JPS6166297A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPS6166297A
JPS6166297A JP59189105A JP18910584A JPS6166297A JP S6166297 A JPS6166297 A JP S6166297A JP 59189105 A JP59189105 A JP 59189105A JP 18910584 A JP18910584 A JP 18910584A JP S6166297 A JPS6166297 A JP S6166297A
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semiconductor memory
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word
diode
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Abstract

PURPOSE:To attain an electrical test of a leakage current, etc. in a wafer state by connecting a diode as prescribed among a terminal of the highest potential and a digit line and a word line at the low potential side respectively. CONSTITUTION:The decoupling diodes D1, D2 and D3 whose anodes are set at the side of a terminal 12 are connected among the terminal 12 of the highest potential containing an output transistor TRQ5 of a high impedance state as long as no load is connected to a collector, digit lines D and D' and a word line at the lower potential side respectively. When the leakage is detected between the emitter E and the base B or between the collector C and the base B of TRQ1-Q4 which form an FF of a memory cell, a current flows to a word line WT from the terminal 12 via the leakage current path before the breakdown occurs between E and B or C and B. Thus the diode characteristics of diodes D1 and D2 or the diode D3 are observed. This attains an electrical test of a leakage microcurrent, etc. in a wafer state.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は半導体素子等に存在するリーク電流を検出し、
この様な半導体メモリを除去できるようにした半導体メ
モリに関する。
[Detailed Description of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention detects leakage current existing in semiconductor elements, etc.
The present invention relates to a semiconductor memory that can remove such a semiconductor memory.

(従来の技術) 従来、半導体メモリにおいては、ウェハ一段階あるいは
パッケージ組立後に低温、高温において厳格な電気的試
験を実施し不良品あるいは電気的規格を満足しないもの
を除去していた。しかし最近の微細化したIC(MP導
体集積回路)においては、時々素子内KIJ−り電流通
路が存在するKもかかわらず、電気的規格を満足したた
めに良品として出荷され、装置に実装された後このリー
ク電流通路が増大し、ICを故障に致らせる場合がふえ
ている。これは例えば、回路の動作電流が1mAのとこ
ろKIOμ人のリーク電流が存在したとしても、はぼ1
チ程度の電圧レベルを狂わせるのみで、特性上はとんど
影響はなく初期の電気的試験では除外できないからであ
る。すなわち、従来の半導体メモリには、ウニノー−状
態の電気的試験によシ、微少なリーク電流通路を有する
不良素子を完全に取シ除く事ができないという欠卑があ
った。
(Prior Art) Conventionally, semiconductor memories have been subjected to rigorous electrical tests at low and high temperatures after the wafer stage or package assembly to eliminate defective products or those that do not meet electrical standards. However, in recent miniaturized ICs (MP conductor integrated circuits), although there are sometimes current paths within the element, they are shipped as non-defective products because they satisfy electrical standards, and after being mounted in equipment. This leakage current path increases, and there are many cases where ICs are caused to fail. For example, even if the operating current of the circuit is 1 mA and there is a leakage current of KIOμ, it is only 1 mA.
This is because it only disturbs the voltage level to a certain extent, but has no effect on the characteristics and cannot be ruled out in initial electrical tests. That is, the conventional semiconductor memory has the disadvantage that defective elements having minute leakage current paths cannot be completely removed by electrical testing in a non-uniform state.

(発明の目的) 本発明の目的は、上記欠点を除去することによシ、ウェ
ハー状態での電気的試験において、僅か表リーク電流で
も検出できる高信頼性の半導体メモリを提供する事にあ
る。
(Object of the Invention) An object of the present invention is to provide a highly reliable semiconductor memory that can detect even a small surface leakage current in an electrical test in a wafer state by eliminating the above-mentioned drawbacks.

(発明の構成) 本第1の発明の半導体メモリは、互にペースとコレクタ
が交差接続され7リツプフロツプを構成するメモリセル
がワード線方向とディジット線方向に配列された半導体
メモリにおいて、該半導体メモリの最高電位端子と前記
ディジット線及び前記ワード線のうちの低電位側のワー
ド線との間にアノードを前記最高電位端子側として接続
されたダイオードを含む事から構成される。
(Structure of the Invention) A semiconductor memory according to a first aspect of the present invention is a semiconductor memory in which memory cells constituting seven lip-flops whose paces and collectors are cross-connected to each other are arranged in a word line direction and a digit line direction. The device includes a diode connected between the highest potential terminal of the digit line and a word line on the low potential side of the digit line and the word line, with the anode connected to the highest potential terminal side.

