JPH0528799A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH0528799A
JPH0528799A JP3182790A JP18279091A JPH0528799A JP H0528799 A JPH0528799 A JP H0528799A JP 3182790 A JP3182790 A JP 3182790A JP 18279091 A JP18279091 A JP 18279091A JP H0528799 A JPH0528799 A JP H0528799A
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Abstract

PURPOSE:To judge the presence or absence of the leak currents of the data input and output terminal of a memory cell by allowing a load transistor to be conductive or non-conductive according to the level of a load control signal. CONSTITUTION:On applying a power source when an inside writing control signal IWE is held to a low level, the load control signal LC of a load control circuit 5 is turned to the low level. Then, a pair of transistors TrQ41 and Q42 which input the signal LC to the gates are turned to a non-conductive state while the control signal IWE is held to the low level. When the signal IWE is turned to a high level, and a reading operation is started, a TrQ51 is turned ON, and the output of a flip flop constituted of inverters IV1 and IV2 is inverted. Then, the signal LC being the output signal of the circuit is turned to the high level regardless of the level of the signal IWE, and the TrQ41 and Q42 are always in the ON states. Thus, the presence or absence of the leak currents of the data input and output terminal N1 of a memory cell MC can be exactly judged.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特にスタティック型RAM型の半導体記憶装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, it relates to a static RAM type semiconductor memory device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の半導体記憶装置は、一例
として図4に示すように、ソースを接地電位点と接続す
る第1のトランジスタQ1、ソースを接地電位点と接続
しゲートをトランジスタQ1のドレインと接続しドレイ
ンをトランジスタQ1のゲートと接続する第2のトラン
ジスタQ2、一端をトランジスタQ1のドレインと接続
し他端を電源電位Vccの電源供給端と接続する高抵抗
の第1の負荷抵抗R1、及び一端をトランジスタQ2の
ドレインと接続し他端を電源供給端と接続する高抵抗の
第2の負荷抵抗R2を備え、トランジスタQ1,Q2の
ドレインを第1,第2のデータ入出力端N1,N2とし
てデータを取込み記憶しかつ記憶しているデータを出力
するフリップフロップ型の複数のメモリセルMC(1個
のみ表示)と、これらメモリセルMCへのデータの伝送
及びこれらメモリセルからのデータの伝送を行う複数の
対をなす第1,第2のディジット線DL1,DL2(1
対のみ表示)と、アドレス信号に応じて選択レベルとな
り複数のメモリセルMCのうちの所定のものを選択状態
とするための複数のワード線WL(1本のみ表示)と、
ゲートを対応するワード線WLと接続しこのワード線W
Lが選択レベルのときメモリセルMCの第1,第2のデ
ータ入出力端(記憶節点)と対応する第1,第2のディ
ジット線DL1,DL2とをそれぞれ接続するスイッチ
ング用の複数のトランジスタQ3,Q4(1対のみ表
示)と、各ディジット線DL1,DL2の一端と電源供
給端との間にそれぞれダイオード接続されディジット線
DL1,DL2と接続する回路の負荷抵抗となるトラン
ジスタQ41,Q42を備えた複数の負荷回路4a(1
回路のみ表示)と、書込みデータ及び読出しデータを伝
達するデータバスDB1,DB2と、複数の対をなすデ
ィジット線DL1,DL2の所定のものを選択しデータ
バスDB1,DB2と接続するデータ転送回路3と、メ
モリセルMCへのデータの書込みを制御する書込回路1
と、メモリセルMCから読出されたデータの読出しを制
御する読出し回路2とを有する構成となっていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in this type of semiconductor memory device, as shown in FIG. 4 as an example, a first transistor Q1 having a source connected to a ground potential point, a source connected to a ground potential point and a gate connected to a transistor Q1. A second transistor Q2 connected to the drain of the transistor Q1 and the drain connected to the gate of the transistor Q1, and a high resistance first load resistor connected to the drain of the transistor Q1 at one end and to the power supply end of the power supply potential Vcc. R1 and a high resistance second load resistor R2 having one end connected to the drain of the transistor Q2 and the other end connected to the power supply terminal, and the drains of the transistors Q1 and Q2 are connected to the first and second data input / output terminals. A plurality of flip-flop type memory cells MC (only one is shown) for receiving and storing data as N1 and N2 and outputting the stored data; First, second digit lines DL1, DL2 to form a plurality of pairs for transmitting data from the transmission and the memory cells of data to Luo memory cell MC (1
Only a pair), and a plurality of word lines WL (only one is displayed) for bringing a selected one of a plurality of memory cells MC into a selected state in response to an address signal.
The gate is connected to the corresponding word line WL and this word line W
A plurality of switching transistors Q3 for connecting the first and second data input / output terminals (storage nodes) of the memory cell MC and the corresponding first and second digit lines DL1 and DL2 when L is at the selection level. , Q4 (only one pair is shown), and transistors Q41 and Q42, which are diode-connected between one end of each digit line DL1 and DL2 and the power supply end and serve as load resistance of a circuit connected to the digit lines DL1 and DL2. A plurality of load circuits 4a (1
(Only circuit is shown), data buses DB1 and DB2 for transmitting write data and read data, and predetermined ones of digit lines DL1 and DL2 forming a plurality of pairs are selected to connect to the data buses DB1 and DB2. And a write circuit 1 for controlling the writing of data to the memory cell MC
And a read circuit 2 for controlling the reading of the data read from the memory cell MC.

