JPS6172682A - Zirconia substrate for magnetic head - Google Patents

Zirconia substrate for magnetic head

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JPS6172682A
JPS6172682A JP59192356A JP19235684A JPS6172682A JP S6172682 A JPS6172682 A JP S6172682A JP 59192356 A JP59192356 A JP 59192356A JP 19235684 A JP19235684 A JP 19235684A JP S6172682 A JPS6172682 A JP S6172682A
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magnetic
magnetic head
substrate
zirconia substrate
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小池 義治
勝彦 古城
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は垂直フロッピー用ヘッドなどに使用される磁性
薄膜を成膜するのに好適な非磁性基板材料に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a non-magnetic substrate material suitable for forming a magnetic thin film used in vertical floppy heads and the like.

(従来の技術) 近年、磁気記録の分野においては記録密度の高密度化が
強く要望されており、記録媒体におけるビット面積の減
少に伴なう反磁界の影響が大きい面内記録方式では高密
度化に限界があることから、それに代って垂直磁気記録
方式が注目を浴びている。
(Prior art) In recent years, there has been a strong demand for higher recording densities in the field of magnetic recording. Due to the limitations of the magnetic recording system, the perpendicular magnetic recording system is attracting attention as an alternative.

垂直磁気記録用記録媒体としては、塗布型ではC軸異方
性の大きい六方晶13aフェライト、薄膜型ではGO−
Or磁性膜などが有望視され開発が進められている。
As recording media for perpendicular magnetic recording, coating type hexagonal 13a ferrite with large C-axis anisotropy, and thin film type GO-
Or magnetic films are seen as promising and are being developed.

一方、磁気ヘッドに関しても従来のフェライトコアから
形成された磁気ヘッドでは対応できないため、新たな構
成の磁気ヘッドの開発が進められている。垂直フロッピ
ー用ヘッドでは、コアとしてco −Nb−Zr系材料
を用いたものが有望視されている。これは、Go−Zr
にNbを添加することにより飽和磁束密度は低下するも
のの、透磁率が上昇するため、総合的な意味で磁気特性
を改善したものであるが、現在では、ガラス等の非磁性
基板の上にスパッタリングによってCo −Nb −Z
r fJを成膜し、ボンディングによってギャップ部を
形成する方式のものが発明され実用化されている。また
、Go −Nb−Zr膜だけでは磁束密度が不足するた
めバックアツプ材としてフェライトを使用することも多
いが、いずれにしろフロッピーディスク面と対向する面
には非磁性基板を使用せざるを得ない。しかしながら、
現在用いられているガラスでは耐摩耗性あるいは摺動特
性の面で問題点がある。そのため、ガラス以外の新たな
非磁性基板が求められている。
On the other hand, since conventional magnetic heads formed from ferrite cores are not compatible with magnetic heads, development of magnetic heads with new configurations is underway. For vertical floppy heads, those using a co-Nb-Zr material as the core are considered promising. This is Go-Zr
By adding Nb, the saturation magnetic flux density decreases, but the magnetic permeability increases, so the magnetic properties are improved in a comprehensive sense, but currently sputtering on non-magnetic substrates such as glass by Co-Nb-Z
A method has been invented and put into practical use in which r fJ is formed into a film and a gap portion is formed by bonding. Furthermore, since the Go-Nb-Zr film alone lacks magnetic flux density, ferrite is often used as a backup material, but in any case, a non-magnetic substrate must be used on the surface facing the floppy disk surface. do not have. however,
Currently used glasses have problems in terms of wear resistance or sliding properties. Therefore, a new non-magnetic substrate other than glass is required.

(発明が解決しようとする問題点) 上述したように垂直フロッピーヘッド用の非磁性基板に
おいては、その上に直接Co −Nb −Zrlllを
成膜するため、次のような特性を満足する必要がある。
(Problems to be Solved by the Invention) As mentioned above, in the case of a non-magnetic substrate for a vertical floppy head, since a Co-Nb-Zrll film is directly formed thereon, it is necessary to satisfy the following characteristics. be.

