JPH0122229B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0122229B2
JPH0122229B2 JP59192356A JP19235684A JPH0122229B2 JP H0122229 B2 JPH0122229 B2 JP H0122229B2 JP 59192356 A JP59192356 A JP 59192356A JP 19235684 A JP19235684 A JP 19235684A JP H0122229 B2 JPH0122229 B2 JP H0122229B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
density
magnetic
zro
amount
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP59192356A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6172682A (en
Inventor
Yoshiharu Koike
Katsuhiko Kojo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Metals Ltd filed Critical Hitachi Metals Ltd
Priority to JP59192356A priority Critical patent/JPS6172682A/en
Publication of JPS6172682A publication Critical patent/JPS6172682A/en
Publication of JPH0122229B2 publication Critical patent/JPH0122229B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

(産業上の利用分野) 本発明は磁気ヘツドなどに使用される磁性薄膜
を成膜するのに好適な非磁性基板材料に関するも
のである。 (従来の技術) 近年、磁気記録の分野においては記録密度の高
密度化が強く要望されており、従来のγ−Fe2O3
を樹脂とともにデイスク上に塗布したものにおい
ても、高保磁力とするためにCoをドープしたも
のが用いられている。更に、磁気記録密度を上げ
るために、Ni−Pの無電解メツキ、更にはCo−
Pt、Co−Ni−Pt、Co−Niなどをスパツターで付
けた記録媒体が使われ出している。 一方、垂直磁気記録用記録媒体としては、塗布
型ではC軸異方性の大きい六方晶Baフエライト、
薄膜型ではCo−Cr磁性膜などが有望視され開発
が進められている。 また、磁気ヘツドに関しても従来のフエライト
コアから形成された磁気ヘツドでは対応できない
ため、新たな構成の磁気ヘツドの開発が進められ
ている。高密度磁気記録用磁気ヘツドでは、コア
としてCo−Nb−Zr系材料を用いたものが有望視
されている。これは、Co−ZrにNbを添加するこ
とにより飽和磁束密度は低下するものの、透磁率
が上昇するため、総合的な意味で磁気特性を改善
したものであるが、現在では、ガラス等の非磁性
基板の上にスパツタリングによつてCo−Nb−Zr
膜を成膜し、ボンデイングによつてギヤツプ部を
形成する方式のものが実用化されている。また、
Co−Nb−Zr膜だけでは磁束密度が不足するため
バツクアツプ材としてフエライトを使用すること
も多いが、いずれにしろ磁気デイスク面と対向す
る面には非磁性基板を使用せざるを得ない。しか
しながら、現在用いられているガラスでは耐摩耗
性あるいは摺動特性の面で問題点がある。そのた
め、ガラス以外の新たな非磁性基板が求められて
いる。 (発明が解決しようとする問題点) 上述したように磁気ヘツド用の非磁性基板にお
いては、その上に直接Co−Nb−Zr膜を成膜する
ため、次のような特性を満足する必要がある。 第1に熱膨張係数がCo−Nb−Zr膜の100×
10-7-1と同等であることが必要である。基板材
と薄膜との熱膨張係数差があまり大きいと、成膜
後の冷却中に膜の剥離、割れといつた問題点を生
じる。そのため熱膨張係数差は大きくとも±10×
10-7-1、望ましくは±5×10-7-1であること
が必要である。 第2に直接成膜されるため基板の表面状態が極
めて重要であり、ポアは多くとも1%以内である
こと、また、表面粗さ、微小うねりなどもできる
だけ小さいことが望まれる。 第3に摺動中に磁気デイスクを傷つけないこ
と、すなわち摺動特性が良好なことが求められ
る。 第4にヘツド形状に加工する際に加工性が良好
なことが求められる。 本発明は、上記基板としての要求特性を満足す
る磁気ヘツド用セラミツクス基板を提供すること
を目的とするものである。 (問題点を解決するための手段) 本発明は、上記目的を達成するために、酸化イ
ツトリウムを10〜30wt%、酸化アルミニウムを
0.5〜10wt%、MnO2、TiO2、およびFe2O3のう
ちの一種以上またはSiO2を0.2〜10wt%含有し、
残部が実質的に立方晶酸化ジルコニウムであるこ
とを特徴とする磁気ヘツド用ジルコニア基板であ
る。 本発明は、安定化(立方晶)ジルコニアを基板
材料として用いることにより、上記第1、第3の
要求特性を満足することを見出したことにより成
されたものである。すなわち、酸化ジルコニウム
(ZrO2)の熱膨張係数は酸化イツトリウム
(Y2O3)量によつても多少変化するが、90〜110
×10-7℃であり、アモルフアスCo−Nb−Zr膜を
成膜した場合の密着性は非常に良好である。ま
た、ZrO2は他の酸化アルミニウム(Al2O3)等の
セラミツクスに比べ摺動特性に極めて優れてお
り、耐摩耗性もまた良好である。 ZrO2は周知の通り、既存の用途として大きく
分けて2つある。ひとつは微細なZrO2粉末に少
量のMgO、CaO、Y2O3等の安定化剤を添加して
高温相である正方晶を室温まで残留させ、その応
力誘起変態により高強度・強靭性を得る部分安定
化ジルコニアである。もうひとつは安定化剤を多
量に添加して高温における酸素イオン導電性を利
用した酸素センサーなどに使用される安定化ジル
コニアである。このように安定化剤の量によつ
て、ZrO2の性質は大きく変化する。部分安定化
ZrO2では結晶粒は微細であり、また容易に高密
度品を得られるが、一方では切削時の抵抗が大き
すぎるため基板材料としては第4の加工性が良好
という要求特性に反するため不適当である。一
方、立方晶が主体の安定化ジルコニアでは、加工
性は部分安定化ジルコニアに比較して格段に改善
されるが、立方晶は粒成長をおこしやすく粒内に
ポアが残るため、高密度品が得られにくいという
欠点がある。 本発明においては安定化ジルコニアにMnO2
TiO2、Fe2O3、あるいはSiO2焼結助剤を添加す
ることによつて高密度化を達成したものである。
すなわち、これらの酸化物はいずれもZrO2中に
固溶し、ZrO2の焼結を促進するため、高密度化
に効果がある。 一方、上記酸化物の添加は粒成長を促進するた
め、粒内に大きな消滅できないポアが残存する可
能性がある。そのため、本発明では、ZrO2と固
溶しないAl2O3を添加し、その分散によつて立方
晶ZrO2の粒成長を抑制する。このように本発明
においてはAl2O3と焼結助剤を併用することによ
り、焼結促進と粒成長抑制の両方の効果が見られ
るため、常圧焼結のみでも相対密度96〜97%程度
の焼結体が得られる。これをさらにHIPすること
により、相対密度99%以上を達成できたものであ
る。 また本発明の実施において、望ましい効果を得
るためには、以下に述べるように、組成、焼結条
件等を所定の範囲内に選択することが必要であ
る。安定化剤のY2O3の添加量は10〜30wt%であ
ることが好ましいが、その理由は10wt%未満で
は残留正方晶が存在するため切削抵抗が大きくな
り、一方、Y2O3量が30wt%を越えると焼結密度
が上がりにくくなること、及び立方晶に
Y4Zr3O12などが析出し摺動特性に悪影響を及ぼ
すからである。Al2O3の添加量は0.5〜10wt%が
望ましい。これは0.5wt%未満ではZrO2中に分散
して結晶粒成長を抑制する作用がないためであ