【0003】この半導体記憶装置において、ワード線W
Lが選択レベルになるとスイッチング用のトランジスタ
Q3,Q4がオンとなり、メモリセルMCの記憶内容に
よりディジット線DL1,DL2の一方(例えばDL
2)が低レベル、他方が高レベルとなる。
In this semiconductor memory device, the word line W
When L becomes the selection level, the switching transistors Q3 and Q4 are turned on, and one of the digit lines DL1 and DL2 (for example DL
2) is low level and the other is high level.

【0004】通常メモリセルMCのトランジスタQ1,
Q2は負荷回路4aのトランジスタQ41,Q42より
小型化されているため、トランジスタQ1,Q2のオン
抵抗はトランジスタQ41,Q42より大きく、低レベ
ルのディジット線DL2は接地電位(0V)まで下降し
きっていない。従って、読出し動作が終了し、ワード線
WLが非選択レベルとなりトランジスタQ3,Q4がオ
フ状態となって、ディジット線DL2の低レベルをディ
ジット線DL1と同一電位まで充電を行うとき、低レベ
ルが0Vの時と比べて、すみやかに充電を行うことがで
きる。従って、負荷回路4aを構成するトランジスタQ
41,Q42のサイズ、ワード線WLの選択レベル、非
選択レベルのタイミングを最適に設計し、高速動作可能
なスタティックRAM型の半導体記憶装置を得ることが
できる。
The transistors Q1 of the normal memory cell MC
Since Q2 is smaller than the transistors Q41 and Q42 of the load circuit 4a, the on-resistances of the transistors Q1 and Q2 are larger than those of the transistors Q41 and Q42, and the low level digit line DL2 is not completely lowered to the ground potential (0V). . Therefore, when the read operation is completed, the word line WL becomes the non-selection level, the transistors Q3 and Q4 are turned off, and the low level of the digit line DL2 is charged to the same potential as the digit line DL1, the low level is 0V. Compared to the time, it can be charged more quickly. Therefore, the transistor Q forming the load circuit 4a
It is possible to obtain a static RAM type semiconductor memory device capable of operating at high speed by optimally designing the sizes of 41 and Q42, the timing of the selection level of the word line WL, and the timing of the non-selection level.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置は、メモリセルMCの負荷抵抗R1,R2が高
抵抗となっており、負荷回路4aのトランジスタQ4
1,Q42はダイオード接続されていて所定のオン抵抗
をもっているので、書込み回路1によりメモリセルMC
のデータ入出力端N1,N2を高レベル,低レベルにし
て書込み回路1に流れる電流を測定し、このデータ入出
力端N1,N2の絶縁状態を試験しようとするとき、例
えばデータ入出力端N1と接地電位点との間にリーク抵
抗Rxがあっても、トランジスタQ41,Q42を通し
て流れる電流があるため、リーク抵抗Rxによる異常な
電流が存在するのかどうか、またどの程度の値なのかを
明確に測定することができるという問題点があった。
In the conventional semiconductor memory device described above, the load resistances R1 and R2 of the memory cell MC are high, and the transistor Q4 of the load circuit 4a is high.
Since 1 and Q42 are diode-connected and have a predetermined ON resistance, the write circuit 1 causes the memory cell MC
When the current flowing in the write circuit 1 is measured by setting the data input / output terminals N1 and N2 of the data input / output terminals N1 and N2 to high level and low level to test the insulation state of the data input / output terminals N1 and N2, for example, the data input / output terminal N1 Even if there is a leakage resistance Rx between the ground potential point and the ground potential point, since there is a current flowing through the transistors Q41 and Q42, it is clarified whether there is an abnormal current due to the leakage resistance Rx and its value. There was a problem that it could be measured.