第1に熱膨張係数がGo −Nb −Zr II!Jの
100’     XIO℃ と同等であることが必要
である。基板材と薄膜との熱膨張係数差があまり大きい
と、成膜後の冷却中に膜の剥離1割れといった問題点を
生じる。そのため熱膨張係数差は大きくとも±10xi
o’℃−′、望ましくは±5X10−7℃−′であるこ
とが必要である。
First, the coefficient of thermal expansion is Go -Nb-Zr II! It is necessary that the temperature is equivalent to 100'XIO°C of J. If the difference in thermal expansion coefficient between the substrate material and the thin film is too large, problems such as peeling and cracking of the film occur during cooling after film formation. Therefore, the difference in thermal expansion coefficient is at most ±10xi
o'°C-', preferably ±5X10-7°C-'.

第2に直接成膜されるため基板の表面状態が極めて重1
であり、ボアは多くとも1%以内であること、また、表
面粗さ、微小うねりなどもできるだけ小ざいことが望ま
れる。
Second, since the film is directly deposited, the surface condition of the substrate is extremely sensitive.
Therefore, it is desirable that the bore size be within 1% at most, and that the surface roughness and minute waviness be as small as possible.

第3に摺動中にフロッピーディスクを傷つけないこと、
すなわち摺動特性が良好なことが求められる。
Thirdly, do not damage the floppy disk during sliding.
In other words, good sliding properties are required.

第4にヘッド形状に加工する際の加工性が良好なことが
求められる。
Fourthly, good workability is required when processing into a head shape.

本発明は、上記基板としての要求特性を満足する磁気ヘ
ッド用セラミックス基板を提供することを目的とするも
のである。
An object of the present invention is to provide a ceramic substrate for a magnetic head that satisfies the above-mentioned required characteristics for the substrate.

(問題点を解決するための手段) 本発明は、上記目的を達成するために、酸化イツトリウ
ムを10〜30Wj%、酸化アルミニウムを0.5〜1
0wt%、 Mn 02 、 Tf 02 、 S i
 02 Rよびl”e 20sのうちの少なくとも1種
以上を0.2〜10wt%含有し、残部が実質的に酸化
ジルコニウムであることを特徴とする磁気ヘッド用ジル
コニア基板である。
(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention contains 10 to 30 Wj% of yttrium oxide and 0.5 to 1% of aluminum oxide.
0wt%, Mn 02 , Tf 02 , Si
This is a zirconia substrate for a magnetic head, characterized in that it contains 0.2 to 10 wt% of at least one of 02R and l"e20s, and the remainder is substantially zirconium oxide.

本発明は、安定化ジルコニアを基板材料として用いるこ
とにより、上記第1.第3の要求特性を満足することを
見出したことにより成されたものである。すなわち、酸
化ジルコニウム(Zr 02 )の熱膨張係数は酸化イ
ツトリウム(Y203 ) ffiによっても多少変化
するが、95〜100X10’℃であり、Qo −Nb
−Zr膜を成膜した場合の密着性は非常に良好である。
The present invention uses stabilized zirconia as a substrate material, thereby achieving the above-mentioned first aspect. This was achieved by discovering that the third required characteristic is satisfied. That is, the thermal expansion coefficient of zirconium oxide (Zr 02 ) varies somewhat depending on yttrium oxide (Y203 ) ffi, but it is 95 to 100×10'°C, and Qo -Nb
-The adhesion when the Zr film is formed is very good.

また、Zr 02は他の酸化アルミニウム(Al 20
3)等のセラミックスに比べ摺動特性に極めて優れてお
り、耐摩耗性もまた良好である。
Moreover, Zr 02 is other aluminum oxide (Al 20
It has extremely superior sliding properties compared to ceramics such as 3), and also has good wear resistance.

