JP3408757B2 - Burn-in device - Google Patents

Burn-in device

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JP3408757B2
JP3408757B2 JP32094198A JP32094198A JP3408757B2 JP 3408757 B2 JP3408757 B2 JP 3408757B2 JP 32094198 A JP32094198 A JP 32094198A JP 32094198 A JP32094198 A JP 32094198A JP 3408757 B2 JP3408757 B2 JP 3408757B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、バーンイン装置に関
し、特に、スクリーニング処理をウェーハ状態にて行な
う時の信号線接続を確認するバーンイン装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a burn-in device, and more particularly to a burn-in device for confirming signal line connection when performing a screening process in a wafer state.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体デバイスの信頼性を高める
ためのスクリーニング処理として、半導体デバイスに、
定格もしくは若干の過電圧となる電源電圧を加え、各信
号入力電極には実動作に近い信号を印加しつつ、125℃
程度の高温状態にして数時間バーンインすることが行な
われている。従来、このバーンイン処理は、半導体デバ
イスをパッケージに収納された製品状態で行なわれるこ
とが多かった。パッケージに収納された半導体デバイス
は、信号線引き出し用の端子を備えており、バーンイン
を行なう時はソケットに挿入して、その接続を確認する
ことなしに、容易にバーンイン処理を行なうことができ
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, semiconductor devices have been used as a screening process for improving the reliability of semiconductor devices.
125 ° C while applying a power supply voltage that is rated or slightly overvoltage and applying a signal close to actual operation to each signal input electrode
Burn-in is performed for several hours in a high temperature state. Conventionally, this burn-in process is often performed in a product state in which a semiconductor device is housed in a package. The semiconductor device housed in the package was equipped with a terminal for drawing out the signal line, and when burn-in was performed, the burn-in process could be easily performed without inserting the socket and checking the connection. .

【0003】しかるに近年、より上流の工程にてスクリ
ーニングを行なうことを目的として、ウェーハ状態の半
導体チップに対してバーンインを行なうことが望まれて
いる。ウェーハ状態の半導体チップに対するバーンイン
を実現するためには、ウェーハ上に一括形成された複数
の半導体チップの引き出し電極であるボンディングパッ
ドに対し信号線を接続して、信号を印加する必要があ
る。信号線の接続の方法はメモリ、ロジックといったデ
バイスの種類により若干異なることもあるが、ここでは
メモリのデバイス例について説明する。
However, in recent years, it has been desired to perform burn-in on semiconductor chips in a wafer state for the purpose of screening in a more upstream process. In order to realize burn-in to a semiconductor chip in a wafer state, it is necessary to connect a signal line to a bonding pad that is an extraction electrode of a plurality of semiconductor chips formed on a wafer and apply a signal. The signal line connection method may differ slightly depending on the type of device such as memory or logic, but here, an example of a memory device will be described.

【0004】ウェーハ上には通常100から400個の半導体
チップが形成され、各半導体チップには、100μm程度
の微少サイズの電極であるボンディングパッドが20から
40個程度配置されており、これらの電極に対し、1ウェ
ーハ当たり総数2000から16000点の信号線接続を正確に
行なわねばならない。すなわち、ウェーハ状態の半導体
チップに対するバーンインを実現するためには、大量の
信号線接続を行なう必要があり、その信号線接続が正し
く行なわれていることを確認の上、バーンインすること
が望まれている。
Usually, 100 to 400 semiconductor chips are formed on a wafer, and each semiconductor chip has from 20 to 20 bonding pads which are electrodes of a micro size of about 100 μm.
About 40 electrodes are arranged and a total of 2000 to 16000 signal line connections per wafer must be accurately connected to these electrodes. That is, in order to realize burn-in to a semiconductor chip in a wafer state, it is necessary to make a large number of signal line connections, and it is desirable to confirm that the signal line connections are correctly made before performing burn-in. There is.

【0005】図3は、ウェーハに対する信号線接続の状
態を示している。図3において、11はウェーハであり、
この上に多数の半導体チップが形成されている。具体的
な例としては、ウェーハ11上に中央の列として、21、2
2、23、24、25、26、27、28の半導体チップ、周辺の列
として、31、32、33、34の半導体チップおよび41、42の
半導体チップがある。
FIG. 3 shows the state of signal line connection to the wafer. In FIG. 3, 11 is a wafer,
A large number of semiconductor chips are formed on this. As a concrete example, as the center row on the wafer 11, 21, 2
2, 23, 24, 25, 26, 27, 28 semiconductor chips, and peripheral rows include 31, 32, 33, 34 semiconductor chips and 41, 42 semiconductor chips.

【0006】12はコンタクタであり、ウェーハ11に形成
された半導体チップ総ての電極に対応して、電気的に接
続する接点と、そこから引き出される信号線により構成
されており、ウェーハ11にコンタクト(圧力をかけて接
触)させて用いる。この時の重要な点は、ウェーハ上の
半導体チップ1ケ毎に独立に信号線を引き出すのではな
く、図3に示すように、円形上に配置された半導体チッ
プの列毎、行毎に複数の半導体チップに対し、並列に信
号線を接続して引き出してくることが通常行なわれてい
ることである。
Reference numeral 12 is a contactor, which is composed of contacts electrically connected to all the electrodes of the semiconductor chip formed on the wafer 11 and signal lines drawn from the contacts, and contacts the wafer 11. Use (contact under pressure). The important point at this time is not to draw out the signal line independently for each semiconductor chip on the wafer, but as shown in FIG. 3, a plurality of semiconductor chips arranged in a circle are arranged in columns and rows. It is common practice to connect the signal lines to the semiconductor chip in parallel and lead them out.