【0006】本発明の目的は、メモリセルのデータ入出
力端(記憶節点)のリーク電流の有無及びリーク電流等
を明確に判定,測定することができ、不良解析等を容易
にすることができる半導体記憶装置を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to be able to clearly determine and measure the presence / absence of a leak current at a data input / output terminal (storage node) of a memory cell, a leak current, etc., and to facilitate failure analysis and the like. It is to provide a semiconductor memory device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、ソースを共に第1の電源電位点と接続しドレイン及
びゲートを互いに交差接続する第1及び第2のトランジ
スタ、並びに一端を前記第1及び第2のトランジスタの
ドレインとそれぞれ対応して接続してこの接続点をデー
タ入出力端とし他端を共に第2の電源電位点と接続する
高抵抗の第1及び第2の負荷抵抗をそれぞれ備え行方
向,列方向にマトリクス状に配列された複数のメモリセ
ルと、選択レベルのときこれらメモリセルを行方向に所
定の単位で選択状態とする複数のワード線と、前記複数
のメモリセルの列方向の所定の単位のメモリセルと対応
して設けられこれら対応するメモリセルの読出しデータ
及び書込みデータを伝達する複数のディジット線と、ゲ
ートを対応する前記ワード線と接続しこのワード線が選
択レベルのときそれぞれ対応する前記メモリセルのデー
タ入出力端及びディジット線間を導通状態としてこのメ
モリセルを選択状態とする複数のスイッチング用のトラ
ンジスタと、選択状態の前記メモリセルへの書込みデー
タの伝達及びこのメモリセルからの読出しデータの伝達
を行うデータバスと、前記複数のディジット線のうちの
所定のものを選択し前記データバスへ接続するデータ転
送回路と、選択された前記メモリセルへの書込みデータ
及びこのメモリセルからの読出しデータの伝達制御を行
う書込み回路及び読出し回路と、それぞれ負荷用のトラ
ンジスタを備え前記各ディジット線とそれぞれ対応して
接続しこれらディジット線に接続する回路の負荷となる
負荷回路とを有する半導体記憶装置において、書込み状
態で電源が投入されたとき第1のレベルを維持し最初に
読出し状態となったとき第2のレベルとなりこの第2の
レベルを維持する負荷制御信号を発生する負荷制御回路
を設け、前記負荷制御信号により、前記負荷回路の負荷
用のトランジスタを、この負荷制御信号が第1のレベル
のときは非導通状態に、第2のレベルのときは導通状態
になるように制御する構成を有している。
According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device in which first and second transistors having sources connected to a first power supply potential point and drains and gates cross-connected to each other, and one end of which is the first transistor The first and second load resistors of high resistance, which are respectively connected to the drains of the first and second transistors and use this connection point as a data input / output terminal and the other end thereof are both connected to the second power supply potential point, A plurality of memory cells respectively arranged in a matrix in the row direction and the column direction; a plurality of word lines for selecting these memory cells in a predetermined unit in the row direction at a selection level; and the plurality of memory cells A plurality of digit lines provided corresponding to memory cells of a predetermined unit in the column direction for transmitting read data and write data of the corresponding memory cells, and corresponding gates. A plurality of switching transistors which are connected to a word line and which bring the memory cell into a selected state by setting a conduction state between a data input / output terminal and a digit line of the corresponding memory cell when the word line is at a selected level; Data bus for transmitting write data to the memory cell and transmitting read data from the memory cell, and a data transfer circuit for selecting a predetermined one of the plurality of digit lines and connecting it to the data bus A write circuit and a read circuit for controlling transmission of write data to the selected memory cell and read data from the memory cell, and a load transistor and a load transistor, respectively, which are respectively connected to the respective digit lines. In a semiconductor memory device having a load circuit which becomes a load of a circuit connected to these digit lines And a load control circuit for generating a load control signal that maintains the first level when the power is turned on in the write state and becomes the second level when the power is first read out and maintains the second level. A configuration in which the load control signal controls a load transistor of the load circuit so as to be in a non-conductive state when the load control signal is at a first level and to be in a conductive state when the load control signal is at a second level. have.

