JPS6166353U - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6166353U
JPS6166353U JP1984149958U JP14995884U JPS6166353U JP S6166353 U JPS6166353 U JP S6166353U JP 1984149958 U JP1984149958 U JP 1984149958U JP 14995884 U JP14995884 U JP 14995884U JP S6166353 U JPS6166353 U JP S6166353U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion
ions
detector
mass spectrometer
disposed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1984149958U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0342618Y2 (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP1984149958U priority Critical patent/JPH0342618Y2/ja
Publication of JPS6166353U publication Critical patent/JPS6166353U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0342618Y2 publication Critical patent/JPH0342618Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の２次イオン質量分析装置の実
施例を示す図である。第２図は従来例を示すもの
である。 １……イオンビーム、２……試料、３……２次
イオン、４……引き込みレンズ、５……スリツト
、６……セクターマグネツト、７……２次イオン
（シリコン）、８……２次イオン（クローム）、
９……第１スリツト、１０……第１イオン検出器
、１１……静電４極レンズ、１２……第２スリツ
ト、１３……第２イオン検出器、２１……イオン
ビーム、２２……半導体製造用マスク（資料）、
２３……２次イオン、２４……引き込みレンズ、
２５……スリツト、２６……セクターマグネツト
、２７，３０……２次イオン、２８……スリツト
、２９……イオン検出器。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 半導体製造用マスクである試料上にイオン
    ビームを照射させ、これにより発生した２次イオ
    ンを引き込み、これを集束させ、この後セクター
    マグネツトにより、質量の異なる２次イオンを分
    離し、これ等の２次イオンを検出するイオンビー
    ムマスクリペアー装置に於ける２次イオン質量分
    析装置に於いて、前記セクターマグネツトの出射
    側に配設された第１イオン検出器と、前記出射側
    に配設された第２イオン検出器と、前記第２イオ
    ン検出器と前記出射側との間に於けるイオン通過
    部分に配設された静電４極レンズとを備え、前記
    静電４極レンズにより前記第１イオン検出器に入
    力されるイオンとは異なる質量のイオンを案内し
    て、前記２次イオン検出器に入力させる様に構成
    したことを特徴とするイオンビームマスクリペア
    ー装置に於ける２次イオン質量分析装置。 (2) 第１項に於いて、前記試料に少なくとも二
    種類の互いに材質の異なる物質を有するものとし
    、前記第１、第２イオン検出器による２チヤンネ
    ル系で検出する事を特徴とするイオンビームマス
    クリペアー装置に於ける２次イオン質量分析装置
    。
JP1984149958U 1984-10-03 1984-10-03 Expired JPH0342618Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1984149958U JPH0342618Y2 (ja) 1984-10-03 1984-10-03

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1984149958U JPH0342618Y2 (ja) 1984-10-03 1984-10-03

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6166353U true JPS6166353U (ja) 1986-05-07
JPH0342618Y2 JPH0342618Y2 (ja) 1991-09-06

Family

ID=30708122

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1984149958U Expired JPH0342618Y2 (ja) 1984-10-03 1984-10-03

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0342618Y2 (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50110693A (ja) * 1974-02-12 1975-08-30

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50110693A (ja) * 1974-02-12 1975-08-30

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0342618Y2 (ja) 1991-09-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2674987B2 (ja) オメガ形電子エネルギフイルタ
GB1145107A (en) Ion beam microanalyser
GB2076588A (en) Exb mass separator
JPS6269456A (ja) アルフア形電子エネルギフイルタ
JPS59205142A (ja) 質量分析計
JPS6166353U (ja)
JPH0547935B2 (ja)
JPS62223659A (ja) 質量分析装置
JP3096375B2 (ja) ハイブリッドタンデム質量分析装置
JPH049728Y2 (ja)
JPS60214288A (ja) シンチレ−シヨンカメラ
JP2628348B2 (ja) 電子ビーム装置
JPS6245423Y2 (ja)
JPH0220679Y2 (ja)
JPH05251035A (ja) スパッタ中性粒子質量分析装置
JPS6324616Y2 (ja)
JPS6235253Y2 (ja)
JPS59201357A (ja) 二次イオン質量分析計
JPS60100349A (ja) ２次電子検出器
JPS6245424Y2 (ja)
JPS5820103B2 (ja) 質量分析装置
JP3221066B2 (ja) 荷電粒子エネルギーアナライザ
JP3153386B2 (ja) 質量分析装置
JPH0355239Y2 (ja)
JPS60189150A (ja) 質量分析計のイオン源