本第2の発明の半導体メモリは、前記第1の発明の半導
体メモリに1前記ワード線のうちの高電位側のワード線
と前記半導体メモリの最低電位端子に接続された前記半
導体メモリの信号入力端子に印加される制御信号により
て制御される高電位側のワード線電圧固定回路を付加し
た事から構成される。
The semiconductor memory of the second invention is provided with a signal input of the semiconductor memory connected to one of the word lines on the high potential side and the lowest potential terminal of the semiconductor memory in the semiconductor memory of the first invention. It is constructed by adding a word line voltage fixing circuit on the high potential side which is controlled by a control signal applied to the terminal.

本第3の発明の半導体メモリは、前記第2の発明の半導
体メモリに、前記制御信号によって前記半導体メモリの
メモリセルアレイの保持電流及び読出′し電流を制御す
る制御回路を付加した事から構成される。
A semiconductor memory according to a third aspect of the present invention is constructed by adding a control circuit to the semiconductor memory according to the second aspect of the invention, which controls the holding current and read current of the memory cell array of the semiconductor memory using the control signal. Ru.

(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本第1の発明の一実施例の要部を示す回路図で
ある。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a main part of an embodiment of the first invention.

本実施例は、互いにベースとコレクタが交差接続されフ
リップ70ツブを構成するセルトランジスタQl −Q
4 (QlとQ2及びQ3とQ4はそれぞれ2エミツタ
型NPN);yンジスタを形成している。)と負荷抵抗
R1,几2とからなるメモリセル11が、負荷抵抗fL
l、  几2の一端は共通接続されて高電位側のワード
線WTK、セルトランジスタQ!、 Q4のエミッタは
共通接続されて低電位側のワード線WBK1セルトラン
ジスタQlのエミッタはディジット線りに、セルトラン
ジスタQ3のエミッタはディジット線DKそれぞれ接続
されてメモリセルアレイを構成している。そして最高電
位端子であるところのVcc人端子12とディジット線
り、ワード線WB及びディジット線■の間に、それぞれ
ダイオードD1. Ds及びDsがアノード調をVcc
ム端子12にして接続される。さらにVcc^端子12
はエミッタが出力端子0に接続されたNPN型の出力ト
ランジスタQsのコレクタに接続される。
In this embodiment, cell transistors Ql-Q have their bases and collectors cross-connected to form a flip 70 tube.
4 (Ql and Q2 and Q3 and Q4 are each two-emitter type NPN); forming a y-in transistor. ), a load resistance R1, and a load resistance fL.
1, one end of 几2 is commonly connected to the word line WTK on the high potential side, and the cell transistor Q! , Q4 are commonly connected, the emitters of the word line WBK1 on the low potential side are connected to the digit line, and the emitters of the cell transistor Q3 are connected to the digit line DK, forming a memory cell array. Diodes D1 . Ds and Ds are anode tone Vcc
It is connected to the system terminal 12. Furthermore, Vcc^ terminal 12
is connected to the collector of an NPN type output transistor Qs whose emitter is connected to output terminal 0.

通常のECL型論理回路は最高電位端子として、内部回
路が接続された電源Vcc端子と出力トランジスタQs
のコレクタが接続されたVccム端子1202つを持っ
ている。ここでVCCム端子12は、出力トランジスタ
Qsのエミッタに負荷抵抗が接続されていない場合は、
出力トランジスタQsのコレクタが接続されているのみ
であるので出カド2ンジスタQsのペースとコレクタ間
にリーク電流通路がない限シ、高インピーダンス状態に
ある。
A normal ECL type logic circuit has the highest potential terminal as the power supply Vcc terminal connected to the internal circuit and the output transistor Qs.
It has two Vccm terminals 120 to which the collector of the Vcc is connected. Here, when the VCC terminal 12 is connected to the emitter of the output transistor Qs,
Since only the collector of the output transistor Qs is connected, it is in a high impedance state as long as there is no leakage current path between the pace and the collector of the output transistor Qs.