【0008】[0008]

【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.

【0009】図1は本発明の第1の実施例を示す回路図
である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【0010】この実施例が図4に示された従来の半導体
記憶装置と相違する点は、ゲートに内部書込み制御信号
IWE(低レベルアクティブ)を入力するトランジスタ
Q51と、インバータIV1,IV2と、コンデンサC
1,C2とを備え、書込み状態で電源が投入されたとき
低レベルを維持し最初に読出し状態となったとき高レベ
ルとなりこの高レベルを維持する負荷制御信号LCを発
生する負荷制御回路5を設け、この負荷制御信号LCに
より、負荷回路4の負荷用トランジスタQ41,Q42
を、この負荷制御信号LCが低レベルのときは非導通状
態に、高レベルのときは導通状態になるように制御した
点にある。このような負荷制御信号LCの発生は、トラ
ンジスタQ51及びイバータIV1,IV2を形成する
トランジスタのサイズを適正に設定することにより容易
に実現できる。また、コンデンサC1,C2はレベル安
定用に挿入したものである。
This embodiment differs from the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 4 in that a transistor Q51 for inputting an internal write control signal IWE (low level active) to the gate, inverters IV1 and IV2, and a capacitor. C
A load control circuit 5 for generating a load control signal LC which maintains a low level when the power is turned on in the write state and becomes a high level when the power is first read out and which maintains the high level. By providing the load control signal LC, the load transistors Q41 and Q42 of the load circuit 4 are provided.
Is controlled so that when the load control signal LC is at a low level, it is in a non-conductive state, and when it is at a high level, it is in a conductive state. Generation of such a load control signal LC can be easily realized by appropriately setting the sizes of the transistor Q51 and the transistors forming the inverters IV1 and IV2. The capacitors C1 and C2 are inserted for level stabilization.

【0011】次にこの実施例の動作について説明する。
図2はこの実施例の動作を説明するための負荷制御回路
5周辺の信号の波形図である。
Next, the operation of this embodiment will be described.
FIG. 2 is a waveform diagram of signals around the load control circuit 5 for explaining the operation of this embodiment.

【0012】内部書込み制御信号IWEは外部からの書
込み制御信号WEと同相である書込み制御信号WEを低
レベルのまま電源を投入すると、内部書込み制御信号I
WEは低レベルのままであるから、負荷制御回路5の出
力信号、すなわち負荷制御信号LCは低レベルとなるか
ら、この制御信号LCをゲートに入力する一対のトラン
ジスタQ41,Q42は、書込み制御信号WE,内部書
込み制御信号IWEが低レベルの期間、非導通状態(T
1)となる。
The internal write control signal IWE is in phase with the external write control signal WE. When the power is turned on while the write control signal WE is at a low level, the internal write control signal IWE is turned on.
Since WE remains at the low level, the output signal of the load control circuit 5, that is, the load control signal LC is at the low level. Therefore, the pair of transistors Q41 and Q42 for inputting this control signal LC to the gate are the write control signals. WE and the internal write control signal IWE are in the non-conduction state (T
It becomes 1).