【0007】具体的には、中央の列の半導体チップ21、
22、23、24、25、26、27、28に対応して横方向の信号線
51があり、周辺の列の半導体チップ31、32、33、34に対
応して横方向の信号線52があり、半導体チップ41、42に
対応して横方向の信号線53がある。また、ウェーハ中央
の列の半導体チップ24、32、41に対応して縦方向の信号
線54があり、中央の列の半導体チップ25、33、42に対応
して縦方向の信号線55がある。本例では、横方向の信号
線51、52、53には、メモリを駆動する信号線の内、アド
レス線A0〜A7、データ線D0〜D3、書込制御線WEが含まれ
ており、縦方向の信号線54、55には、メモリを駆動する
信号線の内、読出制御線OEが含まれている。
Specifically, the semiconductor chips 21 in the central row,
Horizontal signal lines corresponding to 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28
51, there are horizontal signal lines 52 corresponding to the semiconductor chips 31, 32, 33, 34 in the peripheral rows, and there are horizontal signal lines 53 corresponding to the semiconductor chips 41, 42. Further, there are vertical signal lines 54 corresponding to the semiconductor chips 24, 32, 41 in the central row of the wafer, and vertical signal lines 55 corresponding to the semiconductor chips 25, 33, 42 in the central row. . In this example, the horizontal signal lines 51, 52, and 53 include the address lines A0 to A7, the data lines D0 to D3, and the write control line WE among the signal lines that drive the memory. The direction signal lines 54 and 55 include the read control line OE among the signal lines for driving the memory.

【0008】このような信号線の構成により、各半導体
チップ21、22、23、24、25、26、27、28に同時に書込み
を行ない、読出し時は読出制御線OEを用いて各半導体チ
ップ21、22、23、24、25、26、27、28に対し順次1チッ
プづつ読出してテストすることが可能となる。
With such a signal line configuration, writing is simultaneously performed on each semiconductor chip 21, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28, and at the time of reading, each semiconductor chip 21 is read using the read control line OE. , 22, 23, 24, 25, 26, 27, 28 can be sequentially read and tested one chip at a time.

【0009】図4に具体的な例を示す。図4は、横方向
の信号線52に含まれるアドレス線A0〜A7、データ線D0〜
D3、書込制御線WEおよび縦方向の信号線54、縦方向の信
号線55に含まれる読出制御線OEについて示している。す
なわち、半導体チップ31、32、33、34の各電極から並列
にアドレス線A0〜A7、データ線D0〜D3、書込制御線WEの
信号線を引きだしている。また、半導体チップ24、32、
41のOE電極から並列に読出制御線OEの信号線54を、半導
体チップ25、33、42のOE電極から並列に読出制御線OEの
信号線55を引き出している。
FIG. 4 shows a concrete example. FIG. 4 shows address lines A0 to A7 and data lines D0 to D0 included in the horizontal signal line 52.
D3, the write control line WE, the vertical signal line 54, and the read control line OE included in the vertical signal line 55 are shown. That is, the signal lines of the address lines A0 to A7, the data lines D0 to D3, and the write control line WE are drawn out in parallel from the respective electrodes of the semiconductor chips 31, 32, 33, 34. In addition, the semiconductor chips 24, 32,
The signal line 54 of the read control line OE is drawn in parallel from the OE electrode of 41, and the signal line 55 of the read control line OE is drawn in parallel from the OE electrodes of the semiconductor chips 25, 33, 42.

【0010】ウェーハとコンタクタの信号線接続を確認
する手段として、図5に示すような直流的に信号線の状
態をテストする方法がある。図5において、31、32、3
3、34はウェーハ11上に形成された半導体チップであ
る。半導体チップ31、32、33、34の1電極について説明
すると、電極にはそれぞれ61、62、63、64に示す入力信
号に対する保護を目的とする保護ダイオードが半導体チ
ップに内蔵されている。52はコンタクタに備えられた信
号線であり、それぞれの電極に接点を通して接続されて
おり、コンタクタの外部に引き出されている。65は電源
であり、100μA程度の正負の極性の異なる直流電流を
発生し、信号線52に印加することができる。但し、ウェ
ーハ上の半導体チップを破壊しないよう、5V程度の正
負の限界電圧以上の電圧が発生しないようなリミット回
路が組み込まれている。66はデジボルであり、信号線52
に接続され、信号線52の直流電圧を測定する。
As a means for confirming the signal line connection between the wafer and the contactor, there is a method of testing the state of the signal line by direct current as shown in FIG. In FIG. 5, 31, 32, 3
Reference numerals 3 and 34 are semiconductor chips formed on the wafer 11. Describing one electrode of the semiconductor chips 31, 32, 33, 34, protection electrodes for protecting input signals 61, 62, 63, 64 are built in the semiconductor chip at the electrodes, respectively. Reference numeral 52 is a signal line provided in the contactor, which is connected to each electrode through a contact and is led out to the outside of the contactor. Reference numeral 65 denotes a power supply, which can generate direct currents having different positive and negative polarities of about 100 μA and apply them to the signal line 52. However, a limit circuit is incorporated so that a semiconductor chip on the wafer is not destroyed and a voltage higher than a positive and negative limit voltage of about 5 V is not generated. 66 is a digibol, and the signal line 52
And measures the DC voltage of the signal line 52.