り、また10wt%を越えると硬さが増加し、ZrO2
のもつ摺動特性が損われてしまうためである。
MnO2、TiO2、Fe2O3、あるいはSiO2等の焼結助
剤の添加量は0.2〜10wt%に限定する必要がある。
これは0.2wt%未満では助剤としての焼結密度向
上の効果がないためであり、また10wt%を越え
ると、Al2O3の場合とは逆に、ZrO2の硬さを低下
させるためである。また本発明において、Al2O3
及び焼結助剤の添加量が多い場合は、熱膨張係数
が90×10-7-1以下に低下し、100±10×10-7
-1という本発明の目的とする範囲を越えてしまう
ため、添加量が多すぎるのは不適当である。焼結
条件としては大気中1300〜1600℃の焼成が望まし
い。これは1300℃以下では焼結が不十分であり、
密度が上らないためであり、また1600℃以上では
Al2O3を含有していても粒成長を抑制できなくな
るためである。なお、HIP条件としては1200〜
1500℃、1000〜1500気圧が望ましい。 また、本発明におけるジルコニアセラミツクス
には不純物としてMgO、HfO2、CaOなど合計で
2wt%以下含有されていても何等本発明の効果を
減ずるものではない。 本発明においては、ZrO2を安定化するために
Y2O3を添加しているが、その添加法としては
ZrO2、Y2O3粉末を混合して直接焼結してもよい
し、あるいは溶液状態から共沈させ仮焼した粉末
を使用してもよい。 (実施例) 本発明の磁気ヘツド用ジルコニア基板につい
て、実施例によりさらに詳細に説明する。 二次粒子径0.5μmの微細なZrO2粉末にY2O3
Al2O3、焼結助剤としてMnO2、TiO2、SiO2
Fe2O3を表に示す割合で配合し、エタノールを溶
媒としてボールミル混合をした。これにバインダ
ーとしてポリビニルアルコール(PVA)、ポリエ
チレングリコール(PEG)を添加し、スプレー
ドライヤーで造粒し成形後第1表に示す条件で焼
結した。これを水中置換法で密度を測定後、平面
研削、鏡面ラツプにより3″ウエハーとした。表面
粗さを測定後アモルフアスCo−10at%Nb−3.5at
%Zr膜(Coは残部)をスパツタリングによつて
成膜し、膜の密着性を評価した。また、切削抵抗
は外周スライサーでブレードにかかる応力を圧電
素子によつて測定した。以上の結果を第2表に示
す。表中のNo.1、5、6、9、10、13、14、17は
比較例である。
(Industrial Application Field) The present invention relates to a nonmagnetic substrate material suitable for forming a magnetic thin film used in a magnetic head or the like. (Prior art) In recent years, there has been a strong demand for higher recording density in the field of magnetic recording, and the conventional γ-Fe 2 O 3
Co-doped materials are also used to obtain high coercive force when coated on disks with resin. Furthermore, in order to increase the magnetic recording density, Ni-P electroless plating and Co-
Recording media sputtered with Pt, Co-Ni-Pt, Co-Ni, etc. are beginning to be used. On the other hand, as recording media for perpendicular magnetic recording, coating type hexagonal Ba ferrite with large C-axis anisotropy,
Among thin film types, Co-Cr magnetic films are seen as promising and are being developed. Furthermore, since conventional magnetic heads formed from ferrite cores are not compatible with magnetic heads, development of magnetic heads with new configurations is underway. For magnetic heads for high-density magnetic recording, those using Co--Nb--Zr based materials as the core are considered promising. Although the addition of Nb to Co-Zr lowers the saturation magnetic flux density, it increases the magnetic permeability, which improves the magnetic properties in a comprehensive sense. Co-Nb-Zr was deposited on the magnetic substrate by sputtering.
A method has been put into practical use in which a film is formed and a gap portion is formed by bonding. Also,
Since a Co-Nb-Zr film alone lacks magnetic flux density, ferrite is often used as a backup material, but in any case, a nonmagnetic substrate must be used on the surface facing the magnetic disk surface. However, the glasses currently in use have problems in terms of wear resistance or sliding properties. Therefore, a new non-magnetic substrate other than glass is required. (Problems to be Solved by the Invention) As mentioned above, since a Co-Nb-Zr film is directly formed on a non-magnetic substrate for a magnetic head, it is necessary to satisfy the following characteristics. be. First, the coefficient of thermal expansion is 100× of the Co-Nb-Zr film.
It must be equivalent to 10 -7 °C -1 . If the difference in thermal expansion coefficient between the substrate material and the thin film is too large, problems such as peeling and cracking of the film may occur during cooling after film formation. Therefore, the difference in thermal expansion coefficient is at most ±10×
