JPS617263A - スチレンオキサイド類の製造法 - Google Patents
スチレンオキサイド類の製造法Info
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- JPS617263A JPS617263A JP12885084A JP12885084A JPS617263A JP S617263 A JPS617263 A JP S617263A JP 12885084 A JP12885084 A JP 12885084A JP 12885084 A JP12885084 A JP 12885084A JP S617263 A JPS617263 A JP S617263A
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- styrene
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
】1ドソ月」
本発明は、スチレンオキサイド類の製造法に関するもの
である。
である。
本発明の方法によれば、スチレンオキサイド類を効率よ
く製造することができる。
く製造することができる。
本発明の方法によシ得られるスチレンオキサイド類は、
高分子安定剤、紫外線吸収剤、医薬、香料、溶剤の安定
剤或いは食品添加剤等の原料として有用なものである。
高分子安定剤、紫外線吸収剤、医薬、香料、溶剤の安定
剤或いは食品添加剤等の原料として有用なものである。
特に、香料の原料である2−フェニルエチルアルコール
、又はアミノ酸の一種のフェニルアラニンの原料等とし
て重要なものである。
、又はアミノ酸の一種のフェニルアラニンの原料等とし
て重要なものである。
先行技術
従来から、エポキシ化触媒の存在下、スチレンと有機過
酸化物とを反応させて、スチレンオキサイドを製造する
方法は公知であった。
酸化物とを反応させて、スチレンオキサイドを製造する
方法は公知であった。
しかしながら公知の方法は、反応中に有機過酸化物が一
部熱分解して生じるラジカルのため、スチレンのラジカ
ル重合が併発し、スチレンに対するスチレンオキサイド
の選択率が低下するといったことや、有機過酸化物の転
化率が十分高められないため、後処理工程・精製工程が
複雑化するといった欠点があった。
部熱分解して生じるラジカルのため、スチレンのラジカ
ル重合が併発し、スチレンに対するスチレンオキサイド
の選択率が低下するといったことや、有機過酸化物の転
化率が十分高められないため、後処理工程・精製工程が
複雑化するといった欠点があった。
これらの欠点を解決する方法として、脂肪族または脂環
族モノアミンとエポキシ化触媒共存下で反応を実施する
方法(特公昭57−8106号公報)や、有機アミン系
化合物とエポキシ化触媒共存下で実施する方法(特開昭
56−133,279号公報)が提案されている。
族モノアミンとエポキシ化触媒共存下で反応を実施する
方法(特公昭57−8106号公報)や、有機アミン系
化合物とエポキシ化触媒共存下で実施する方法(特開昭
56−133,279号公報)が提案されている。
これらの方法は、アミン系化合物を用いる点で共通して
いるが、スチレンオキサイドのスチレンに対する選択率
や有機過酸化物の転化率はまだ十分高くなく、工業的に
有利な方法とは言い堆かった。
いるが、スチレンオキサイドのスチレンに対する選択率
や有機過酸化物の転化率はまだ十分高くなく、工業的に
有利な方法とは言い堆かった。
本発明の概要
本発明者らは、上記した方法の欠点を改良し、工業的に
有利な方法で、かつ収率よく目的とするスチレンオキサ
イド類を製造する方法を脱意検討した結県、本発明に到