Zr 02は周知の通り、既存の用途として大きく分け
て2つある。ひとつは微細なzrO2粉末に少ffi+
7)MgO、Ca O、Y 203 等(D安定化剤を
添加して高温層である正方品をV温まで残留させ、その
応力誘起変態により高強度・強靭性を得る部分安定化ジ
ルコニアである。もうひとつは安定化剤を多山に添加し
て高温における酸素イオン尋電性を利用した酸素センサ
ーなどに使用される安定化ジルコニアである。このよう
に安定化剤の量によって、Zr 02の性質は大きく変
化する。
As is well known, Zr 02 has two existing uses. One is to add a small amount of ffi+ to fine zrO2 powder.
7) MgO, CaO, Y203, etc. (partially stabilized zirconia that adds a D stabilizer to allow the high temperature layer of the square product to remain up to V temperature and obtains high strength and toughness through stress-induced transformation) The other type is stabilized zirconia, which is used in oxygen sensors that utilize oxygen ion conductivity at high temperatures by adding a large amount of stabilizer.In this way, depending on the amount of stabilizer, the Properties vary greatly.

部分安定化ZrO2では結晶粒は微細であり、また容易
に高密度品を得られるが、一方では切削時の抵抗が大き
すぎるため基板材料としては第4の加工性が良好という
要求特性に反するため不適当である。一方、立方晶が主
体の安定化ジルコニアでは、加工性は部分安定化ジルコ
ニアに比較して格段に改善されるが、立方晶は粒成長を
おこしやすく粒内にボアが残るため、高密度品が得られ
にくいという欠点がある。
In partially stabilized ZrO2, the crystal grains are fine and high density products can be easily obtained, but on the other hand, the resistance during cutting is too large, which violates the fourth requirement of good workability as a substrate material. It's inappropriate. On the other hand, the workability of stabilized zirconia, which is mainly composed of cubic crystals, is significantly improved compared to partially stabilized zirconia, but cubic crystals tend to cause grain growth and leave bores inside the grains, so high-density products cannot be used. The disadvantage is that it is difficult to obtain.

本発明においては安定化ジルコニアにMnO2゜T; 
02.s;02.Fe2O3などの焼結助剤を添加し、
かつ常圧焼結の後に熱間静水圧プレス(ト11P)処理
を併用することにより相対密度99%以上の高密度化を
達成しえたものである。すなわち、これらの酸化物はい
ずれもZr 02中に固溶し、ZrO2の焼結を促進す
るため、高密度化に効果がある。
In the present invention, stabilized zirconia contains MnO2°T;
02. s;02. Adding sintering aids such as Fe2O3,
Moreover, by using hot isostatic pressing (T11P) treatment after pressureless sintering, it was possible to achieve a high density with a relative density of 99% or more. That is, all of these oxides form a solid solution in ZrO2 and promote sintering of ZrO2, so they are effective in increasing the density.

一方、上記酸化物の添加は粒成長を促進するため、粒内
に大きな消滅できないボアが残存する可能性がある。そ
のため、本発明では、Zr 02と固溶しないAl2O
3を添加し、その分散によって立方晶ZrO2の粒成長
を抑制する。このように本発明においてはAl2O3と
焼結助剤を併用することにより、焼結促進と粒成長抑制
の両方の効果が見られるため、常圧焼結のみでも相対密
度96〜97%程度の焼結体が得られる。これをさらに
HIPすることにより、相対密度99%以上を達成でき
たものである。
On the other hand, since the addition of the above-mentioned oxide promotes grain growth, there is a possibility that large bores that cannot be eliminated remain within the grains. Therefore, in the present invention, Al2O which does not form a solid solution with Zr02 is used.
3 is added, and its dispersion suppresses grain growth of cubic ZrO2. In this way, in the present invention, by using Al2O3 and a sintering aid in combination, the effects of both promoting sintering and suppressing grain growth can be seen, so even pressureless sintering alone can achieve a sintered density of about 96 to 97%. Solids are obtained. By further HIPing this, a relative density of 99% or more was achieved.

また本発明において、望ましい効果を得るためには、以
下に述べるように、組成、焼結条件等を所定の範囲内に
選択することが必要である。安定化剤のY20aの添加
mは10〜30Wj%であること、)、   が好まし
いが、その理由はi owt%未満では残留正方品が存
在するため切削抵抗が大きくなり、一方、Y203量が
30wt%を越えると焼結密度が上がりにくくなること
、及び立方晶にY42r3012などが析出し摺動特性
に悪影響を及ぼすからである。
Furthermore, in the present invention, in order to obtain desired effects, it is necessary to select the composition, sintering conditions, etc. within predetermined ranges, as described below. It is preferable that the amount of Y20a added as a stabilizer is 10 to 30 Wj%. The reason for this is that if the amount of Y203 is less than i owt%, residual square pieces will be present, resulting in a large cutting force. %, it becomes difficult to increase the sintered density, and Y42r3012 and the like precipitate in the cubic crystals, which adversely affects the sliding properties.