【0011】以下に動作を説明する。保護ダイオードの
存在により、半導体チップの電極を外部から測定する
と、正の電圧をかけた時は高い抵抗を示し、負の電圧を
かけた時は、保護ダイオードによるダイオード特性を示
す。したがって、電源65より正の100μAの電流を信号
線52に印加すると、信号線に正常に半導体チップ31、3
2、33、34が接続されている時は電流が流れない。この
ため、信号線52の直流電位は正の限界電圧となり、デジ
ボル66により、その電位を読み取ることができる。半導
体チップ31、32、33、34のいずれかが損傷を受けるか、
コンタクトが正常に行なわれず、隣接接点との間に短絡
を起こした時は、電流の漏れが発生し、限界電圧未満の
低い電圧が観測される。
The operation will be described below. When the electrodes of the semiconductor chip are measured from the outside due to the presence of the protection diode, a high resistance is exhibited when a positive voltage is applied, and a diode characteristic by the protection diode is exhibited when a negative voltage is applied. Therefore, when a positive current of 100 μA is applied to the signal line 52 from the power supply 65, the semiconductor chips 31, 3 are normally connected to the signal line.
No current flows when 2, 33 and 34 are connected. Therefore, the DC potential of the signal line 52 becomes a positive limit voltage, and the potential can be read by the digibol 66. If any of the semiconductor chips 31, 32, 33, 34 is damaged,
When the contact is not normally made and a short circuit occurs between the contact and the adjacent contact, current leakage occurs and a low voltage below the limit voltage is observed.

【0012】次に、電源65より負の100μAの電流を信
号線52に印加すると、信号線に正常に半導体チップ31、
32、33、34が接続されている時は、各半導体チップに内
蔵されている保護ダイオードに電流が流れる。信号線52
の直流電位は−0.3V程度の電圧となり、デジボル66に
よりその電位を読み取ることができる。半導体チップ3
1、32、33、34のいずれかが損傷を受けるか、コンタク
トが正常に行なわれず、隣接接点との間に短絡を起こし
た時は、電流の漏れが発生し、−0.3V未満の低い電圧
が観測される。また、コンタクトが正常に行なわれず、
総ての接点との接続ができなかった時は、電流が流れ
ず、信号線52の直流電位は負の限界電圧となり、デジボ
ル66により、その電位を読み取ることができる。
Next, when a negative current of 100 μA is applied to the signal line 52 from the power supply 65, the semiconductor chip 31,
When 32, 33 and 34 are connected, a current flows through the protection diode built in each semiconductor chip. Signal line 52
The DC electric potential of becomes a voltage of about -0.3 V, and the electric potential can be read by the digibol 66. Semiconductor chip 3
When any one of 1, 32, 33, 34 is damaged or the contact is not made normally and a short circuit occurs with the adjacent contact, current leakage occurs and a low voltage less than −0.3V. Is observed. Also, the contact is not made normally,
When all the contacts cannot be connected, no current flows, the DC potential of the signal line 52 becomes a negative limit voltage, and the potential can be read by the digibol 66.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方法で
ある正および負の直流電流の印加では、半導体チップ 3
1、32、33、34のいずれかが損傷を受けるか、コンタク
トが正常に行なわれず、隣接接点との間に短絡を起こし
た時、もしくはコンタクトが正常に行なわれず、半導体
チップ31、32、33、34の総ての接点の接続ができなかっ
た時は、異常が判明するが、半導体チップ31、32、33、
34のいずれかが開放になった時は、異常が判明しない。
However, in the conventional method of applying positive and negative direct currents, the semiconductor chip 3
When any one of 1, 32, 33, 34 is damaged, or contact is not made normally and a short circuit occurs between adjacent contacts, or contact is not made normally, semiconductor chips 31, 32, 33 , When all the contacts of 34 cannot be connected, an abnormality is found, but semiconductor chips 31, 32, 33,
If any of the 34 are open, no anomaly is known.

【0014】すなわち、図5に示す従来の方式による直
流を用いたテストでは、ウェーハ上のチップへの信号線
接続は、列毎、行毎に並列に行なわれるため、一部の接
続が不完全でもその検出ができず、半導体チップ 31、3
2、33、34の接続のいずれかが開放になった時は異常が
判明しないので、その信号線に接続される全半導体チッ
プの接続を確認することが困難であり、その実用化を阻
んでいた。
That is, in the test using direct current according to the conventional method shown in FIG. 5, since the signal line connection to the chips on the wafer is performed in parallel for each column and each row, some connections are incomplete. However, it could not be detected, and semiconductor chips 31, 3
If any of the connections of 2, 33, 34 are opened, no abnormality is found, so it is difficult to check the connection of all semiconductor chips connected to that signal line, which prevents its practical application. I was there.

【0015】本発明は、上記従来の問題を解決し、ウェ
ーハ状態でのバーンインを行なう際に、信号線の接続を
確認できるようにすることを目的とするものである。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to make it possible to confirm the connection of signal lines when performing burn-in in a wafer state.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明では、バーンイン装置を、バーンイン対象と
なるウェーハ上に形成された半導体チップに接続される
分割された電源線または接地線と、電源線または接地線
と直交し半導体チップに接続される信号線と、電源線ま
たは接地線と信号線との間に直流電流を流す手段と、電
源線または接地線と信号線との間の電圧を測定する手段
と、測定した電圧の値により半導体チップと信号線の接
続を確認する手段とを具備する構成とした。すなわち、
信号線が横に配線されているのに対し、電源または接地
線を横に分割して供給し、分割された独立の縦方向の電
源線/接地線の1つ毎に各信号線との間の直流特性を測
定する。ウェーハ内に配置された多数の半導体チップに
対し、信号線が横方向に接続されるのに対し、電源もし
くは接地、またはその両方を横方向に分割された縦方向
の1列毎に電源/接地線により供給する。この分割され
た電源/接地線の1つ毎に横方向の信号線との間に直流
電流を流すことにより、その両端に生ずる電圧を測定す
る。
In order to solve the above problems, in the present invention, a burn-in device is provided with a divided power line or ground line connected to a semiconductor chip formed on a wafer to be burned in. , A signal line orthogonal to the power supply line or the ground line and connected to the semiconductor chip, a means for supplying a direct current between the power supply line or the ground line and the signal line, and a connection between the power line or the ground line and the signal line It is configured to have a means for measuring the voltage and a means for confirming the connection between the semiconductor chip and the signal line by the value of the measured voltage. That is,
While the signal lines are wired horizontally, the power supply or ground line is divided horizontally to be supplied, and each divided independent vertical power line / ground line is connected to each signal line. Measure the DC characteristics of. Signal lines are connected in the horizontal direction to a large number of semiconductor chips arranged in the wafer, while power supply or ground, or both power supply / ground for each row in the vertical direction divided in the horizontal direction. Supplied by wire. By passing a direct current between each of the divided power / ground lines and the signal line in the lateral direction, the voltage generated at both ends thereof is measured.

