JPS6172727A - スチレンの製造方法 - Google Patents
スチレンの製造方法Info
- Publication number
- JPS6172727A JPS6172727A JP59194492A JP19449284A JPS6172727A JP S6172727 A JPS6172727 A JP S6172727A JP 59194492 A JP59194492 A JP 59194492A JP 19449284 A JP19449284 A JP 19449284A JP S6172727 A JPS6172727 A JP S6172727A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- yield
- styrene
- catalyst
- phenylethyl alcohol
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規なスチレンの製造方法に関する。
ポリスチレンは最も広く利用されている汎用プラスチッ
クのひとつである。その七ツマ−であるスチレンは現在
大部分がエチルベンゼンの脱水素によって製造されてい
る。
クのひとつである。その七ツマ−であるスチレンは現在
大部分がエチルベンゼンの脱水素によって製造されてい
る。
スチレンの製造方法としてはこの他に肉けい酸の蒸留、
アセトフェノンの還元脱水、塩化エチルベンゼンの脱塩
酸、フェニルエチルアルコールの脱水などの方法がある
が、これら各種方法のうちフェニルエチルアルコールの
脱水による方法はエチルベンゼン脱水素法に比べて高温
を必要とせず、エネルギーコスト面において有利である
。
アセトフェノンの還元脱水、塩化エチルベンゼンの脱塩
酸、フェニルエチルアルコールの脱水などの方法がある
が、これら各種方法のうちフェニルエチルアルコールの
脱水による方法はエチルベンゼン脱水素法に比べて高温
を必要とせず、エネルギーコスト面において有利である
。
そしてフェニルエチルアルコールの脱水反応法ではその
触媒として苛性カリあるいはチタニアを用 ′いる
方法が知られている。
触媒として苛性カリあるいはチタニアを用 ′いる
方法が知られている。
〔発明が解決しようとする従来技術の問題点〕しかしな
がら、たとえば苛性カリ触媒下でβ−フェニルエチルア
ルコールを脱水する場合には、スチレン収率は約１０％
と、エチルベンゼン脱水素の場合に比べて収率が低く、
また触媒である苛性カリとの分離も必要である。
がら、たとえば苛性カリ触媒下でβ−フェニルエチルア
ルコールを脱水する場合には、スチレン収率は約１０％
と、エチルベンゼン脱水素の場合に比べて収率が低く、
また触媒である苛性カリとの分離も必要である。
またチタニア触媒は苛性カリの様に分離が困難ではない
が、やはり反応の選択性及び収率が低い。
が、やはり反応の選択性及び収率が低い。
７ヱニルエチルアルコールを脱水してスチレンを製造す
る方法において、該脱水反応をゼオライト系触媒の存在
下で行なう。
る方法において、該脱水反応をゼオライト系触媒の存在
下で行なう。
フェニルエチルアルコールには下記（Ｉ）式に示すα型
のものと（ｆｆ）式に示すβ型のものとがあり、いずれ
も脱水反応を経由して（１）式に示すスチレンとなる。
のものと（ｆｆ）式に示すβ型のものとがあり、いずれ
も脱水反応を経由して（１）式に示すスチレンとなる。
Ｈ
Ｈ
上記脱水反応は先に述べたように苛性カリやチタニアを
触媒に用いても可能であるが、本発明者らは上記脱水反
応にゼオライト系触媒を用いれば従来の触媒に比べて選
択性および収率が大幅に向上することを見い出した。
触媒に用いても可能であるが、本発明者らは上記脱水反
応にゼオライト系触媒を用いれば従来の触媒に比べて選
択性および収率が大幅に向上することを見い出した。
ここでゼオライト系触媒とはチタニア等とともに固体酸
触媒の一種であり、結晶性シリカ−アルミナ触媒の総称
である。
触媒の一種であり、結晶性シリカ−アルミナ触媒の総称
である。
反応はフェニルエチルアルコールを気化させ、ゼオライ
ト表面に接触させることによって行なう。
ト表面に接触させることによって行なう。
この時の温度はｌＯＯ〜ＪＯＯ′Ｃが望ましく、／！；
０−２５０°Ｃの範囲内がより好ましい。また圧力は常
圧でよい。
０−２５０°Ｃの範囲内がより好ましい。また圧力は常
圧でよい。
本発明によれば、後述の試験例に示されるようにフェニ
ルエチルアルコール脱水反応のスチレン収率をエチルベ
ンゼン脱水素反応と同等あるいはそれ以上の高率にする
ことができ、またエチルベンゼン脱水素法に比べて高温
を必要とせずエネルギーコスト面において非常に有利で
あり、これまで余りかえりみられることのなかったフェ
ニルエチルアルコール脱水反応によるスチレン製造法が
工業的に価値あるものとなった。
ルエチルアルコール脱水反応のスチレン収率をエチルベ
ンゼン脱水素反応と同等あるいはそれ以上の高率にする
ことができ、またエチルベンゼン脱水素法に比べて高温
を必要とせずエネルギーコスト面において非常に有利で
あり、これまで余りかえりみられることのなかったフェ
ニルエチルアルコール脱水反応によるスチレン製造法が
工業的に価値あるものとなった。
本発明方法を実施するに好適な装置の例を牙／図に示す
。