It is necessary that the temperature is 10 -7 °C -1 , preferably ±5×10 -7 °C -1 . Second, since the film is directly formed, the surface condition of the substrate is extremely important, and it is desirable that the pore size be within 1% at most, and that surface roughness and micro waviness be as small as possible. Thirdly, the magnetic disk must not be damaged during sliding, that is, it must have good sliding characteristics. Fourthly, good workability is required when processing into a head shape. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a ceramic substrate for a magnetic head that satisfies the above-mentioned required characteristics for a substrate. (Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention contains 10 to 30 wt% of yttrium oxide and 10 to 30 wt% of aluminum oxide.
0.5 to 10 wt%, one or more of MnO 2 , TiO 2 , and Fe 2 O 3 or 0.2 to 10 wt % of SiO 2 ,
This is a zirconia substrate for a magnetic head, characterized in that the remainder is substantially cubic zirconium oxide. The present invention was achieved by discovering that the first and third required characteristics can be satisfied by using stabilized (cubic crystal) zirconia as a substrate material. In other words, the coefficient of thermal expansion of zirconium oxide (ZrO 2 ) varies somewhat depending on the amount of yttrium oxide (Y 2 O 3 ), but it is between 90 and 110.
×10 -7 °C, and the adhesion when an amorphous Co-Nb-Zr film is formed is very good. Furthermore, ZrO 2 has extremely superior sliding properties compared to other ceramics such as aluminum oxide (Al 2 O 3 ), and also has good wear resistance. As is well known, there are two main existing uses for ZrO 2 . One is to add a small amount of stabilizers such as MgO, CaO, and Y 2 O 3 to fine ZrO 2 powder so that the high-temperature phase, tetragonal, remains until room temperature, and its stress-induced transformation provides high strength and toughness. The resulting partially stabilized zirconia. The other type is stabilized zirconia, which is used in oxygen sensors that utilize oxygen ion conductivity at high temperatures by adding a large amount of stabilizer. As described above, the properties of ZrO 2 vary greatly depending on the amount of stabilizer. Partial stabilization
Although ZrO 2 has fine grains and can easily be obtained with high density, it is unsuitable as a substrate material because the resistance during cutting is too high, which violates the fourth requirement of good workability. It is. On the other hand, the workability of stabilized zirconia, which is mainly composed of cubic crystals, is significantly improved compared to partially stabilized zirconia, but cubic crystals tend to cause grain growth and leave pores inside the grains, so high-density products cannot be used. The disadvantage is that it is difficult to obtain. In the present invention, stabilized zirconia contains MnO 2 ,
High density is achieved by adding TiO 2 , Fe 2 O 3 , or SiO 2 sintering aid.
That is, all of these oxides form a solid solution in ZrO 2 and promote sintering of ZrO 2 , so they are effective in increasing the density. On the other hand, since the addition of the above-mentioned oxide promotes grain growth, there is a possibility that large pores that cannot be eliminated remain within the grains. Therefore, in the present invention, Al 2 O 3 that does not form a solid solution with ZrO 2 is added, and the grain growth of cubic ZrO 2 is suppressed by its dispersion. In this way, in the present invention, by using Al 2 O 3 and a sintering aid in combination, the effects of both promoting sintering and suppressing grain growth can be seen, so even pressureless sintering alone can achieve