Al2O3の添加量は0.5〜10wt%が望ましい。The amount of Al2O3 added is preferably 0.5 to 10 wt%.

これはo、swt%未満ではzrO2中に分散して結晶
粒成長を抑制する作用がないためであり、また10wt
%を越えると硬さが増加し、Zr 02のもつ摺動特性
が損われてしまうためである。MnO2゜Ti 02 
、S! 02 、Fe 203等の焼結助剤の添加量は
0.2〜10wt%に限定する必要がある。これは0.
2wt%未満では助剤としての焼結密度向上の効果がな
いためであり、また10wt%を越えるとAl2O3の
場合とは逆に、Zr 02の硬さを低下させるためであ
る。また本発明において、Al2O3及び焼結助剤の添
加量が多い場合は、熱膨張係数が95X10’℃−′以
下に低下し、100±5X10”7°C−/という本発
明の目的とする範囲を越えてしまうため、添加量が多す
ぎるのは不適当である。焼結条件としては大気中130
0〜1600℃の焼成が望ましい。これは1300℃以
下では焼結が不十分であり、密度が上らないためであり
、また1600℃以上ではAl2O3を含有していても
粒成長を抑制できなくなるためである。なお、HIP条
件としては1200〜1500℃、 1ooo〜150
0気圧が望ましい。
This is because if it is less than o, swt%, it will not be dispersed in zrO2 and have no effect of suppressing crystal grain growth.
%, the hardness increases and the sliding properties of Zr 02 are impaired. MnO2゜Ti 02
,S! The amount of sintering aids such as 02 and Fe 203 needs to be limited to 0.2 to 10 wt%. This is 0.
This is because if it is less than 2 wt%, there is no effect of improving sintering density as an auxiliary agent, and if it exceeds 10 wt%, contrary to the case of Al2O3, the hardness of Zr02 is reduced. In addition, in the present invention, when the addition amount of Al2O3 and sintering aid is large, the thermal expansion coefficient decreases to below 95X10'°C-', which is the objective range of the present invention of 100±5X10''7°C-/. Therefore, it is inappropriate to add too much.The sintering conditions are 130 °C in the atmosphere.
Firing at 0 to 1600°C is desirable. This is because below 1300°C, sintering is insufficient and the density cannot be increased, and above 1600°C grain growth cannot be suppressed even if Al2O3 is contained. In addition, HIP conditions are 1200~1500℃, 1ooo~150℃
Zero atmospheric pressure is desirable.

また、本発明におけるジルコニアセラミックスには不純
物としてMfJ O,Hf O□、CaOなど合計で2
wt%以下含有されていても何等本発明の効果を減する
ものではない。
In addition, the zirconia ceramic in the present invention contains a total of 2 impurities such as MfJ O, Hf O□, and CaO.
Even if the content is less than wt%, the effects of the present invention will not be diminished in any way.

本発明においては、Zr 02を安定化するためにY2
O3を添加しているが、その添加法としてはZr 02
 、Y20a粉末を混合して直接焼結してもよいし、あ
るいは溶液状態から共沈させ仮焼した粉末を使用しても
よい。
In the present invention, in order to stabilize Zr 02, Y2
O3 is added, but the addition method is Zr 02
, Y20a powder may be mixed and directly sintered, or a powder co-precipitated from a solution state and calcined may be used.