。
原料のフェニルエチルアルコールは／のマイクロフィー
ダーから気化室２に送られ、ここでヒーター３により加
熱されて気化した後、ボンペグからガス供給パイプライ
ンよおよび流量計乙を経て送給される不活性ガスの流れ
に乗って反応管７内に入る。反応管７内には、ゼオライ
ト系触媒ざが充填されており、この反応管７は恒温槽ヲ
内に設置してあって適当な反応温度に保たれている。
ダーから気化室２に送られ、ここでヒーター３により加
熱されて気化した後、ボンペグからガス供給パイプライ
ンよおよび流量計乙を経て送給される不活性ガスの流れ
に乗って反応管７内に入る。反応管７内には、ゼオライ
ト系触媒ざが充填されており、この反応管７は恒温槽ヲ
内に設置してあって適当な反応温度に保たれている。
不活性ガス流とともに反応管７内に入った７エ二ルエチ
ルアルコールは、ゼオライト系触媒ｒ上で脱水反応を経
由してスチレンとなり、反応管７の下部から取り出され
る。
ルアルコールは、ゼオライト系触媒ｒ上で脱水反応を経
由してスチレンとなり、反応管７の下部から取り出され
る。
取り出された気体のスチレンは、気体のままで利用する
かまたは図外の凝縮器に送りここで液化させた後、液体
状態で使用、貯蔵等を行なう。
かまたは図外の凝縮器に送りここで液化させた後、液体
状態で使用、貯蔵等を行なう。
触Ｗ化学■製のシリカアルミナ触媒Ｏ８７，−２！；０
を錠剤成形器でベレットにした後、粉砕１分級して３２
〜６０メツシユの粒状にし、５００℃で３時間空気中で
焼成した。
を錠剤成形器でベレットにした後、粉砕１分級して３２
〜６０メツシユの粒状にし、５００℃で３時間空気中で
焼成した。
この焼成したシリカアルミナ触媒を牙１図の反応管７内
に充填し、２５０’Ｃで７時間窒素ガスを流して乾燥さ
せた。
に充填し、２５０’Ｃで７時間窒素ガスを流して乾燥さ
せた。
その後、所定の反応温度に保持した反応管７内にマイク
ロフィーダーｌからα−７二二ルエチルアルコールを供
給するとともに、ボンペグから窒素ガスを送給して１０
％の濃度に希釈した。
ロフィーダーｌからα−７二二ルエチルアルコールを供
給するとともに、ボンペグから窒素ガスを送給して１０
％の濃度に希釈した。
反応管７出口から生成ガスが排出される時間を反応開始
時間として、所定時間経過後の生成ガスをガスクロマト
グラフで分析した。
時間として、所定時間経過後の生成ガスをガスクロマト
グラフで分析した。
反応条件および測定結果をオ１表に示す。
また、比較例として、脱水触媒にＫＨＳＯ３を使用し以
下の実験を行なった。
下の実験を行なった。
３０ｍ１の三ノロ７ラスフに脱水触媒のＫＨＳＯ４０，
７ｇ、重合禁止剤としてｐ −ｔｅｒｔ−ブチルカテコ
ール０．０２７ を入れてオイルパスに浸し、これに５
ｅｃ−７エネチルアルフール≠、７りを入れた滴下ロー
トと蒸留塔を取りつけた。蒸留塔の先にはリービッヒ冷
却管及び留出分を受けるフラスコを取りつけた。このフ
ラスコは氷浴しておき、中にＰ −ｔｅｒｔ−ブチルカ
テコールを入れておいた。
７ｇ、重合禁止剤としてｐ −ｔｅｒｔ−ブチルカテコ
ール０．０２７ を入れてオイルパスに浸し、これに５
ｅｃ−７エネチルアルフール≠、７りを入れた滴下ロー
トと蒸留塔を取りつけた。蒸留塔の先にはリービッヒ冷
却管及び留出分を受けるフラスコを取りつけた。このフ
ラスコは氷浴しておき、中にＰ −ｔｅｒｔ−ブチルカ
テコールを入れておいた。
系を／２０ｍｍＨｑに減圧し、バス温を２１０−２；０
℃とし、この中にアルコールをｊ、５時間で滴下した。
℃とし、この中にアルコールをｊ、５時間で滴下した。
オ ｌ 表
触媒重量／ｙ応物質供給速度 を表わす。
蒸留塔温度７０−♂Ｏ′Ｃでスチレンが留出してきた。
滴下終了後３０分の後減圧度を、２０ｍｍＨｇとし、残
りを留出させた。
りを留出させた。
濾液をエーテルで洗浄し、芒硝で乾燥してから芒硝を除
去し、ロータリーエバポレーターでエーテルを除去して
から窒素気流下／１ｍｍＨりで減圧蒸留（４（ｊ〜≠６
°Ｃ）するとスチレン２．０７ｇｏ％）を得た。
去し、ロータリーエバポレーターでエーテルを除去して
から窒素気流下／１ｍｍＨりで減圧蒸留（４（ｊ〜≠６
°Ｃ）するとスチレン２．０７ｇｏ％）を得た。
以上の結果から本発明方法によれば、フェニルエチルア
ルコールを脱水してスチレンを得る方法において従来法
に比べ極めて高い収率が得られることが明らかである。
ルコールを脱水してスチレンを得る方法において従来法
に比べ極めて高い収率が得られることが明らかである。
オ１図は本発明の一実施例を模式的に示す断面図である
。 ／・・・マイクロフィーダー ２・・・気化室３・・
・ヒーター グ・・ボンベ ｊ・・・パイブンイン乙・
・・流量計 ７・・・反応管 ！・・触媒 ワ・・・恒
温槽筒１し ［− ・ 北−１ ４′Ｉ Ｉ、、ＩＩＩ
。 ／・・・マイクロフィーダー ２・・・気化室３・・
・ヒーター グ・・ボンベ ｊ・・・パイブンイン乙・
・・流量計 ７・・・反応管 ！・・触媒 ワ・・・恒
温槽筒１し ［− ・ 北−１ ４′Ｉ Ｉ、、ＩＩＩ
Claims (1)
- フェニルエチルアルコールを脱水してスチレンを製造す
る方法において、該脱水反応をゼオライト系触媒の存在