達した。
有利な方法で、かつ収率よく目的とするスチレンオキサ
イド類を製造する方法を脱意検討した結県、本発明に到
達した。
本発明方法は、
(1)スチレンオキサイドのスチレンに対する選択率が
高い、 (2)有機過酸化物の転化率が高く、更にエポキシ化速
度も高い、 といつだすぐれた特徴をもつ。
高い、 (2)有機過酸化物の転化率が高く、更にエポキシ化速
度も高い、 といつだすぐれた特徴をもつ。
即ち、本発明は、スチレン類と有機過酸化物とを反応さ
せてスチレンオキサイド類を製造する方法において、該
反応をエポキシ化触媒及びニトロソキシレンの存在下に
行わせることを特徴とするスチレンオキサイド類の製造
法を提供するものである。
せてスチレンオキサイド類を製造する方法において、該
反応をエポキシ化触媒及びニトロソキシレンの存在下に
行わせることを特徴とするスチレンオキサイド類の製造
法を提供するものである。
」し1化町体的1目し
くエポキシ化触媒)
本発明の方法に用いるエポキシ化触媒は、オレフィンの
エポキシ化触媒として知られているモリブデン、バナジ
ウム及びチタンから選ばれる金属の化合物であり、これ
らの金属の酸化物、ハロゲン化物、ナフテート、ステア
レート、オクトエート、カルボニル錯体、アセチルアセ
トナートなどがある。
エポキシ化触媒として知られているモリブデン、バナジ
ウム及びチタンから選ばれる金属の化合物であり、これ
らの金属の酸化物、ハロゲン化物、ナフテート、ステア
レート、オクトエート、カルボニル錯体、アセチルアセ
トナートなどがある。
具体的にこれらを例示すると、モリブデンの化合物とし
ては、モリブデン酸ナトリウム、酸化モリブデン、硫化
モリブデン、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナト
リウム、酸化モリブデンアセチルアセトナート、モリブ
デンアセチルアセトナート、モリブデンヘキサカルボニ
ル、五塩化モリブデン、モリブデン酸アンモン、バラモ
リブデン酸アンモン、ケイモリブデン酸、ナフテン酸モ
リブデン、ステアリン酸モリブデン、オクチル酸モリブ
デンなどであり、バナジウムの化合物としては、バナジ
ン酸ナトリウム、酸化バナジウム、オキシ三塩化バナジ
ウム、酸化バナジウムアセチルアセトナートなどであり
、チタンの化合物としては、三塩化チタン、酸化チタン
などである。
ては、モリブデン酸ナトリウム、酸化モリブデン、硫化
モリブデン、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナト
リウム、酸化モリブデンアセチルアセトナート、モリブ
デンアセチルアセトナート、モリブデンヘキサカルボニ
ル、五塩化モリブデン、モリブデン酸アンモン、バラモ
リブデン酸アンモン、ケイモリブデン酸、ナフテン酸モ
リブデン、ステアリン酸モリブデン、オクチル酸モリブ
デンなどであり、バナジウムの化合物としては、バナジ
ン酸ナトリウム、酸化バナジウム、オキシ三塩化バナジ
ウム、酸化バナジウムアセチルアセトナートなどであり
、チタンの化合物としては、三塩化チタン、酸化チタン
などである。
これらの中でもモリブデンの化合物が好ましく、特に有
機溶媒に可溶な酸化モリブデン、モリブデンアセチルア
セトナート、モリブデンヘキサカルボニル、ナフテン酸
モリブデンなどが特に好ましい。
機溶媒に可溶な酸化モリブデン、モリブデンアセチルア
セトナート、モリブデンヘキサカルボニル、ナフテン酸
モリブデンなどが特に好ましい。
エポキシ化触媒の使用量は、有機過酸化物1モルニ対し
て0.00001〜0.1倍モル、より好ましくは0.
0001〜0.01倍モルである。
て0.00001〜0.1倍モル、より好ましくは0.