【0017】このように構成したことにより、ダイオー
ド特性を1チップ毎に独立して測定して、コンタクトに
備える接点と半導体チップの電極との間の接続を独立か
つ確実に確認することができる。半導体チップの信号電
極と電源/接地電極との間にある保護ダイオードに流れ
る電流を1チップ毎に独立して測定することにより、コ
ンタクタの接点と半導体チップの電極との間の接続を独
立かつ確実に確認することができる。
With this configuration, the diode characteristics can be independently measured for each chip, and the connection between the contact provided on the contact and the electrode of the semiconductor chip can be independently and reliably confirmed. By independently measuring the current flowing through the protection diode between the signal electrode of the semiconductor chip and the power / ground electrode for each chip, the contact between the contactor of the contactor and the electrode of the semiconductor chip is independent and secure. Can be confirmed.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1記載の発明は、
バーンイン対象となるウェーハ上に形成された半導体チ
ップに接続される分割された電源線または接地線と、前
記電源線または接地線と直交し前記半導体チップに接続
される信号線と、前記電源線または接地線と前記信号線
との間に直流電流を流す手段と、前記電源線または接地
線と前記信号線との間の電圧を測定する手段と、測定し
た電圧の値により前記半導体チップと前記信号線の接続
を確認する手段とを具備するバーンイン装置であり、コ
ンタクタに備える接点と半導体チップの電極との間の接
続を独立かつ確実に確認するという作用を有する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The invention according to claim 1 of the present invention is
A divided power line or ground line connected to the semiconductor chip formed on the wafer to be burned in, a signal line orthogonal to the power line or ground line and connected to the semiconductor chip, and the power line or Means for flowing a direct current between the ground line and the signal line, means for measuring the voltage between the power line or the ground line and the signal line, the semiconductor chip and the signal by the value of the measured voltage The burn-in device is provided with a means for confirming the wire connection, and has an effect of independently and surely confirming the connection between the contact provided on the contactor and the electrode of the semiconductor chip.

【0019】本発明の請求項2記載の発明は、バーンイ
ン対象となるウェーハ上に形成された半導体チップに分
割された電源線または接地線を接続し、前記電源線また
は接地線と直交する信号線を前記半導体チップに接続
し、前記電源線または接地線と前記信号線との間に直流
電流を流し、前記電源線または接地線と前記信号線との
間の電圧を測定し、測定した電圧の値により前記半導体
チップと前記信号線の接続を確認するバーンイン方法で
あり、コンタクタに備える接点と半導体チップの電極と
の間の接続を独立かつ確実に確認するという作用を有す
る。
According to a second aspect of the present invention, a power supply line or a ground line divided into semiconductor chips formed on a wafer to be burned in is connected, and a signal line orthogonal to the power supply line or the ground line is connected. Is connected to the semiconductor chip, a direct current is passed between the power line or ground line and the signal line, the voltage between the power line or ground line and the signal line is measured, and the measured voltage It is a burn-in method for confirming the connection between the semiconductor chip and the signal line by a value, and has an effect of independently and surely confirming the connection between the contact provided on the contactor and the electrode of the semiconductor chip.

【0020】以下、本発明の実施の形態について、図1
と図2を参照しながら詳細に説明する。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention.
Will be described in detail with reference to FIG.

【0021】(実施の形態)本発明の実施の形態は、バ
ーンイン対象となるウェーハ上に形成された半導体チッ
プに、分割された電源線と、電源線と直交する信号線を
接続し、電源線と信号線をスイッチで選択して直流電流
を流し、電源線と信号線との間の電圧を測定し、測定し
た電圧の値により半導体チップと信号線の接続を確認す
るバーンイン装置である。
(Embodiment) In the embodiment of the present invention, a divided power line and a signal line orthogonal to the power line are connected to a semiconductor chip formed on a wafer to be burned in, and the power line is connected. Is a burn-in device that selects a signal line with a switch, applies a direct current, measures the voltage between the power line and the signal line, and confirms the connection between the semiconductor chip and the signal line based on the measured voltage value.

【0022】図1は、本発明の実施の形態のバーンイン
装置のブロック図である。図1において、11はウェーハ
であり、この中にチップ1(31)、チップ2(32)、チップ
3(33)、チップ4(34)およびチップ5(41)、チップ6(4
2)から成る半導体チップが多数形成されている。これら
の各チップは、図2に示す内部構造を持っている。
FIG. 1 is a block diagram of a burn-in system according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 11 is a wafer, in which the chip 1 (31), chip 2 (32), chip 3 (33), chip 4 (34) and chip 5 (41), chip 6 (4)
A large number of semiconductor chips composed of 2) are formed. Each of these chips has the internal structure shown in FIG.

