
に示すように伝導性の良い材料、例えば、アルミニュウ
ム等の金属材料で形成されている。
に示すように伝導性の良い材料、例えば、アルミニュウ
ム等の金属材料で形成されている。
８は、光路を形成する穴部、９は、反応管カセットＣを
移動させるためのビンと系合する溝である。
移動させるためのビンと系合する溝である。
しかしながら、このようなアルミニュウム等の比較的や
わらかい材料で形成された反応管カセットを恒温槽であ
るヒートプレートと接触した状態で高速で移動させると
、８１Ｍにより動きかにふくなると共に、カセットの摩
耗が起り、この摩耗からくるガタにより、カセットを測
光位置に正確に位置付けることができなくなる欠点が生
ずる。
わらかい材料で形成された反応管カセットを恒温槽であ
るヒートプレートと接触した状態で高速で移動させると
、８１Ｍにより動きかにふくなると共に、カセットの摩
耗が起り、この摩耗からくるガタにより、カセットを測
光位置に正確に位置付けることができなくなる欠点が生
ずる。
又、例えば、耐摩耗性のステンレス鋼材で機械加工する
ことが考えられるが、機械加工が容易でないためコスト
高′となり現実的でない。その他、鋼材で製作し、接触
面のみを焼入れを行い、表面に耐食性のコーティングを
施す方法があるが、工程が繁雑であり量産性に乏しい欠
点がある。
ことが考えられるが、機械加工が容易でないためコスト
高′となり現実的でない。その他、鋼材で製作し、接触
面のみを焼入れを行い、表面に耐食性のコーティングを
施す方法があるが、工程が繁雑であり量産性に乏しい欠
点がある。
［発明の目的］
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、耐摩耗性
、耐食性、熱伝導性、加工性に優れた反応管カセットを
提供することを目的とするものである。
、耐食性、熱伝導性、加工性に優れた反応管カセットを
提供することを目的とするものである。
［発明の概要］
上記目的を達成するための本発明の概要は、複数の反応
管を収容した反応管カセット列により反応ラインを形成
するとともに、前記反応管に光束を照射する測光部を設
け、主に反応管カセットの底面より熱伝導により、反応
管カセットを恒温するような反応測光系を有する自動化
学分析装置において、前記光束の通路を設けるように熱
導伝体の金属で形成するとともに、接触摺動面に耐摩耗
性部材、例えばセラミックスまたはセラミックス系複合
材料を設けたことを特徴とするものである。
管を収容した反応管カセット列により反応ラインを形成
するとともに、前記反応管に光束を照射する測光部を設
け、主に反応管カセットの底面より熱伝導により、反応
管カセットを恒温するような反応測光系を有する自動化
学分析装置において、前記光束の通路を設けるように熱
導伝体の金属で形成するとともに、接触摺動面に耐摩耗
性部材、例えばセラミックスまたはセラミックス系複合
材料を設けたことを特徴とするものである。
［発明の実施例］
以下本発明の実施例を第１図を参照して説明する。第１
図（ａ ）は本発明の一実施例を示す斜視図、同図（ｂ
）は側面図、同図（Ｃ’）は（ｂ ）のＡ−Ａ’線で切
断した断面図である。
図（ａ ）は本発明の一実施例を示す斜視図、同図（ｂ
）は側面図、同図（Ｃ’）は（ｂ ）のＡ−Ａ’線で切
断した断面図である。
同図において、Ｃは反応管カセットで、熱導電性、加工
性の良い、例えばアルミニウム、銅などの材料から成り
、反応管２を保持する穴部、および側面に測光時の光路
となる穴部８、さらに反応管セットＣの側面下方に反応
管カセットＣを移動させるためのビン（図示せず）と系
合する溝部９を各々設ける。
性の良い、例えばアルミニウム、銅などの材料から成り
、反応管２を保持する穴部、および側面に測光時の光路
となる穴部８、さらに反応管セットＣの側面下方に反応
管カセットＣを移動させるためのビン（図示せず）と系
合する溝部９を各々設ける。
この反応管カセットＣの両側面ならびに底面、すなわも
反応管カセットＣと反応管カセットＣ１あるいは反応管
カセットＣと恒温槽１であるヒートプレートとの接触！
ご動部分に熱導伝性、耐食性に優れた耐摩耗性部材１０
、例えばセラミックスまたはセラミックスを含んだ複合
材料をコーティングする。
反応管カセットＣと反応管カセットＣ１あるいは反応管
カセットＣと恒温槽１であるヒートプレートとの接触！
ご動部分に熱導伝性、耐食性に優れた耐摩耗性部材１０
、例えばセラミックスまたはセラミックスを含んだ複合
材料をコーティングする。
このセラミックスとしては、例えばアルミナ（Ａｌ２Ｏ
２＞、酸化ジルコニア（Ｚｒ０２）、カーボランダム（
Ｃ）、炭化硅素（・′３ｉｃ）、窒化アルミ（ＡＩＮ）
、炭化はう素（Ｂ４ Ｃ）、窒化硅素（Ｓｉ３Ｎ４）等
が考えられる。
２＞、酸化ジルコニア（Ｚｒ０２）、カーボランダム（
Ｃ）、炭化硅素（・′３ｉｃ）、窒化アルミ（ＡＩＮ）
、炭化はう素（Ｂ４ Ｃ）、窒化硅素（Ｓｉ３Ｎ４）等
が考えられる。
これらの中で、特に熱導伝性に優れているものは、炭化
硅素（ＳｉＣ）、窒化アルミ（ＡＩＮ）、カーボランダ
ム（Ｃ）であり、例えば炭化硅素（ＳｉＣ）の熱伝導は
、 ０、５２ （Ｃａｔ／ａｍ−ｓ −”Ｃ） テ、金属ニ
匹敵するものである。
硅素（ＳｉＣ）、窒化アルミ（ＡＩＮ）、カーボランダ
ム（Ｃ）であり、例えば炭化硅素（ＳｉＣ）の熱伝導は
、 ０、５２ （Ｃａｔ／ａｍ−ｓ −”Ｃ） テ、金属ニ
匹敵するものである。
これらのセラミックスは、プラズマ溶剤加工により、金
属の表面に任意の厚さでコーティングすることができる
。
属の表面に任意の厚さでコーティングすることができる
。
セラミックス複合材料てしては、例えばニッケル・アル
ミ、タングステンカーバイド複合体。
ミ、タングステンカーバイド複合体。
ニッケル・ボロン複合体、セラミ複合体系セラミックス
る。
る。