一方、メモリセルアレイの低電位側のワード線WB及び
ディジット線り、 HにはセルトランジスタQ1〜Q4
のエミッタとこれらワード線、ディジット線に定電流を
供給するための定電流トランジスタのコレクタしか接続
されていないので、ワード線WBあるいはディジット線
り、 Uを高電位側に強制的に持って行くと、ワード線
WB及びディジット線り、罫はセルトランジスタQ1〜
Q4のエミッターペース間耐圧(BVmm)、あるいは
エミッターコレクタ間耐圧(BY’mc)を越えるまで
は高インピーダンス状態にある。従って第1図に示す様
にデカップリング用のダイオードDI、D2゜D3を介
してVCCA端子12とワード線WB及びディジット線
り、 Uと接続する事で、 Vccム端子12よシセル
トランジスタのBVIB、BVICを観測する事ができ
る。
On the other hand, word line WB and digit line H on the low potential side of the memory cell array have cell transistors Q1 to Q4.
Since only the emitter of the word line and the collector of the constant current transistor for supplying constant current to these word lines and digit lines are connected, if the word line WB, digit line, or U is forced to the high potential side, , word line WB and digit line, and the borders are cell transistors Q1~
It remains in a high impedance state until it exceeds the emitter-pace breakdown voltage (BVmm) or emitter-collector breakdown voltage (BY'mc) of Q4. Therefore, as shown in Fig. 1, by connecting the VCCA terminal 12 to the word line WB, digit line, and U through the decoupling diodes DI, D2 and D3, the Vcc terminal 12 is connected to the BVIB of the cell transistor, BVIC can be observed.

第2図はワード線WTの電圧をQVとし、 VCC&端
子12に電圧を加えた場合の電流特性を示すものである
。通常BYis又はBVmcは3.5v程度の値を持っ
ているので、ダイオードDi、  Dm、 Daの順方
向電圧を0.8 Vとして電圧Vceムを4.2V以上
にすると、セルトランジスタはブレークダウンしてVc
cム端子12よシワード線WTにダイオードDs、  
Dm、  D3’を介して電流を流し込む事ができる。
FIG. 2 shows the current characteristics when the voltage of the word line WT is QV and a voltage is applied to the VCC& terminal 12. Normally, BYis or BVmc has a value of about 3.5V, so if the forward voltage of diodes Di, Dm, and Da is set to 0.8V and the voltage Vcem is increased to 4.2V or more, the cell transistor will break down. TeVc
diode Ds from cm terminal 12 to Siward line WT;
Current can be passed through Dm and D3'.

ところで、いまセルトランジスタQ”+Qx、  Qs
、 Qaのどれか1つでもEB(エミッターペース)間
するいはEC(エミッターコレクタ)間にリークがある
と、このリーク電流通路を介してEB間又はEC間がブ
レークダウンする以前にVccム端子12よ)電流をワ
ード線WTK流すので、第2図Bに示す様にほぼダイオ
ードDI、 I)2又はD8のダイオード特性が観測さ
れる。なお第2図に訃いてAは正常特性を示す。
By the way, now the cell transistors Q"+Qx, Qs
, If there is a leak between EB (emitter pace) or EC (emitter collector) in any one of Qa, the Vccm terminal will be 12) Since a current flows through the word line WTK, almost the diode characteristics of the diode DI, I)2 or D8 are observed as shown in FIG. 2B. Note that in FIG. 2, A indicates normal characteristics.

以上の説明から明らかな如く、本実施例においては、ウ
ェハー状態においての電気的試験で、確実に一微少なリ
ーク電流通路を有するメモリセルを検出でき、高信頼性
の半導体メモリを得る事ができる。
As is clear from the above explanation, in this example, memory cells having even the slightest leakage current path can be reliably detected in the electrical test in the wafer state, and a highly reliable semiconductor memory can be obtained. .

第3図は零落3の発明の一実施例の要部を示す回路図で
ある。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a main part of an embodiment of the invention of Reiraku 3.