(実施例) 本発明の磁気ヘッド用ジルコニア基板について、実施例
によりさらに詳細に説明する。
(Example) The zirconia substrate for a magnetic head of the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

二次粒子径0.5μmの微細なZr 02粉末にY20
3.AI 203 、焼結助剤としてMnO2゜Ti 
02.Si 02.Fe2O3を表に示す割合で配合し
、エタノールを溶媒としてボールミル混合をした。これ
にバインダーとしてポリビニルアルコール(PVA)、
ポリエチレングリコール(PEG)を添加し、スプレー
ドライへ7−で造粒し成形後第1表に示す条件で焼結し
た。これを水中置換法で宮度を測定後、平面研削、鏡面
ラップにより3“ウェハーとした。表面粗さを測定後G
o−Nb−ZrI%をスパッタリングによって成膜し、
膜の密着性を評価した。また、切削抵抗は外周スライサ
ーでブレードにかかる応力を圧電素子によって測定した
。以上の結果を第2表に示す。
Y20 to fine Zr02 powder with a secondary particle size of 0.5μm
3. AI 203, MnO2゜Ti as sintering aid
02. Si02. Fe2O3 was blended in the proportion shown in the table and mixed in a ball mill using ethanol as a solvent. In addition, polyvinyl alcohol (PVA) is used as a binder.
Polyethylene glycol (PEG) was added, and the mixture was granulated by spray drying at 7-degrees, and after molding, it was sintered under the conditions shown in Table 1. After measuring the thickness using the underwater displacement method, it was made into a 3" wafer by surface grinding and mirror lapping. After measuring the surface roughness,
Form a film of o-Nb-ZrI% by sputtering,
The adhesion of the membrane was evaluated. In addition, cutting resistance was measured by measuring the stress applied to the blade of a peripheral slicer using a piezoelectric element. The above results are shown in Table 2.

表中のNo、1.5,6.9.10,13,14゜17
は本発明の範囲外の比較例である。
No. in the table, 1.5, 6.9.10, 13, 14゜17
is a comparative example outside the scope of the present invention.

第  2  表 No、1〜5ではAI 2035wt%、TiO25w
t%添加し、Y2O3量を変化させた場合である。
In Table 2 No. 1 to 5, AI 2035wt%, TiO25w
This is a case where t% of Y2O3 is added and the amount of Y2O3 is changed.

Y203 ffiが少ないN001では相対密度はほぼ
理論密度まで緻密化しており、また結晶粒径も微細であ
るが、他の場合に比べ切削抵抗が著しく大きいため基板
材としては不適である。Y2O3吊をふやすと切削抵抗
は低下するが、N005のように多すぎると密度が急減
してしまう。
N001, which has a low Y203 ffi, has a relative density that is close to almost the theoretical density and a fine crystal grain size, but the cutting resistance is significantly greater than in other cases, making it unsuitable as a substrate material. If the Y2O3 suspension is increased, the cutting resistance will decrease, but if it is too high, as in N005, the density will decrease rapidly.

No、6〜9はY2O315wt%、TiQ25wt%
を添加し、Al 203flを変化させたものである。
No. 6 to 9 are Y2O315wt%, TiQ25wt%
was added to change the Al 203fl.

No、6のようにA1203ffiが少ないと、結晶粒
径は15〜20μmと大ぎいのに対しAl2O3を増加
させていくと結晶粒は微細になっていき切削時のチッピ
ングが小さくなる。しかし、多すぎると熱膨張係数が小
さくなって膜の密着性が悪化する。
When A1203ffi is small like No. 6, the crystal grain size is as large as 15 to 20 μm, whereas as Al2O3 is increased, the crystal grain becomes finer and chipping during cutting becomes smaller. However, if the amount is too large, the thermal expansion coefficient becomes small and the adhesion of the film deteriorates.

No、10〜13はY 20315wt%、Al203
5wt%を添加しTiQ2fiを変化させたものである
。T!02ffiが少ない場合には十分な焼結密度が得
られない。Ti021が増加すると十分な密また硬さが
小さくなる。
No. 10 to 13 are Y 20315wt%, Al203
TiQ2fi was changed by adding 5 wt%. T! If 02ffi is small, sufficient sintered density cannot be obtained. As Ti021 increases, sufficient density and hardness decrease.

No、14〜17は焼結温度を変化させた場合である。Nos. 14 to 17 are cases where the sintering temperature was changed.

1200℃では95%と密度が低い、 1300℃では
)−IIPにかかる程度に十分に緻密化するが、160
0℃以上ではAl2O3を添加していても結晶粒の粒成
長を抑えることはできない。
At 1200°C, the density is as low as 95%; at 1300°C, it becomes sufficiently dense to the extent required for -IIP, but
At temperatures above 0°C, grain growth of crystal grains cannot be suppressed even if Al2O3 is added.