下で行なうことを特徴とするスチレンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59194492A JPS6172727A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | スチレンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59194492A JPS6172727A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | スチレンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6172727A true JPS6172727A (ja) | 1986-04-14 |
Family
ID=16325419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59194492A Pending JPS6172727A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | スチレンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6172727A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2585016A1 (fr) * | 1985-06-21 | 1987-01-23 | Kureha Chemical Ind Co Ltd | Procede de deshydratation en phase liquide d'un alcool aromatique |
| US4929786A (en) * | 1987-10-30 | 1990-05-29 | Basf Aktiengesellschaft | Preparation of 1-aryl-1-alkenes |
| JPH02196753A (ja) * | 1989-01-26 | 1990-08-03 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 不飽和カルボン酸エステルの製造方法 |
| JPH0387878A (ja) * | 1989-08-31 | 1991-04-12 | Canon Inc | 画像形成装置 |
| WO1999042425A1 (en) * | 1998-02-18 | 1999-08-26 | Shell Internationale Research Maatschappij B.V. | Process for the preparation of styrenes |
| CN110776389A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-02-11 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种制备苯乙烯的复配型催化剂及方法 |
-
1984
- 1984-09-17 JP JP59194492A patent/JPS6172727A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2585016A1 (fr) * | 1985-06-21 | 1987-01-23 | Kureha Chemical Ind Co Ltd | Procede de deshydratation en phase liquide d'un alcool aromatique |
| US4929786A (en) * | 1987-10-30 | 1990-05-29 | Basf Aktiengesellschaft | Preparation of 1-aryl-1-alkenes |
| JPH02196753A (ja) * | 1989-01-26 | 1990-08-03 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 不飽和カルボン酸エステルの製造方法 |
| JPH0387878A (ja) * | 1989-08-31 | 1991-04-12 | Canon Inc | 画像形成装置 |
| WO1999042425A1 (en) * | 1998-02-18 | 1999-08-26 | Shell Internationale Research Maatschappij B.V. | Process for the preparation of styrenes |
| CN110776389A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-02-11 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种制备苯乙烯的复配型催化剂及方法 |
| CN110776389B (zh) * | 2019-11-29 | 2022-08-05 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种制备苯乙烯的复配型催化剂及方法 |
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