本実施例は、メモリセルMll・・・Mnmがワード線
W’r+・・・W T n 、 W B I・・・WB
nとディジット線DI、DI・・・Dm、fjim間に
それぞれ配置されメモリセルアレイ21を構成している
。そしてディジット線D1.D1・・・Dm、Dmはそ
れぞれ読出し電流回路22の定電流トランジスタのコレ
クタに接続され、ワード線WB1・・・WBn はそれ
ぞれ保持を流回路23の定電流トランジスタのコレクタ
に接続され、ワード#!WTt・・・WTnはそれぞれ
ワードドライバ回路24のドライバトランジスタのエミ
ッタに接続される。さらにワード線WTs ・・・WT
nはそれぞれダイオードDwt1・・・])wtlを介
してワード線電圧固定回路25の出力トランジスタのコ
レクタに接続され、ワード線電圧固定回路25の入力ト
ランジスタQllのペースはダイオードDaを介して内
部回路26の信号入力端子INに接続され、この信号入
力端子INは、メモリセルアレイ21の保持電流IWB
1・・・If!Ill 及び読出し電流IDI、  I
DI・・・Inm  Iらを制御する制御回路としての
、ダイオードDdt−介して基準電圧回路27の基準電
圧端子30に接続され、基準電圧端子30はさらに読出
し′!!流回路22.保持電流回路23及びワードドラ
イバ回路24の定電流トランジスタのペースに接続され
る。一方デイジツト線Dt、  Dt −・Dm、 D
m及びワード線WB1・・・Wa++は、それぞれダイ
オードDDi 、 DDI・・・Dm輸。
In this embodiment, memory cells Mll...Mnm are word lines W'r+...WTn, WBI...WB
n and digit lines DI, DI...Dm, and fjim, respectively, and constitute a memory cell array 21. and digit line D1. D1...Dm, Dm are each connected to the collector of the constant current transistor of the read current circuit 22, word lines WB1...WBn are each connected to the collector of the constant current transistor of the hold current circuit 23, and the word #! WTt...WTn are each connected to the emitter of the driver transistor of the word driver circuit 24. Furthermore, the word line WTs...WT
n are connected to the collector of the output transistor of the word line voltage fixing circuit 25 via the diode Dwt1...])wtl, and the input transistor Qll of the word line voltage fixing circuit 25 is connected to the internal circuit 26 via the diode Da. is connected to the signal input terminal IN of the memory cell array 21, and this signal input terminal IN is connected to the holding current IWB of the memory cell array 21.
1...If! Ill and read current IDI, I
DI...Inm I is connected to a reference voltage terminal 30 of a reference voltage circuit 27 via a diode Ddt-, which serves as a control circuit for controlling I, etc., and the reference voltage terminal 30 is further used for reading '! ! Flow circuit 22. It is connected to the constant current transistor pace of the holding current circuit 23 and the word driver circuit 24. On the other hand, digit lines Dt, Dt-・Dm, D
The word lines WB1...Wa++ are connected to diodes DDi and DDI...Dm, respectively.

DD;及びダイオード])wsH・・・])van の
カンードに接続サレダイオ−)’Dot 、 DDI 
・” Dam 、 Dam  及び])win・・・D
waaのアノードは共通接続されダイオードDaとDb
の直列接続回路を介して出力トランジスタ22のコレク
タに接続されたVccム端子29に接続される。
DD; and diode]) wsH...]) Connect diode to cand of van)'Dot, DDI
・"Dam, Dam and])win...D
The anodes of waa are commonly connected to diodes Da and Db.
It is connected to a Vccm terminal 29 connected to the collector of the output transistor 22 through a series connection circuit.

すなわち、出力トランジスタ28のコレクタが接続され
たVCCA端子29にはダイオードDa。
That is, a diode Da is connected to the VCCA terminal 29 to which the collector of the output transistor 28 is connected.

Dbを介して各ディジット線DI、  が・・・Dm 
DmにダイオードDDI、 DDI ・・・Doa+、
  Dosが接続され、各ワード線WB1・・・WBn
にはダイオードDWBI・・・DwII−が接続されて
いる。
Each digit line DI, through Db...Dm
Diode DDI to Dm, DDI...Doa+,
Dos is connected, and each word line WB1...WBn
are connected to diodes DWBI...DwII-.

通常のメモリの続出し書込み動作の場合には、ディジッ
ト線Dt 、 Dt・・・Dm、  Dm及びワード線
WBr・・・WBnの電位は電源Vccの電圧Vccよ
りダイオードの順方向電圧(Vf)の3倍以下の電位に
は下らないので、これらダイオードDa、Db。
In the case of a normal continuous write operation of a memory, the potentials of the digit lines Dt, Dt...Dm, Dm and word lines WBr...WBn are lower than the voltage Vcc of the power supply Vcc by the forward voltage (Vf) of the diode. These diodes Da and Db do not drop to a potential less than three times the potential.