【0013】次に書込み制御信号WE,内部書込み制御
信号IWEが低レベルから高レベルへ変化し、最初の読
出し動作が始まると、内部書込み制御信号IWEは高レ
ベルとなり、トランジスタQ51がオン状態となり、イ
ンバータIV1,IV2で構成されるフリップフロップ
の出力が反転し、負荷制御信号が高レベルとなる。
Next, when the write control signal WE and the internal write control signal IWE change from the low level to the high level and the first read operation starts, the internal write control signal IWE becomes the high level and the transistor Q51 is turned on. The output of the flip-flop formed by the inverters IV1 and IV2 is inverted, and the load control signal becomes high level.

【0014】従って一対のトランジスタQ41,Q42
はオン状態となり、以後、書込み制御信号WEのレベル
にかかわらず負荷制御回路5の出力信号、負荷制御信号
LCは高レベルを維持し続けるので、トランジスタQ4
1,Q42は常にオン状態を続ける(T2)。
Therefore, a pair of transistors Q41, Q42
Is turned on, and thereafter, the output signal of the load control circuit 5 and the load control signal LC continue to maintain the high level regardless of the level of the write control signal WE.
1, Q42 is always on (T2).

【0015】従って、書込み制御信号WEを低レベルの
まま、つまり書込み状態のまま電源を投入すると、トラ
ンジスタQ41,Q42は最初の読出し開始前までの期
間、非導通状態となっている。その期間(T1)内に、
メモリセルMCのデータ入出力端N1からの異常な接地
電位点へのリーク電流のためそのメモリセルMCが不良
となっている場合、そのメモリセルMCに、強制的にデ
ィジット線DL2を0V,DL1をVccにして書込み
を行うと、トランジスタQ41は非導通となっているた
め、トランジスタQ41からトランジスタQ3,不良原
因のリーク抵抗Rxを介して接地電位点へ流れる電流は
ない。またトランジスタQ42から書込み回路1への電
流も流れない。従って、直流的に流れる電流は、不良原
因であるリーク抵抗Rxを介するものだけとなり、不良
解析が容易となる。なお、異常のリーク電流は、良品の
メモリセル場合流れない。
Therefore, when the write control signal WE is kept at the low level, that is, when the power is turned on in the written state, the transistors Q41 and Q42 are in the non-conducting state until the first reading is started. Within that period (T1),
When the memory cell MC is defective due to the leakage current from the data input / output terminal N1 of the memory cell MC to the abnormal ground potential point, the digit line DL2 is forced to 0V, DL1 in the memory cell MC. When writing is performed by setting Vcc to Vcc, the transistor Q41 is non-conductive, so that there is no current flowing from the transistor Q41 to the ground potential point through the transistor Q3 and the leak resistance Rx that causes the defect. Further, no current flows from the transistor Q42 to the writing circuit 1. Therefore, the current flowing like a direct current is only through the leak resistance Rx, which is the cause of the defect, and the defect analysis becomes easy. An abnormal leak current does not flow in a good memory cell.

【0016】次に最初の読出し動作が開始されると、以
後トランジスタQ41,Q42は導通状態を、書込み制
御信号WEのレベルに依らず維持し続ける。つまり、従
来の技術で説明した高速動作可能なスタティックRAM
の動作となる。
Next, when the first read operation is started, the transistors Q41 and Q42 continue to maintain the conductive state regardless of the level of the write control signal WE. That is, the static RAM capable of high-speed operation described in the related art
It becomes the operation of.

【0017】一方、書込み制御信号WEが高レベルのま
ま電源が投入されたときは、負荷制御信号LCは、以後
書込み制御信号WEに依らず高レベルを持続する。つま
りこの時の動作は従来の技術で述べた動作と同様であ
る。
On the other hand, when the power is turned on while the write control signal WE remains at the high level, the load control signal LC continues to be at the high level regardless of the write control signal WE. That is, the operation at this time is the same as the operation described in the related art.

【0018】図3は本発明の第2の実施例を示す回路図
である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【0019】この実施例は、データバスDB1,DB2
にも負荷回路が接続されている場合に適用したもので、
このデータバスDB1,DB2に接続されている負荷回
路6のトランジスタQ61,Q62も負荷制御信号LC
により制御するようにしたものである。基本的な動作及
び効果は第1の実施例と同様であるので省略する。
In this embodiment, the data buses DB1 and DB2 are
It is applied when a load circuit is also connected,
The transistors Q61 and Q62 of the load circuit 6 connected to the data buses DB1 and DB2 also have the load control signal LC.
It is controlled by. Since the basic operation and effect are the same as those in the first embodiment, they will be omitted.