0001〜0.01倍モルである。
にニトロソ化合物)
本発明の方法に用いるニトロソ化合物は、R”R”N−
No ・・・(1) 及び R3−No ・・・(1) でそれぞれ表わされる構造を有するものである。
No ・・・(1) 及び R3−No ・・・(1) でそれぞれ表わされる構造を有するものである。
ここで R1及びR2は、同一でも異なっていてもよく
、水素原子又はC1〜15のアルキル基又はC6〜15
のアリール基を R3は、C6〜15のアリール基をそ
れぞれ表わす。
、水素原子又はC1〜15のアルキル基又はC6〜15
のアリール基を R3は、C6〜15のアリール基をそ
れぞれ表わす。
この様なニトロソ化合物の具体例を示すと、(1)式で
表わされるニトロソ化合物としてはN−ニトロソジメチ
ルアミン、N−ニトロソジエチルアミン、N−ニトロソ
ジフェニルアミン、N−ニトロソメチルフェニルアミン
、N−ニトロンエチルトリルアミン、N−ニドロンジ(
4−メチルフェニル)アミンなどであり、 (1)式で表わされる化合物としては、ニトロソベンゼ
ン、ニトロソトルエン、ニトロソナフトール、ニトロソ
フェノール、4−ニトロソ−NIN yメチルアニリ
ン、4−ニトロソジフェニルアミン、ニトロソキシレン
などである。
表わされるニトロソ化合物としてはN−ニトロソジメチ
ルアミン、N−ニトロソジエチルアミン、N−ニトロソ
ジフェニルアミン、N−ニトロソメチルフェニルアミン
、N−ニトロンエチルトリルアミン、N−ニドロンジ(
4−メチルフェニル)アミンなどであり、 (1)式で表わされる化合物としては、ニトロソベンゼ
ン、ニトロソトルエン、ニトロソナフトール、ニトロソ
フェノール、4−ニトロソ−NIN yメチルアニリ
ン、4−ニトロソジフェニルアミン、ニトロソキシレン
などである。
ニトロソ化合物の使用量は特に制限は無いが、エポキシ
化触媒1モルに対して1〜70倍モル、より好ましくは
10〜50倍モルである。
化触媒1モルに対して1〜70倍モル、より好ましくは
10〜50倍モルである。
(スチレン類)
スチレン類としては、次式で表わされるものが用いられ
る。
る。
R4
(式中 R4、R5及びR6は、同一でも異なっていて
もよく、水素、C1〜1oのアルキル基、C6〜15の
アリール基、01〜1oのアルコキシ基、C6〜15の
フェノキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン基及びアミノ基
を表わす) これらのスチレン類は、 (1) 対応するエチルベンゼン類の脱水素反応、(
2)対応するアセトフェノン類の還元反応及び脱水反応
、 などにより容易に入手可能である。又、これらのスチレ
ン類の純度は、本反応に影響を及ぼさない範囲でよいが
約80%以上のものが好ましい。
もよく、水素、C1〜1oのアルキル基、C6〜15の
アリール基、01〜1oのアルコキシ基、C6〜15の
フェノキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン基及びアミノ基
を表わす) これらのスチレン類は、 (1) 対応するエチルベンゼン類の脱水素反応、(
2)対応するアセトフェノン類の還元反応及び脱水反応
、 などにより容易に入手可能である。又、これらのスチレ
ン類の純度は、本反応に影響を及ぼさない範囲でよいが
約80%以上のものが好ましい。
具体的にこれらを例示すると、スチレン、メトキシスチ
レン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、イソブチル
スチレン、ビニルフェノール、3−クロロ−4−アリロ
キシスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ビニ
ルビフェニル、3,4゜5− ) IJメトキシスチレ
ン、フェノキシスチレン、ジメチルアミノスチレンなど
が挙げられる。
レン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、イソブチル
スチレン、ビニルフェノール、3−クロロ−4−アリロ
キシスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ビニ
ルビフェニル、3,4゜5− ) IJメトキシスチレ
ン、フェノキシスチレン、ジメチルアミノスチレンなど
が挙げられる。
(有機過酸化物)
有機過酸化物としては、R700■で表わされる化合物
が用いられる。ことで R7はC1〜15 のアルキル
基又はアラルキル基である。
が用いられる。ことで R7はC1〜15 のアルキル
基又はアラルキル基である。
具体的に例示すると、エチルベンゼンハイドロパーオキ
サイド、キュメンハイドロパーオキサイド、メンタンハ
イドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンモノハ
イドロパーオキサイト、シイソプロビルベンゼンジハイ
ドロパーオキサイド、テトラリンハイドロパーオキサイ
ド、シクロペンチルハイドロパーオキサイド、シクロヘ
キシルハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパ
ーオキサイドなどが挙げられる。
サイド、キュメンハイドロパーオキサイド、メンタンハ
イドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンモノハ
イドロパーオキサイト、シイソプロビルベンゼンジハイ
ドロパーオキサイド、テトラリンハイドロパーオキサイ
ド、シクロペンチルハイドロパーオキサイド、シクロヘ
キシルハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパ
ーオキサイドなどが挙げられる。
これらの有機過酸化物は、高純度のままで用いてもよく
、溶媒で希釈したものを用いてもよい。
、溶媒で希釈したものを用いてもよい。
有機過酸化物の使用量は、有機過酸化物1モルに対して
スチレン類を1〜30倍モル、好ましくは1〜10倍モ
ルである。
スチレン類を1〜30倍モル、好ましくは1〜10倍モ
ルである。
(上記以外の添加剤)
本発明の方法は、スチレン類と有機過酸化物とを前記エ
ポキシ化触媒及びニトロソ化合物の存在下に反応させて
スチレンオキシド類を製造するものであるが、この反応
系には上記以外の添加剤を添加して反応を行わせること
もできる。
ポキシ化触媒及びニトロソ化合物の存在下に反応させて
スチレンオキシド類を製造するものであるが、この反応
系には上記以外の添加剤を添加して反応を行わせること
もできる。
この様な添加剤を例示すると、ブチルアミン、オクチル
アミン、ノニルアミン、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、エチレンジアミン、アニリン、N、N−ジメチル
アニリン、ピリジン、ピコリンなどの有機アミン系化合
物、ハイドロキノン、1−ブチルカテコール、ジ−t−
ブチルハイドロキシトルエンなどのフェノール系化合物
、ホウ酸トリメチルエステル、ホウ酸トリエチルエステ
ル、ホウ酸トリブチルエステル、ホウ酸トリフェニルエ
ステル、シクロヘキシルメタボレートなどのホウ素系化
合物、酢酸ナトリウム塩ム酸カリウム、酢酸リチウム、
炭酸水素ナトリウム、アセチルアセトナートナトリウム
塩などのアルカリ金属塩などが挙げられる。
アミン、ノニルアミン、ジエチルアミン、トリエチルア
ミン、エチレンジアミン、アニリン、N、N−ジメチル
アニリン、ピリジン、ピコリンなどの有機アミン系化合
物、ハイドロキノン、1−ブチルカテコール、ジ−t−
ブチルハイドロキシトルエンなどのフェノール系化合物
、ホウ酸トリメチルエステル、ホウ酸トリエチルエステ
ル、ホウ酸トリブチルエステル、ホウ酸トリフェニルエ
ステル、シクロヘキシルメタボレートなどのホウ素系化
合物、酢酸ナトリウム塩ム酸カリウム、酢酸リチウム、
炭酸水素ナトリウム、アセチルアセトナートナトリウム
塩などのアルカリ金属塩などが挙げられる。
これらの添加剤は、本発明の目的に悪影響を及ぼさない
範囲で添加できるが、例えばエポキシ化触媒1モルに対
して5〜50倍モル、好ましくは10〜40倍モル添加
することができる。
範囲で添加できるが、例えばエポキシ化触媒1モルに対
して5〜50倍モル、好ましくは10〜40倍モル添加
することができる。
(反応)
本発明の方法は、無溶媒でも実施できるが有機過酸化物
の熱分解反応が発熱反応であるため、暴走反応の抑制及
びスチレンの重合反応の抑制に溶媒を使用することが好
ましい。
の熱分解反応が発熱反応であるため、暴走反応の抑制及
びスチレンの重合反応の抑制に溶媒を使用することが好
ましい。
この溶媒としては、反応に不活性なものなら特K 制限
は無いが、例えばベンゼン、トルエン、エチルベンゼン
、キュメンなどの芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン
、オクタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、シ
クロドデカンなどの脂環族炭化水素などが用いられる。
は無いが、例えばベンゼン、トルエン、エチルベンゼン
、キュメンなどの芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン
、オクタンなどの脂肪族炭化水素、シクロヘキサン、シ
クロドデカンなどの脂環族炭化水素などが用いられる。
溶媒の使用量は、特に制限は無いが、経済性、分離・精