【0023】図2において、101は信号電極A1であり、
メモリに対するアドレス信号を与えるボンディングパッ
ドの一部を構成する。102は信号電極A2であり、メモリ
に対するアドレス信号を与えるボンディングパッドの一
部を構成する。103は信号電極A3であり、メモリに対す
るアドレス信号を与えるボンディングパッドの一部を構
成する。104は電源電極であり、メモリに対し電源を供
給するボンディングパッドである。105は接地電極であ
り、メモリに対し接地を供給するボンディングパッドで
ある。
In FIG. 2, 101 is the signal electrode A1,
It constitutes a part of a bonding pad that provides an address signal to the memory. A signal electrode A2 102 constitutes a part of a bonding pad for supplying an address signal to the memory. Reference numeral 103 denotes a signal electrode A3, which constitutes a part of a bonding pad that gives an address signal to the memory. 104 is a power supply electrode, which is a bonding pad for supplying power to the memory. Reference numeral 105 denotes a ground electrode, which is a bonding pad that supplies ground to the memory.

【0024】111は保護ダイオードであり、信号電極A1
(101)の入力信号に対する保護を目的として信号電極A1
と接地電極105の間に配置されている。112は保護ダイオ
ードであり、信号電極A2(102)の入力信号に対する保護
を目的として、信号電極A2と接地電極105の間に配置さ
れている。113は保護ダイオードであり、信号電極A3(10
3)の入力信号に対する保護を目的として、信号電極A3と
接地電極105の間に配置されている。114は保護ダイオー
ドであり、信号電極A1(101)の入力信号に対する保護を
目的として、信号電極A1と電源電極104の間に配置され
ている。115は保護ダイオードであり、信号電極A2(102)
の入力信号に対する保護を目的として、信号電極A2と電
源電極104の間に配置されている。116は保護ダイオード
であり、信号電極A3(103)の入力信号に対する保護を目
的として、信号電極A3と電源電極104の間に配置されて
いる。
Reference numeral 111 denotes a protection diode, which is a signal electrode A1.
Signal electrode A1 for protection against (101) input signal
And the ground electrode 105. Reference numeral 112 denotes a protection diode, which is arranged between the signal electrode A2 and the ground electrode 105 for the purpose of protecting the signal electrode A2 (102) against an input signal. 113 is a protection diode, which is a signal electrode A3 (10
It is arranged between the signal electrode A3 and the ground electrode 105 for the purpose of protecting the input signal of 3). Reference numeral 114 denotes a protection diode, which is arranged between the signal electrode A1 and the power supply electrode 104 for the purpose of protecting the signal electrode A1 (101) against an input signal. 115 is a protection diode, signal electrode A2 (102)
Is arranged between the signal electrode A2 and the power supply electrode 104 for the purpose of protecting the input signal of the. Reference numeral 116 denotes a protection diode, which is arranged between the signal electrode A3 and the power supply electrode 104 for the purpose of protecting the signal electrode A3 (103) against an input signal.

【0025】すなわち、半導体チップ31、32、33、34の
信号電極101、102、103と電源電極104、接地電極105の
間にはそれぞれ111、112、113、114、115、116に示す各
半導体チップの持つ保護ダイオードによるダイオード特
性が存在する。
That is, semiconductors 111, 112, 113, 114, 115 and 116 are provided between the signal electrodes 101, 102 and 103 of the semiconductor chips 31, 32, 33 and 34 and the power electrode 104 and the ground electrode 105, respectively. There is a diode characteristic due to the protection diode of the chip.

【0026】図1に戻り、本発明の実施の形態のバーン
イン装置の構成を説明する。71はコンタクタに備えられ
た電源線VCC1であり、チップ1(31)を含む縦の一列のチ
ップ群に対し、それぞれの電源電極に接点を通して電源
を供給する。72はコンタクタに備えられた電源線VCC2で
あり、チップ2(32)を含む縦の一列のチップ群に対し、
それぞれの電源電極に接点を通して電源を供給する。73
はコンタクタに備えられた電源線VCC3であり、チップ3
(33)を含む縦の一列のチップ群に対し、それぞれの電源
電極に接点を通して電源を供給する。74はコンタクタに
備えられた電源線VCC4であり、チップ4(34)を含む縦の
一列のチップ群に対し、それぞれの電源電極に接点を通
して電源を供給する。
Returning to FIG. 1, the structure of the burn-in device according to the embodiment of the present invention will be described. Reference numeral 71 denotes a power supply line VCC1 provided in the contactor, which supplies power to each of a vertical row of chips including the chip 1 (31) through contacts to respective power supply electrodes. Reference numeral 72 is a power supply line VCC2 provided in the contactor, and for the vertical row of chips including the chip 2 (32),
Power is supplied to each power electrode through a contact. 73
Is the power supply line VCC3 provided in the contactor, and the chip 3
Power is supplied to each of the chips in a vertical line including (33) through a contact point to each power electrode. Reference numeral 74 denotes a power supply line VCC4 provided in the contactor, which supplies power to each group of chips in a vertical line including the chip 4 (34) through contacts to respective power supply electrodes.

【0027】75はコンタクタに備えられた信号線A1であ
り、それぞれのチップの電極A1に接点を通して接続され
ており、チップ1(31)、チップ2(32)、チップ3(33)、
チップ4(34)を含む横方向の一列の各チップのアドレス
A1信号をコンタクタの外部に引き出している。76はコン
タクタに備えられた信号線A2であり、それぞれのチップ
の電極A2に接点を通して接続されており、チップ1(3
1)、チップ2(32)、チップ3(33)、チップ4(34)を含む
横方向の一列の各チップのアドレスA2信号をコンタクタ
の外部に引き出している。77はコンタクタに備えられた
信号線A3であり、それぞれのチップの電極A3に接点を通
して接続されており、チップ1(31)、チップ2(32)、チ
ップ3(33)、チップ4(34)を含む横方向の一列の各チッ
プのアドレスA3信号をコンタクタの外部に引き出してい
る。
Reference numeral 75 denotes a signal line A1 provided in the contactor, which is connected to the electrode A1 of each chip through a contact, and is connected to the chip 1 (31), chip 2 (32), chip 3 (33),
Address of each chip in the horizontal row including chip 4 (34)
The A1 signal is pulled out of the contactor. Reference numeral 76 is a signal line A2 provided in the contactor, which is connected to the electrode A2 of each chip through a contact, and is connected to the chip 1 (3
The address A2 signal of each chip in the horizontal row including 1), the chip 2 (32), the chip 3 (33), and the chip 4 (34) is extracted to the outside of the contactor. Reference numeral 77 is a signal line A3 provided in the contactor, which is connected to the electrode A3 of each chip through a contact, and is connected to the chip 1 (31), chip 2 (32), chip 3 (33), chip 4 (34). The address A3 signal of each chip in a row in the horizontal direction including is drawn to the outside of the contactor.