DDI、  DDI−DDm、 DDffi、 Dw+
at−DwamO影1i1ijない。
DDI, DDI-DDm, DDffi, Dw+
There is no shadow at-DwamO.

信号入力端子INには通常動作の場合は、 −0,9V
/−L7Vの正規の論理レベルが加えられるが、本実施
例のメモリセルのリーク電流特性を観測する場合には、
電源■i+mの電圧V1mと同一レベルが印加される。
In normal operation, -0.9V is applied to the signal input terminal IN.
A normal logic level of /-L7V is applied, but when observing the leakage current characteristics of the memory cell of this example,
The same level as the voltage V1m of the power supply ■i+m is applied.

信号入力端子INがVlllと同一レベルになると、ま
ずダイオードDd  を介して基準電圧回路27の出力
レベルが引き下げられ、保持電流回路23.R出し電流
回路22及びワードドライバー回路24の定電流トラン
ジスタがすべてオフする。
When the signal input terminal IN becomes the same level as Vllll, the output level of the reference voltage circuit 27 is first lowered via the diode Dd, and the holding current circuit 23. All constant current transistors of the R output current circuit 22 and the word driver circuit 24 are turned off.

この結果メモリセルアレイ21の保持電流Iwet・・
・iwna及び絖出し電流ro1.  IDI・・・I
o、、I錫がオフするので、メモリセルのリーク電流特
性の観測が容易かつ正確になる。
As a result, the holding current Iwet of the memory cell array 21...
・iwna and wire setting current ro1. IDI...I
Since o, , I tin is turned off, it becomes easy and accurate to observe the leakage current characteristics of the memory cell.

一方信号入力端子INに接続されたダイオードDcによ
って、ワード線電圧固定回路25がオンする。す修わち
、信号入力端子INに正規論理レベルが入力されている
場合は、ワード線電圧固定回路250入力トランジスタ
Qllがオンしていて、出力電流Iwはゼロとなってい
るが、信号入力端子INがVlmと同一レベルとなると
、トランジスタQllはオフし、出力電流工wが発生す
る。出力電流Iwは、ワードドライバー回路24の定電
流トランジスタがすべてオフしている結果、ダイオード
])wtl・・・Dwt@ に等量に分流し、ワード線
WTl・・・WTnt−Vcc よシダイオードの順方
向電圧Vfだけ低い電位に固定する。
On the other hand, the word line voltage fixing circuit 25 is turned on by the diode Dc connected to the signal input terminal IN. That is, when a normal logic level is input to the signal input terminal IN, the word line voltage fixing circuit 250 input transistor Qll is on and the output current Iw is zero, but the signal input terminal When IN becomes the same level as Vlm, transistor Qll is turned off and an output current w is generated. As a result of all the constant current transistors of the word driver circuit 24 being off, the output current Iw is equally divided into the diodes])wtl...Dwt@, and the output current Iw is equally divided into the word lines WTl...WTnt-Vcc. The potential is fixed to be lower by the forward voltage Vf.

この状態でVccム端子29にVccよシ高い電圧Vc
cムを印加すると、セルトランジスタにリーク電流通W
rがfk<BVms、BVmc=3.5v!:して、t
EEVcc人は3.5V+2XVf =3.5V+0.
8VX2=5.、IVまでは、セルトランジスタがブレ
ークダウンしないので電流を流さない。しかしセルトラ
ンジスタのどれか1つでもリーク電流通路が存在する場
合には、電圧Vccムとして2xVf =L6V以上の
電圧で電流を流しはじめる。すなわちVccム端子29
に1.6vよシ大なる約2v程度の電圧を印加して、こ
の時のVCCA端子29よυ流し込む電流の有無を検出
し、半導体メモリの良/不良を判定すれば良い訳である
In this state, a voltage Vc higher than Vcc is applied to the Vcc terminal 29.
When cm is applied, leakage current flows through the cell transistor W
r is fk<BVms, BVmc=3.5v! : then, t
EEVcc person is 3.5V+2XVf =3.5V+0.
8VX2=5. , IV, no current flows because the cell transistor does not break down. However, if there is a leakage current path in any one of the cell transistors, a current begins to flow at a voltage of Vccm equal to or higher than 2xVf = L6V. That is, Vccm terminal 29
It is sufficient to apply a voltage of approximately 2V, which is larger than 1.6V, to the VCCA terminal 29, detect the presence or absence of current flowing through the VCCA terminal 29, and determine whether the semiconductor memory is good or bad.