製のし易さの点などから、有機過酸化物=10= の濃度が反応液に対して5〜60重量%、好ましくは5
〜40重量%が用いられる。
製のし易さの点などから、有機過酸化物=10= の濃度が反応液に対して5〜60重量%、好ましくは5
〜40重量%が用いられる。
反応温度及び反応時間は、使用する有機過酸化物の種類
によっても変るが、通常反応温度は70〜170℃、反
応時間は0.01〜120分が用いられる。この場合、
スチレンオキサイド類のスチレン類に対する高い選択率
及び有機過酸化物の高い転化率を達成する為に、好まし
くは反応温度90〜150℃、反応時間0.1〜30分
が用いられる。
によっても変るが、通常反応温度は70〜170℃、反
応時間は0.01〜120分が用いられる。この場合、
スチレンオキサイド類のスチレン類に対する高い選択率
及び有機過酸化物の高い転化率を達成する為に、好まし
くは反応温度90〜150℃、反応時間0.1〜30分
が用いられる。
本発明の方法は、回分式及び連続式のいずれの方法によ
ることも可能である。反応が発熱反応である為、反応温
度が高く反応時間が短い条件を選ぶ場合は、連続式の方
が好ましい。
ることも可能である。反応が発熱反応である為、反応温
度が高く反応時間が短い条件を選ぶ場合は、連続式の方
が好ましい。
この場合、上記反応時間は反応管を反応液が通過する時
間で表わすものとする。液供給速度がA11117分の
場合、反応管の容積をB111とすれば、反応時間はル
ζ分で示される。
間で表わすものとする。液供給速度がA11117分の
場合、反応管の容積をB111とすれば、反応時間はル
ζ分で示される。
本発明の方法による反応生成物は、スチレンオキサイド
類及び使用した有機過酸化物に相当する水酸基を有する
化合物である。例えば、クメンハイドロパーオキサイド
を用いた場合はクミルアルコール、エチルベンゼンハイ
ドロパーオキサイドラ用いた場合は1−フェニルエチル
アルコール、t−ブチルハイドロパーオキサイドを用い
た場合はt−ブチルアルコールがスチレンオキサイド類
と共にそれぞれ生成する。
類及び使用した有機過酸化物に相当する水酸基を有する
化合物である。例えば、クメンハイドロパーオキサイド
を用いた場合はクミルアルコール、エチルベンゼンハイ
ドロパーオキサイドラ用いた場合は1−フェニルエチル
アルコール、t−ブチルハイドロパーオキサイドを用い
た場合はt−ブチルアルコールがスチレンオキサイド類
と共にそれぞれ生成する。
上記クミルアルコール、1−フェニルエチルアルコール
及びt−ブチルアルコールはそれら自体有用であり、更
にこれらを脱水反応させて得られるα−メチルスチレン
、スチレン及びイソブチレンもまた有用な化合物である
。
及びt−ブチルアルコールはそれら自体有用であり、更
にこれらを脱水反応させて得られるα−メチルスチレン
、スチレン及びイソブチレンもまた有用な化合物である
。
これらの反応生成物は、公知の方法例えば蒸留等により
容易に分離・精製することができる。
容易に分離・精製することができる。
実験例
次に実鹸例を示して本発明を更に詳細に説明するが、例
中の転化率及び選択率はそれぞれ次式に従って定義した
。
中の転化率及び選択率はそれぞれ次式に従って定義した
。
実施例1〜6及び比較例1
温度計、攪拌機及び還流冷却器を備えた内容積100C
Hの3つ口平底フラスコに、酸化モリブデンアセチルア
セトナート0.0079 (0,02mmot)、表1
に示すニトロソ化合物をそれぞれ0.38mmat、8
1%クメンハイドロパーオキサ゛イド4.4f(23,
5mmot)、スチレン4.79 (45,3mmat
)及びエチルベンゼン350Cをそれぞれ仕込み、窒
素雰囲気下、125℃で10分間加熱攪拌した。
Hの3つ口平底フラスコに、酸化モリブデンアセチルア
セトナート0.0079 (0,02mmot)、表1
に示すニトロソ化合物をそれぞれ0.38mmat、8
1%クメンハイドロパーオキサ゛イド4.4f(23,
5mmot)、スチレン4.79 (45,3mmat
)及びエチルベンゼン350Cをそれぞれ仕込み、窒
素雰囲気下、125℃で10分間加熱攪拌した。
反応終了後反応液を冷却し、ヨートメ) IJ−により
クメンハイドロパーオキサイドの転化率を求め、未反応
のスチレン及び反応生成物をガスクロマトグラフィーに
より′定量した。その結果を表1に示す。
クメンハイドロパーオキサイドの転化率を求め、未反応
のスチレン及び反応生成物をガスクロマトグラフィーに
より′定量した。その結果を表1に示す。
表 1
実施例7
実施例2において、エチルベンゼンの代りにキュメンを
14CC使用し、更に反応温度を115℃とした以外は
実施例2と同様に反応を実施した。
14CC使用し、更に反応温度を115℃とした以外は
実施例2と同様に反応を実施した。