【0028】91は電源であり、100μA程度の正負の極
性の異なる直流電流を発生し、信号線と電源線の間に印
加することができる。但し、ウェーハ上の半導体チップ
を破壊しないよう5V程度の正負の限界電圧以上の電圧
が発生しないようなリミット回路が組み込まれている。
92はデジボルであり、信号線に接続され、信号線と電源
線の間の直流電圧を測定する。
Reference numeral 91 is a power source, which can generate direct currents having different positive and negative polarities of about 100 μA and can be applied between the signal line and the power source line. However, a limit circuit is incorporated so that a voltage above the positive and negative limit voltages of about 5 V is not generated so as not to damage the semiconductor chip on the wafer.
Reference numeral 92 is a digibol, which is connected to the signal line and measures the DC voltage between the signal line and the power supply line.

【0029】81はスイッチ1であり、電源線VCC1(71)に
挿入され電源91およびデジボル92と電源線VCC1の接続を
オン−オフする。82はスイッチ2であり、電源線VCC2(7
2)に挿入され電源91およびデジボル92と電源線VCC2の接
続をオン−オフする。83はスイッチ3であり、電源線VC
C3(73)に挿入され電源91およびデジボル92と電源線VCC3
の接続をオン−オフする。84はスイッチ4であり、電源
線VCC4(74)に挿入され電源91およびデジボル92と電源線
VCC4の接続をオン−オフする。85はスイッチ5であり、
信号線A1(75)に挿入され電源91およびデジボル92と信号
線 A1の接続をオン−オフする。86はスイッチ6であ
り、信号線A2(76)に挿入され電源91およびデジボル92と
信号線A2の接続をオン−オフする。87はスイッチ7であ
り、信号線A3(77)に挿入され電源91およびデジボル92と
信号線A3の接続をオン−オフする。
Reference numeral 81 is a switch 1, which is inserted in the power supply line VCC1 (71) to turn on / off the connection between the power supply 91 and the digibol 92 and the power supply line VCC1. Reference numeral 82 is a switch 2, which is a power supply line VCC2 (7
Inserted in 2) turns on / off the connection between the power supply 91 and digibol 92 and the power supply line VCC2. 83 is a switch 3 and a power supply line VC
It is inserted in C3 (73) and power supply 91 and digibol 92 and power supply line VCC3
Turn the connection on and off. 84 is a switch 4, which is inserted in the power supply line VCC4 (74) and is connected to the power supply 91, digibol 92 and power supply line.
Turn the VCC4 connection on and off. 85 is a switch 5,
It is inserted into the signal line A1 (75) to turn on / off the connection between the power supply 91 and the digibol 92 and the signal line A1. A switch 6 is inserted in the signal line A2 (76) to turn on / off the connection between the power supply 91 and the digibol 92 and the signal line A2. A switch 7 is inserted in the signal line A3 (77) to turn on / off the connection between the power supply 91 and the digital signal 92 and the signal line A3.

【0030】以下に、上記のように構成された本発明の
実施の形態のバーンイン装置の動作を説明する。最初
に、スイッチ1(81)およびスイッチ5(85)をオンとし、
他のスイッチは総てオフとし、電源線71と信号線75に電
流を印加できるように設定する。この状態で、電源91お
よびデジボル92を用いて半導体チップの電極を外部から
測定する。
The operation of the burn-in device of the embodiment of the present invention configured as described above will be described below. First, turn on switch 1 (81) and switch 5 (85),
All other switches are turned off and set so that current can be applied to the power supply line 71 and the signal line 75. In this state, the electrodes of the semiconductor chip are externally measured using the power supply 91 and the digibol 92.

【0031】電源線71に対して信号線A1(75)に負の電圧
をかけた時は高い抵抗を示し、正の電圧をかけた時は保
護ダイオードによるダイオード特性を示す。したがっ
て、電源91より負の100μAの電流を信号線A1(75)より
電源線VCC1(71)に対し印加すると、信号線A1(75)に正常
に半導体チップ31のA1信号が接続され、かつ電源線VCC1
(71)に正常に半導体チップ31の電源電極が接続されてい
る時は電流が流れない。このため、信号線52の直流電位
は負の限界電圧となり、デジボル92によりその電位を読
み取ることができる。半導体チップ31が損傷を受ける
か、コンタクトが正常に行なわれず、隣接接点との間に
短絡を起こした時は、電流の漏れが発生し、限界電圧未
満の低い電圧が観測される。
When a negative voltage is applied to the signal line A1 (75) with respect to the power supply line 71, a high resistance is exhibited, and when a positive voltage is applied, a diode characteristic due to a protection diode is exhibited. Therefore, when a negative current of 100 μA from the power supply 91 is applied to the power supply line VCC1 (71) from the signal line A1 (75), the A1 signal of the semiconductor chip 31 is normally connected to the signal line A1 (75) and the power supply is Line VCC1
No current flows when the power electrode of the semiconductor chip 31 is normally connected to (71). Therefore, the DC potential of the signal line 52 becomes a negative limit voltage, and the potential can be read by the digibol 92. When the semiconductor chip 31 is damaged or contacts are not normally made and a short circuit occurs between adjacent contacts, current leakage occurs and a low voltage below the limit voltage is observed.