a relative density of 96 to 97%. A sintered body of about 100% can be obtained. By further HIPing this, we were able to achieve a relative density of over 99%. Furthermore, in implementing the present invention, in order to obtain desired effects, it is necessary to select the composition, sintering conditions, etc. within predetermined ranges, as described below. The amount of Y 2 O 3 added as a stabilizer is preferably 10 to 30 wt%, but the reason is that if it is less than 10 wt % , residual tetragonal crystals will exist, resulting in increased cutting resistance. If it exceeds 30wt%, it becomes difficult to increase the sintered density and the cubic crystal structure
This is because Y 4 Zr 3 O 12 and the like precipitate and adversely affect the sliding properties. The amount of Al 2 O 3 added is preferably 0.5 to 10 wt%. This is because if it is less than 0.5wt%, it will not be dispersed in ZrO 2 and will not have the effect of suppressing grain growth, and if it exceeds 10wt%, the hardness will increase and ZrO 2
This is because the sliding properties of the material will be impaired.
The amount of sintering aids such as MnO 2 , TiO 2 , Fe 2 O 3 or SiO 2 must be limited to 0.2 to 10 wt%.
This is because if it is less than 0.2wt%, it has no effect on improving the sintered density as an auxiliary agent, and if it exceeds 10wt%, contrary to the case of Al 2 O 3 , it decreases the hardness of ZrO 2 . It is. Further, in the present invention, Al 2 O 3
If a large amount of sintering aid is added, the thermal expansion coefficient will decrease to 90×10 -7-1 or less, and 100±10×10 -7
It is inappropriate to add too much because it exceeds the target range of -1 of the present invention. As for the sintering conditions, firing in the air at 1300 to 1600°C is desirable. This is because sintering is insufficient below 1300℃,
This is because the density does not increase, and above 1600℃
This is because grain growth cannot be suppressed even if Al 2 O 3 is contained. In addition, the HIP condition is 1200 ~
Preferably 1500℃ and 1000 to 1500 atm. In addition, the zirconia ceramics in the present invention contains impurities such as MgO, HfO 2 and CaO in total.
Even if the content is 2wt% or less, the effects of the present invention will not be diminished in any way. In the present invention, in order to stabilize ZrO 2
Y 2 O 3 is added, but the method of addition is
ZrO 2 and Y 2 O 3 powders may be mixed and sintered directly, or a powder obtained by coprecipitation and calcining from a solution state may be used. (Example) The zirconia substrate for a magnetic head of the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. Y 2 O 3 to fine ZrO 2 powder with a secondary particle size of 0.5 μm,
Al 2 O 3 , MnO 2 , TiO 2 , SiO 2 as sintering aids,
Fe 2 O 3 was blended in the proportions shown in the table and mixed in a ball mill using ethanol as a solvent. Polyvinyl alcohol (PVA) and polyethylene glycol (PEG) were added as binders to this, granulated with a spray dryer, molded, and then sintered under the conditions shown in Table 1. After measuring the density using the underwater displacement method, it was made into a 3" wafer by surface grinding and mirror lapping. After measuring the surface roughness, amorphous Co-10at%Nb-3.5at
%Zr film (the remainder being Co) was formed by sputtering, and the adhesion of the film was evaluated. The cutting resistance was measured by measuring the stress applied to the blade of the peripheral slicer using a piezoelectric element. The above results are shown in Table 2. Nos. 1, 5, 6, 9, 10, 13, 14, and 17 in the table are comparative examples.