又、本実施例において、ワードドライバー回路24の定
電流トランジスタはオフさせずに、ワードアドレス入力
信号を加える方法がある。こうするとこのワードアドレ
ス入力信号に応じてワード線WT1・・・WTnの内1
本のみが選択され、高レベルとなシ、残シはすべて低レ
ベルとなるので、選択的に1本のワード線上のメモリセ
ルのみのリーク電流特性もチェックする事ができる。
Further, in this embodiment, there is a method of applying a word address input signal without turning off the constant current transistor of the word driver circuit 24. In this way, one of the word lines WT1...WTn is selected according to this word address input signal.
Since only one word line is selected and has a high level, and the remaining ones are all low level, it is possible to selectively check the leakage current characteristics of only the memory cells on one word line.

なお、本第2の発明の半導体メモリは、第3図の回路に
おいて、ダイオードDdを省いたもので、保持電流回路
及び読出し電流回路をオフする事ができないため、保持
電流と絖出し電流からなる定電流に重畳してメモリセル
のリーク電流が観測される。従って本第3の発明の半導
体メモリに比べて、精度は劣るけれどもメモリセルのリ
ーク電流をチェックできる事には変シない。
Note that the semiconductor memory of the second invention is the circuit shown in FIG. 3 without the diode Dd, and since the holding current circuit and the readout current circuit cannot be turned off, the semiconductor memory consists of the holding current and the lead-out current. Leakage current of the memory cell is observed superimposed on the constant current. Therefore, although the accuracy is inferior to the semiconductor memory of the third invention, it is still possible to check the leakage current of the memory cell.

(発明の効果) 以上、詳細説明したとおシ、本発明の半導体メモリは、
最高電位端子(Vcc人)とディジット線及び低電位側
のワード線との間に接続されたデカップル用のダイオー
ド史には高電位側のワード線に接続されたワード線電圧
固定回路によシ、若しもメモリセルを構成するトランジ
スタにリーク電流通路がある場合、最高電位端子よシ前
記ダイオード及び前記リーク電流通路のあるメモリセル
を介して最低電位端子(Via)との間に電流通路が形
成されるので、リーク電流通路のあるメモリセルの有無
を容易に試験できるという効果を有する。
(Effects of the Invention) As described above in detail, the semiconductor memory of the present invention has the following features:
The decoupling diode connected between the highest potential terminal (Vcc) and the digit line and word line on the low potential side is connected to the word line voltage fixing circuit connected to the word line on the high potential side. If a transistor constituting a memory cell has a leakage current path, a current path is formed between the highest potential terminal and the lowest potential terminal (Via) via the diode and the memory cell with the leakage current path. Therefore, it is possible to easily test whether there is a memory cell having a leakage current path.

更に本発明の半導体メモリは外部制御信号によシ保持を
光回路と読出し電流回路の定電流トランジスタをオフす
ることにより一層正確なリーク電流通路のチェックがで
きるという効果を有する。
Further, the semiconductor memory of the present invention has the effect that leakage current paths can be checked more accurately by turning off the constant current transistor of the optical circuit and the read current circuit when the external control signal is used to hold the memory.