【0032】次に、電源91より正の100μAの電流を信
号線A1(75)より電源線VCC1(71)に印加すると、信号線A1
(75)に正常に半導体チップ31のA1信号が接続され、かつ
電源線VCC1(71)に正常に半導体チップ31の電源電極が接
続されている時は、半導体チップに内蔵されている保護
ダイオードに電流が流れる。信号線A1(75)の直流電位は
電源線VCC1(71)に対し+0.3V程度の電圧となり、デジ
ボル92によりその電位を読み取ることができる。半導体
チップ31が損傷を受けるか、コンタクトが正常に行なわ
れず、隣接接点との間に短絡を起こした時は、電流の漏
れが発生し、+0.3V未満の低い電圧が観測される。ま
た、コンタクトが正常に行なわれず、接点との接続がで
きなかった時は、電流が流れず、信号線A1(75)の直流電
位は、電源線VCC1(71)に対し正の限界電圧となり、デジ
ボル92によりその電位を読み取ることができる。
Next, when a positive current of 100 μA is applied from the power supply 91 to the power supply line VCC1 (71) from the signal line A1 (75), the signal line A1 (75)
When the A1 signal of the semiconductor chip 31 is normally connected to (75) and the power electrode of the semiconductor chip 31 is normally connected to the power supply line VCC1 (71), the protection diode built in the semiconductor chip is connected. An electric current flows. The DC potential of the signal line A1 (75) is about +0.3 V with respect to the power supply line VCC1 (71), and the potential can be read by the digibol 92. When the semiconductor chip 31 is damaged or a contact is not made normally and a short circuit occurs with an adjacent contact, current leakage occurs and a low voltage of less than +0.3 V is observed. Also, when the contact is not made normally and the connection with the contact cannot be established, no current flows and the DC potential of the signal line A1 (75) becomes a positive limit voltage with respect to the power supply line VCC1 (71). The electric potential can be read by the digibol 92.

【0033】第3に、スイッチ1(81)およびスイッチ6
(86)をオンとし、他のスイッチを総てオフした状態で、
上記の測定を行なうことにより、信号線A2(76)とチップ
1(31)の信号端子A2(102)との接続をテストすることが
できる。
Third, the switch 1 (81) and the switch 6
With (86) turned on and all other switches off,
By performing the above measurement, the connection between the signal line A2 (76) and the signal terminal A2 (102) of the chip 1 (31) can be tested.

【0034】第4に、スイッチ1(81)およびスイッチ7
(87)をオンとし、他のスイッチを総てオフした状態で、
上記の測定を行なうことにより、信号線A3(77)とチップ
1(31)の信号端子A3(103)との接続をテストすることが
できる。
Fourth, the switch 1 (81) and the switch 7
With (87) turned on and all other switches off,
By performing the above measurement, the connection between the signal line A3 (77) and the signal terminal A3 (103) of the chip 1 (31) can be tested.

【0035】第5に、スイッチ2(82)およびスイッチ5
(85)をオンとし、他のスイッチを総てオフした状態で、
上記の測定を行なうことにより、信号線A1(75)とチップ
2(32)の信号端子A1(101)との接続をテストすることが
できる。以下同様に、順次各チップ毎に各信号線と各電
極の接続を独立にテストしていくことができる。
Fifth, the switch 2 (82) and the switch 5
With (85) turned on and all other switches off,
By performing the above measurement, the connection between the signal line A1 (75) and the signal terminal A1 (101) of the chip 2 (32) can be tested. Similarly, the connection between each signal line and each electrode can be tested independently for each chip in the same manner.

【0036】すなわち、本実施の形態のバーンイン装置
において、スイッチを切り替えて、順次チップに接続さ
れている電源線と信号線の組み合わせを選択しながら、
正および負の直流電流を印加することにより、半導体チ
ップ毎に、電源線−電源電極と信号線−信号電極の間の
コンタクトを独立に確認することができる。これによ
り、信号線に接続される全半導体チップの接続を確認す
ることが可能となり、ウェーハとコンタクタの全接続を
保証でき、ウェーハ状態でのバーンインの実用化を推進
できる。
That is, in the burn-in device of the present embodiment, the switches are switched to sequentially select the combination of the power supply line and the signal line connected to the chip,
By applying the positive and negative direct currents, it is possible to independently confirm the contact between the power supply line and the power supply electrode and the signal line and the signal electrode for each semiconductor chip. This makes it possible to confirm the connection of all the semiconductor chips connected to the signal line, guarantee all the connections between the wafer and the contactor, and promote the practical use of burn-in in the wafer state.

【0037】本実施の形態では、電源線を分割したが、
接地線もしくはサブストレート信号線を分割しても同様
の効果を得ることができ、電源線と接地線もしくはサブ
ストレート信号線の両方を分割しても、よりよい効果を
得ることができる。また、電源/接地線もしくはサブス
トレート信号線を横方向の1チップ毎に分割しなくて
も、複数のチップ毎にまとめる構成をとっても、接続の
保証の程度は低減するが、同様の効果を得ることができ
る。現実の手段としては、2〜3列毎にまとめて電源/
接地/サブストレート信号を供給する手法が有効であ
る。
Although the power supply line is divided in this embodiment,
The same effect can be obtained by dividing the ground line or the substrate signal line, and a better effect can be obtained by dividing both the power supply line and the ground line or the substrate signal line. Further, even if the power supply / ground line or the substrate signal line is not divided into every one chip in the horizontal direction, or if it is combined into a plurality of chips, the degree of guarantee of connection is reduced, but the same effect is obtained. be able to. As a practical means, power supply /
A method of supplying a ground / substrate signal is effective.