また、セラミックス系の分散メッキ（セラミックスコン
ポジットメッキ）を表面に施すこともできる。例えば、
ボロンを混入したニッケル分散メッキが適当である。
ポジットメッキ）を表面に施すこともできる。例えば、
ボロンを混入したニッケル分散メッキが適当である。
尚、本実施例の場合、セラミックスのコーティングを施
しである部分は、反応管カセットの側面および底面の一
部分のみであるが、反応管カセット全面を覆うようにコ
ーティングすることも可能である。
しである部分は、反応管カセットの側面および底面の一
部分のみであるが、反応管カセット全面を覆うようにコ
ーティングすることも可能である。
［発明の効果］
以上詳述した本発明によれば、反応管カセットと反応管
カセットあるいは、反応管カセットとヒートプレート等
、接触した状態で高速で摺動移動させても、反応管カセ
ットならびに、セラミックス摩耗しないで、ガタ等の発
生を防止することができるので、反応管カセットを正確
に測光位置へ位置付けることができ、高精度の測定が可
能な反応管理カセットを提供することができる。
カセットあるいは、反応管カセットとヒートプレート等
、接触した状態で高速で摺動移動させても、反応管カセ
ットならびに、セラミックス摩耗しないで、ガタ等の発
生を防止することができるので、反応管カセットを正確
に測光位置へ位置付けることができ、高精度の測定が可
能な反応管理カセットを提供することができる。
第１図は、本発明の一実施例を示す説明図、第２図は、
本発明の反応管カセットを使用する自動化学分析装置の
一実施例を示す説明図、第３図は従事の反応管カセット
を示す説明図である。 ２・・・反応管、８・・・光束用穴、９・・・移動用溝
。 １０・・・耐摩粍性部材 Ｃ・・・反応管カセット 代理人 弁理士 則 近 憲 氾 （ほか１名）
本発明の反応管カセットを使用する自動化学分析装置の
一実施例を示す説明図、第３図は従事の反応管カセット
を示す説明図である。 ２・・・反応管、８・・・光束用穴、９・・・移動用溝
。 １０・・・耐摩粍性部材 Ｃ・・・反応管カセット 代理人 弁理士 則 近 憲 氾 （ほか１名）
Claims (2)
- （１）複数の反応管を収容した反応管カセット列により
反応ラインを形成するとともに、前記反応管に光束を照
射する測光部を設け、反応管カセットの底面より熱伝導
により、反応管カセットを恒温するような反応測光系を
有する自動化学分析装置において、反応管を保持する穴
部と前記光束の通路を設けるように熱導伝体で形成する
とともに、接触摺動面に耐摩耗性部材を設けて成る反応
管カセット。 - （２）前記耐摩耗性部材はセラミックスまたはセラミッ
クス系複合材料であることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の反応管カセット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19578284A JPS6175263A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 反応管カセツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19578284A JPS6175263A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 反応管カセツト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6175263A true JPS6175263A (ja) | 1986-04-17 |
Family
ID=16346873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19578284A Pending JPS6175263A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 反応管カセツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6175263A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63170761U (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-07 | ||
| WO2004095009A1 (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-04 | Moritex Corporation | 光学検査装置 |
| JP2015169615A (ja) * | 2014-03-10 | 2015-09-28 | 株式会社東芝 | 自動分析装置用反応管、反応管の洗浄方法および自動分析装置 |
-
1984
- 1984-09-20 JP JP19578284A patent/JPS6175263A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63170761U (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-07 | ||
| WO2004095009A1 (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-04 | Moritex Corporation | 光学検査装置 |
| JP2015169615A (ja) * | 2014-03-10 | 2015-09-28 | 株式会社東芝 | 自動分析装置用反応管、反応管の洗浄方法および自動分析装置 |
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