従って1本発明によれば、ウエノ・−状態での電気的試
験において、僅かなリーク電流でも検出できる高信頼性
の半導体メモリが得られる。
Therefore, according to the present invention, a highly reliable semiconductor memory that can detect even a slight leakage current in an electrical test in a wet state can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本第1の発明の一実施例の要部を示す回路図、
第2図は第1図におけるワード線WT−Vccム端子間
の電流電圧特性図、第3図は本第3の発明の一実施例の
要部を示す回路図である。 11・・・・・・メモリセル、12・・・・・・Vcc
a端子、21・・・・・・メモリセルアレイ、22・・
・・・・読出し電流回路、23・・・・・・保持電流回
路、24・・・・・・ワードドライバー回路、25・・
・・・・ワード線電圧固定回路、26・・・・・・内部
回路、27・・・・・・基準電圧回路、28デイジツト
線、D1〜D3.DC,Dd、Dot、Dot。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a main part of an embodiment of the first invention;
FIG. 2 is a current-voltage characteristic diagram between the word line WT and Vccm terminals in FIG. 1, and FIG. 3 is a circuit diagram showing a main part of an embodiment of the third invention. 11...Memory cell, 12...Vcc
a terminal, 21...Memory cell array, 22...
... Read current circuit, 23 ... Holding current circuit, 24 ... Word driver circuit, 25 ...
. . . Word line voltage fixing circuit, 26 . . . Internal circuit, 27 . . . Reference voltage circuit, 28 digit line, D1 to D3. DC, Dd, Dot, Dot.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)互にベースとコレクタが交差接続されフリップフ
ロップを構成するメモリセルがワード線方向とディジッ
ト線方向に配列された半導体メモリにおいて、該半導体
メモリの最高電位端子と前記ディジット線及び前記ワー
ド線のうちの低電位側のワード線との間にアノードを前
記最高電位端子側として接続されたダイオードを含むこ
とを特徴とする半導体メモリ。
(1) In a semiconductor memory in which memory cells constituting flip-flops whose bases and collectors are cross-connected to each other are arranged in a word line direction and a digit line direction, the highest potential terminal of the semiconductor memory and the digit line and the word line 1. A semiconductor memory comprising: a diode connected between a word line on a lower potential side and an anode on the highest potential terminal side.
(2)互にベースとコレクタが交差接続されたフリップ
フロップを構成するメモリセルがワード線方向とディジ
ット線方向に配列された半導体メメリにおいて、該半導
体メモリの最高電位端子と前記ディジット線及び前記ワ
ード線のうちの低電位側のワード線との間にアノードを
前記最高電位端子側として接続されたダイオードと、前
記ワード線のうちの高電位側のワード線と前記半導体メ
モリの最低電位端子に接続された前記半導体メモリの信
号入力端子に印加される制御信号によって制御される高
電位側のワード線電圧固定回路とを含むことを特徴とす
る半導体メモリ。
(2) In a semiconductor memory in which memory cells constituting flip-flops whose bases and collectors are cross-connected are arranged in a word line direction and a digit line direction, the highest potential terminal of the semiconductor memory and the digit line and the word a diode connected between the word line on the low potential side of the lines with its anode on the highest potential terminal side; and a diode connected to the word line on the high potential side of the word lines and the lowest potential terminal of the semiconductor memory. a high potential side word line voltage fixing circuit controlled by a control signal applied to a signal input terminal of the semiconductor memory.
(3)互にベースとコレクタが交差接続されたフリップ
フロップを構成するメモリセルがワード線方向とディジ
ット線方向に配列された半導体メモリにおいて、該半導
体メモリの最高電位端子と前記ディジット線及び前記ワ
ード線のうちの低電位側のワード線との間にアノードを
前記最高電位端子側として接続されたダイオードと、前
記ワード線のうちの高電位側のワード線と前記半導体メ
モリの最低電位端子に接続された前記半導体メモリの信
号入力端子に印加される制御信号によって制御される高
電位側のワード線電圧固定回路と、前記制御信号によっ
て前記半導体メモリのメモリセルアレイの保持電流及び
読出し電流を制御する制御回路とを含むことを特徴とす
る半導体メモリ。
(3) In a semiconductor memory in which memory cells constituting flip-flops whose bases and collectors are cross-connected to each other are arranged in a word line direction and a digit line direction, the highest potential terminal of the semiconductor memory and the digit line and the word a diode connected between the word line on the low potential side of the lines with its anode on the highest potential terminal side; and a diode connected to the word line on the high potential side of the word lines and the lowest potential terminal of the semiconductor memory. a high-potential side word line voltage fixing circuit that is controlled by a control signal applied to a signal input terminal of the semiconductor memory; and a control that controls a holding current and a read current of a memory cell array of the semiconductor memory by the control signal. A semiconductor memory comprising a circuit.
JP59189105A 1984-09-10 1984-09-10 Semiconductor memory Granted JPS6166297A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0528799A (en) * 1991-07-24 1993-02-05 Nec Corp Semiconductor memory
KR100370956B1 (en) * 2000-07-22 2003-02-06 주식회사 하이닉스반도체 Test pattern for measuring leakage current

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