その結果、クメンハイドロパーオキサイドの転化率は、
75.6%、スチレンオキサイドの対スチレン選択率は
97.3%、対クメンハイドロパーオキサイド選択率は
65.3%であった。
75.6%、スチレンオキサイドの対スチレン選択率は
97.3%、対クメンハイドロパーオキサイド選択率は
65.3%であった。
実施例8
実施例7において酸化モリブデンアセチルアセトナート
の代りに、モリブデンナフチネートを使用し、更に反応
時間を30分間とした以外は実施例7と同様に反応を実
施した。
の代りに、モリブデンナフチネートを使用し、更に反応
時間を30分間とした以外は実施例7と同様に反応を実
施した。
その結果、クメンハイドロパーオキサイドの転化率は8
5.2%、スチレンオキサイドの対スチレン選択率は9
1.5%、対クメンハイドロパーオキサイド選択率は6
0.3%であった。
5.2%、スチレンオキサイドの対スチレン選択率は9
1.5%、対クメンハイドロパーオキサイド選択率は6
0.3%であった。
実施例9
実施例5においてクメンハイドロパーオキサイドの代り
にエチルベンゼンハイドロパーオキサイドを用いた以外
は実施例5と同様に反応を実施した。
にエチルベンゼンハイドロパーオキサイドを用いた以外
は実施例5と同様に反応を実施した。
その結果、エチルベンゼンハイドロパーオキサイドの転
化率は73.2%、スチレンオキサイドの対スチレンa
折率F′i1 o o%、対エチルベンゼンハイドロパ
ーオキサイド選択率は64.7%であった。
化率は73.2%、スチレンオキサイドの対スチレンa
折率F′i1 o o%、対エチルベンゼンハイドロパ
ーオキサイド選択率は64.7%であった。
実施例10
実施例1において酢酸ナトリウム0,031 f(0,
38mmot)を添加した以外は実施例1と同様に反応
を実施した。
38mmot)を添加した以外は実施例1と同様に反応
を実施した。
その結果、クメンハイドロパーオキサイドの転化率は7
4.1%、スチレンオキサイドの対スチレン選択率は9
0.2%、対クメンノ・イドロバ−オキサイド選択率は
68.0%であった。
4.1%、スチレンオキサイドの対スチレン選択率は9
0.2%、対クメンノ・イドロバ−オキサイド選択率は
68.0%であった。
実施例11
実施例1においてスチレンの代りに、4−メチルスチレ
75.3 t (45,3m mol )を用いた以外
は実施例1と同様に反応を実施した。
75.3 t (45,3m mol )を用いた以外
は実施例1と同様に反応を実施した。
その結果、クメンハイドロパーオキサイドの転化率は7
4.7%、4−メチルスチレンオキサイドの対4−メチ
ルスチレン選択率は91.2%、対クメンハイドロパー
オキサイド選択率は70.1%であった。
4.7%、4−メチルスチレンオキサイドの対4−メチ
ルスチレン選択率は91.2%、対クメンハイドロパー
オキサイド選択率は70.1%であった。
Claims (1)
- (1)スチレン類と有機過酸化物とを反応させてスチレ
ンオキサイド類を製造する方法において、該反応をエポ
キシ化触媒及びニトロソ化合物の存在下に行わせること
を特徴とするスチレンオキサイド類の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12885084A JPS617263A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | スチレンオキサイド類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12885084A JPS617263A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | スチレンオキサイド類の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS617263A true JPS617263A (ja) | 1986-01-13 |
Family
ID=14994920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12885084A Pending JPS617263A (ja) | 1984-06-22 | 1984-06-22 | スチレンオキサイド類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS617263A (ja) |
-
1984
- 1984-06-22 JP JP12885084A patent/JPS617263A/ja active Pending
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