No、18〜21ではT + 02の代りにMnO2゜
Si 02 、Fe 203などを添加した場合である
が、粒径、焼結体の色に違いはみられるものの、いずれ
も十分な密度が得られた。
In Nos. 18 to 21, MnO2゜Si02, Fe203, etc. were added instead of T + 02, but although there were differences in grain size and color of the sintered bodies, sufficient density was obtained in all cases. It was done.

(発明の効果) 本発明によるジルコニア基板は、以上述べてさたように
摺動特性、高密度量、加工性などの点に優れ、垂直フロ
ッピーヘッド用の基板として好適な材料である。
(Effects of the Invention) As described above, the zirconia substrate of the present invention has excellent sliding properties, high density, workability, etc., and is a suitable material for a substrate for a vertical floppy head.

代理人 弁理士 高 石 橘 馬 事件の表示 昭和59年 特許願 第192356号発明の名称 磁
気ヘッド用ジルコニア基板補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 東京都千代田区丸ノ内二丁目1番2号名称 (s
og)日立金属株式会社 代表者 河 野 典 夫
Agent Patent attorney Taka Ishi Tachibana Indication of the Ma case 1982 Patent application No. 192356 Title of the invention Relationship to the case involving a person who corrects zirconia substrates for magnetic heads Patent applicant address 2-1-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Name (s
og) Norio Kono, Representative of Hitachi Metals, Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)酸化イットリウムを10〜30wt%、酸化アル
ミニウムを0.5〜10wt%、MnO_2、TiO_
2、SiO_2およびFe_2O_3のうちの少なくと
も1種以上を0.2〜10wt%含有し、残部が実質的
に酸化ジルコニウムであることを特徴とする磁気ヘッド
用ジルコニア基板。
(1) Yttrium oxide 10-30wt%, aluminum oxide 0.5-10wt%, MnO_2, TiO_
2. A zirconia substrate for a magnetic head, comprising 0.2 to 10 wt% of at least one of SiO_2 and Fe_2O_3, with the remainder being substantially zirconium oxide.
(2)熱膨張係数が95〜105×10^−^7℃^−
^1であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の磁気ヘッド用ジルコニア基板。
(2) Thermal expansion coefficient is 95 to 105 x 10^-^7℃^-
The zirconia substrate for a magnetic head according to claim 1, wherein the zirconia substrate is ^1.
(3)理論密度の99%以上の密度を有することを特徴
とする特許請求の範囲第1項または第2項記載の磁気ヘ
ッド用ジルコニア基板。
(3) The zirconia substrate for a magnetic head according to claim 1 or 2, which has a density of 99% or more of the theoretical density.
JP59192356A 1984-09-13 1984-09-13 Zirconia substrate for magnetic head Granted JPS6172682A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63279410A (en) * 1987-05-11 1988-11-16 Sony Corp Thin film magnetic head
JPS64351U (en) * 1987-06-19 1989-01-05
JP2008094688A (en) * 2006-10-16 2008-04-24 Nitsukatoo:Kk Zirconia-based electroconductive sintered compact
JP2013505884A (en) * 2009-09-10 2013-02-21 中国砿業大学(北京) Composite sintering aid and method for producing nanocrystalline ceramic at low temperature using the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6077406A (en) * 1983-10-04 1985-05-02 Hitachi Metals Ltd Substrate for thin film magnetic head and manufacture of the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6077406A (en) * 1983-10-04 1985-05-02 Hitachi Metals Ltd Substrate for thin film magnetic head and manufacture of the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63279410A (en) * 1987-05-11 1988-11-16 Sony Corp Thin film magnetic head
JPS64351U (en) * 1987-06-19 1989-01-05
JP2008094688A (en) * 2006-10-16 2008-04-24 Nitsukatoo:Kk Zirconia-based electroconductive sintered compact
JP2013505884A (en) * 2009-09-10 2013-02-21 中国砿業大学(北京) Composite sintering aid and method for producing nanocrystalline ceramic at low temperature using the same

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JPH0122229B2 (en) 1989-04-25

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