【0038】上記のように、本発明の実施の形態では、
バーンイン装置を、バーンイン対象となるウェーハ上に
形成された半導体チップに、分割された電源線と、電源
線と直交する信号線を接続し、電源線と信号線をスイッ
チで選択して直流電流を流し、電源線と信号線との間の
電圧を測定し、測定した電圧の値により半導体チップと
信号線の接続を確認する構成としたので、半導体チップ
31、32、33、34の接続のいずれかが開放になった時
も、その異常を検出することができる。
As described above, in the embodiment of the present invention,
The burn-in device connects the divided power line and the signal line orthogonal to the power line to the semiconductor chip formed on the wafer to be burned in, and selects the power line and the signal line with the switch to generate the direct current. Since the voltage between the power line and the signal line is measured and the connection between the semiconductor chip and the signal line is confirmed by the measured voltage value, the semiconductor chip
When any one of the connections of 31, 32, 33, 34 is opened, the abnormality can be detected.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上のように、本発明では、バーンイン
装置を、バーンイン対象となるウェーハ上に形成された
半導体チップに接続される分割された電源線または接地
線と、電源線または接地線と直交し半導体チップに接続
される信号線と、電源線または接地線と信号線との間に
直流電流を流す手段と、電源線または接地線と信号線と
の間の電圧を測定する手段と、測定した電圧の値により
半導体チップと信号線の接続を確認する手段とを具備す
る構成としたので、半導体チップの接続のいずれかが開
放になった時も、その異常を検出することができるた
め、信号線の接続確認が容易かつ確実になるという効果
が得られる。
As described above, according to the present invention, the burn-in device is provided with the divided power line or ground line connected to the semiconductor chip formed on the wafer to be burned in, and the power line or ground line. Signal lines that are orthogonal to each other and are connected to the semiconductor chip, means for flowing a direct current between the power supply line or the ground line and the signal line, and means for measuring the voltage between the power supply line or the ground line and the signal line, Since it is configured to have a means for confirming the connection between the semiconductor chip and the signal line based on the measured voltage value, the abnormality can be detected even when any of the semiconductor chip connections is opened. The effect that the connection confirmation of the signal line is easy and reliable can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態のバーンイン装置のブロッ
ク図、
FIG. 1 is a block diagram of a burn-in device according to an embodiment of the present invention,

【図2】バーンイン対象の半導体チップの内部構成を示
す図、
FIG. 2 is a diagram showing an internal configuration of a semiconductor chip to be burned in;

【図3】ウェーハ上の半導体チップおよびコンタクタ上
の信号線を示す図、
FIG. 3 is a diagram showing a semiconductor chip on a wafer and signal lines on a contactor;

【図4】コンタクタ上の信号線の詳細図、FIG. 4 is a detailed view of a signal line on a contactor,

【図5】従来の直流を用いたテストの図である。FIG. 5 is a diagram of a test using a conventional direct current.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 ウェーハ 12 コンタクタ 21〜28 半導体チップ 31〜34 半導体チップ 41〜42 半導体チップ 51〜55 信号線 61〜64 保護ダイオード 65 電源 66 デジボル 71〜74 電源線 75〜77 信号線 81〜87 スイッチ 91 電源 92 デジボル 101〜103 信号電極 104 電源電極 105 接地電極 111〜116 保護ダイオード 11 wafers 12 contactors 21-28 Semiconductor chip 31-34 Semiconductor chip 41-42 Semiconductor chip 51 to 55 signal line 61-64 protection diode 65 power 66 Digibol 71 to 74 Power line 75 to 77 signal line 81-87 switch 91 Power 92 Digibol 101-103 Signal electrode 104 power electrode 105 Ground electrode 111-116 Protection diode

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/66 G01R 31/26 Front page continuation (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/66 G01R 31/26

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 バーンイン対象となるウェーハ上に形成
された半導体チップに接続される分割された電源線また
は接地線と、前記電源線または接地線と直交し前記半導
体チップに接続される信号線と、前記電源線または接地
線と前記信号線との間に直流電流を流す手段と、前記電
源線または接地線と前記信号線との間の電圧を測定する
手段と、測定した電圧の値により前記半導体チップと前
記信号線の接続を確認する手段とを具備することを特徴
とするバーンイン装置。
1. A divided power line or ground line connected to a semiconductor chip formed on a wafer to be burned in, and a signal line orthogonal to the power line or ground line and connected to the semiconductor chip. A means for supplying a direct current between the power supply line or ground line and the signal line; a means for measuring the voltage between the power supply line or ground line and the signal line; A burn-in device comprising a semiconductor chip and means for confirming connection between the signal line.
【請求項2】 バーンイン対象となるウェーハ上に形成
された半導体チップに分割された電源線または接地線を
接続し、前記電源線または接地線と直交する信号線を前
記半導体チップに接続し、前記電源線または接地線と前
記信号線との間に直流電流を流し、前記電源線または接
地線と前記信号線との間の電圧を測定し、測定した電圧
の値により前記半導体チップと前記信号線の接続を確認
することを特徴とするバーンイン方法。
2. A divided power line or ground line is connected to a semiconductor chip formed on a wafer to be burned in, and a signal line orthogonal to the power line or ground line is connected to the semiconductor chip, A direct current is passed between the power line or ground line and the signal line, the voltage between the power line or ground line and the signal line is measured, and the semiconductor chip and the signal line are measured according to the measured voltage value. The burn-in method characterized by confirming the connection of.
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