【表】【table】

【表】【table】

【表】【table】

【表】 No.1〜5ではAl2O35wt%、TiO25wt%添加し、
Y2O3量を変化させた場合である。Y2O3量が少な
いNo.1では相対密度はほぼ理論密度まで緻密化し
ており、また結晶粒径も微細であるが、他の場合
に比べ切削抵抗が著しく大きいため基板材として
は不適である。Y2O3量をふやすと切削抵抗は低
下するが、No.5のように多すぎると密度が急減し
てしまう。 No.6〜9はY2O315wt%、TiO25wt%を添加
し、Al2O3量を変化させたものである。No.6のよ
うにAl2O3量が少ないと、結晶粒径は15〜20μm
と大きいのに対しAl2O3を増加させていくと結晶
粒は微細になつていき切削時のチツピングが小さ
くなる。しかし、多すぎると熱膨張係数が小さく
なつて膜の密着性が悪化する。 No.10〜13はY2O315wt%、Al2O35wt%を添加し
TiO2量を変化させたものである。TiO2量が少な
い場合には十分な焼結密度が得られない。TiO2
量が増加すると十分な密度になるが、多すぎると
熱膨張係数が小さくなり、また硬さが小さくな
る。 No.14〜17は焼結温度を変化させた場合である。
1200℃では95%と密度が低い。1300℃ではHIPに
かかる程度に十分に緻密化するが、1600℃以上で
はAl2O3を添加していても結晶粒の粒成長を抑え
ることはできない。 No.18〜21ではTiO2の代りにMnO2、SiO2
Fe2O3などを添加した場合であるが、粒径、焼結
体の色に違いはみられるものの、いずれも十分な
密度が得られた。 (発明の効果) 本発明によるジルコニア基板は、以上述べてき
たように摺動特性、高密度品、加工性などの点に
優れ、磁気ヘツド用の基板として好適な材料であ
る。
[Table] In Nos. 1 to 5, 5wt% of Al 2 O 3 and 5wt% of TiO 2 were added.
This is a case where the amount of Y 2 O 3 is changed. In No. 1, which has a small amount of Y 2 O 3 , the relative density is close to the theoretical density and the grain size is fine, but the cutting resistance is significantly larger than in other cases, making it unsuitable as a substrate material. be. When the amount of Y 2 O 3 is increased, the cutting resistance decreases, but when it is too large as in No. 5, the density decreases rapidly. In Nos. 6 to 9, 15 wt% of Y 2 O 3 and 5 wt % of TiO 2 were added, and the amount of Al 2 O 3 was changed. When the amount of Al 2 O 3 is small as in No. 6, the crystal grain size is 15 to 20 μm.
However, as Al 2 O 3 is increased, the crystal grains become finer and chipping during cutting becomes smaller. However, if the amount is too large, the coefficient of thermal expansion becomes small and the adhesion of the film deteriorates. No.10 to 13 added 15wt% of Y2O3 and 5wt% of Al2O3 .
The amount of TiO 2 was changed. If the amount of TiO 2 is small, sufficient sintered density cannot be obtained. TiO2
If the amount is increased, sufficient density will be obtained, but if it is too large, the coefficient of thermal expansion will become small and the hardness will also become small. Nos. 14 to 17 are cases where the sintering temperature was changed.
At 1200℃, the density is as low as 95%. At 1,300°C, it is sufficiently densified to the extent required for HIP, but at temperatures above 1,600°C, grain growth cannot be suppressed even if Al 2 O 3 is added. In No. 18 to 21 , MnO 2 , SiO 2 ,
Although there were differences in particle size and color of the sintered bodies when Fe 2 O 3 etc. were added, sufficient density was obtained in all cases. (Effects of the Invention) As described above, the zirconia substrate of the present invention has excellent sliding properties, high density, workability, etc., and is a suitable material as a substrate for a magnetic head.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 重量比で、酸化イツトリウムを10〜30%、酸
化アルミニウムを0.5〜10%、MnO2、TiO2、お
よびFe2O3のうちの一種以上、またはSiO2を0.2
〜10%含有し、残部が実質的に立方晶酸化ジルコ
ニウムであることを特徴とする磁気ヘツド用ジル
コニア基板。 2 熱膨張係数が90〜110×10-7℃であることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘツ
ド用ジルコニア基板。 3 理論密度の99%以上の密度を有することを特
徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記載
の磁気ヘツド用ジルコニア基板。
[Claims] 1. 10 to 30% yttrium oxide, 0.5 to 10% aluminum oxide, one or more of MnO 2 , TiO 2 , and Fe 2 O 3 , or 0.2 % SiO 2 by weight.
A zirconia substrate for a magnetic head, characterized in that the zirconia substrate contains ~10% of zirconium oxide, with the remainder being substantially cubic zirconium oxide. 2. The zirconia substrate for a magnetic head according to claim 1, which has a coefficient of thermal expansion of 90 to 110×10 -7 °C. 3. The zirconia substrate for a magnetic head according to claim 1 or 2, which has a density of 99% or more of the theoretical density.
JP59192356A 1984-09-13 1984-09-13 Zirconia substrate for magnetic head Granted JPS6172682A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59192356A JPS6172682A (en) 1984-09-13 1984-09-13 Zirconia substrate for magnetic head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59192356A JPS6172682A (en) 1984-09-13 1984-09-13 Zirconia substrate for magnetic head

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28028485A Division JPS61142520A (en) 1985-12-13 1985-12-13 Thin film magnetic head

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6172682A JPS6172682A (en) 1986-04-14
JPH0122229B2 true JPH0122229B2 (en) 1989-04-25

Family

ID=16289913

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59192356A Granted JPS6172682A (en) 1984-09-13 1984-09-13 Zirconia substrate for magnetic head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6172682A (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63279410A (en) * 1987-05-11 1988-11-16 Sony Corp Thin film magnetic head
JPS64351U (en) * 1987-06-19 1989-01-05
JP5036271B2 (en) * 2006-10-16 2012-09-26 株式会社ニッカトー Zirconia conductive sintered body
CN101654366B (en) * 2009-09-10 2012-10-24 中国矿业大学(北京) Composite sintering agent and method for preparing nano crystalline ceramics at low temperature

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6077406A (en) * 1983-10-04 1985-05-02 Hitachi Metals Ltd Substrate for thin film magnetic head and manufacture of the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6077406A (en) * 1983-10-04 1985-05-02 Hitachi Metals Ltd Substrate for thin film magnetic head and manufacture of the same

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6172682A (en) 1986-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4681813A (en) Ceramic substrate for a thin layer magnetic head
JPS6174103A (en) Magnetic recorder
JPS62250506A (en) Substrate material
JPH0122229B2 (en)
EP0137134B1 (en) A magnetic head having a non-magnetic substrate
US5432016A (en) Magnetic head slider material
JPS61142520A (en) Thin film magnetic head
JPS6077406A (en) Substrate for thin film magnetic head and manufacture of the same
JPH0120523B2 (en)
JPS63134559A (en) Non-magnetic ceramics for magnetic head
JPS6339115A (en) Substrate material for thin film magnetic head
JPH0329739B2 (en)
JPS6359984B2 (en)
JP2832863B2 (en) Non-magnetic ceramics for magnetic heads
JP2949297B2 (en) Porcelain composition for magnetic head
JP3085619B2 (en) Non-magnetic ceramics
JP3078302B2 (en) Non-magnetic ceramic composition
JPH05319896A (en) Nonmagnetic ceramics
JPH0416553A (en) Magnetic head slider
JPH1079308A (en) Hematite material for magnetic head and manufacture thereof
JPS61192006A (en) Magnetic head
JPH0797262A (en) Nonmagnetic ceramics for magnetic heads
JPS63134558A (en) Non-magnetic ceramics for magnetic head
JPS61190703A (en) Magnetic head
JPH05117023A (en) Non-magnetic substrate for magnetic head and magnetic heat