【0020】[0020]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、書込み状
態で電源を投入したとき第1のレベル、最初の読出し動
作で第2のレベルとなる負荷制御信号を発生する負荷制
御回路を設け、負荷制御信号により負荷回路のトランジ
スタを、負荷制御信号が第1のレベルのときはオフ、第
2のレベルのときはオンとなるように制御する構成とす
ることにより、負荷回路のトランジスタがオフのときメ
モリセルのデータ入出力端を強制的に高レベル,低レベ
ルにして、このデータ入出力端に流れる電流を測定する
場合、この電流はリーク電流のみとなるので、不良解析
等が容易になるという効果がある。
As described above, the present invention is provided with a load control circuit which generates a load control signal which becomes the first level when the power is turned on in the write state and the second level when the first read operation is performed. By controlling the transistor of the load circuit by the load control signal so that it is turned off when the load control signal is at the first level and turned on when the load control signal is at the second level, the transistor of the load circuit is turned off. At this time, when the data input / output terminal of the memory cell is forcibly set to the high level and the low level and the current flowing through the data input / output terminal is measured, this current is only the leak current, so that failure analysis and the like become easy. There is an effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示された実施例の動作を説明するための
負荷制御回路周辺の信号の波形図である。
FIG. 2 is a waveform diagram of signals around a load control circuit for explaining the operation of the embodiment shown in FIG.

【図3】本発明の第2の実施例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図4】従来の半導体記憶装置の一例を示す回路図であ
る。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 書込み回路 2 読出し回路 3 データ転送回路 4,4a 負荷回路 5 負荷制御回路 6 負荷回路 C1,C2 コンデンサ DB1,DB2 データバス DL1,DL2 ディジット線 IV1,IV2 インバータ Q1〜Q4,Q31,Q32,Q41,Q42,Q5
1,Q61,Q62トランジスタ R1,R2 負荷抵抗 WL ワード線
1 Write Circuit 2 Read Circuit 3 Data Transfer Circuit 4, 4a Load Circuit 5 Load Control Circuit 6 Load Circuit C1, C2 Capacitor DB1, DB2 Data Bus DL1, DL2 Digit Lines IV1, IV2 Inverters Q1 to Q4, Q31, Q32, Q41, Q42, Q5
1, Q61, Q62 Transistors R1, R2 Load resistance WL Word line

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ソースを共に第1の電源電位点と接続し
ドレイン及びゲートを互いに交差接続する第1及び第2
のトランジスタ、並びに一端を前記第1及び第2のトラ
ンジスタのドレインとそれぞれ対応して接続してこの接
続点をデータ入出力端とし他端を共に第2の電源電位点
と接続する高抵抗の第1及び第2の負荷抵抗をそれぞれ
備え行方向,列方向にマトリクス状に配列された複数の
メモリセルと、選択レベルのときこれらメモリセルを行
方向に所定の単位で選択状態とする複数のワード線と、
前記複数のメモリセルの列方向の所定の単位のメモリセ
ルと対応して設けられこれら対応するメモリセルの読出
しデータ及び書込みデータを伝達する複数のディジット
線と、ゲートを対応する前記ワード線と接続しこのワー
ド線が選択レベルのときそれぞれ対応する前記メモリセ
ルのデータ入出力端及びディジット線間を導通状態とし
てこのメモリセルを選択状態とする複数のスイッチング
用のトランジスタと、選択状態の前記メモリセルへの書
込みデータの伝達及びこのメモリセルからの読出しデー
タの伝達を行うデータバスと、前記複数のディジット線
のうちの所定のものを選択し前記データバスへ接続する
データ転送回路と、選択された前記メモリセルへの書込
みデータ及びこのメモリセルからの読出しデータの伝達
制御を行う書込み回路及び読出し回路と、それぞれ負荷
用のトランジスタを備え前記各ディジット線とそれぞれ
対応して接続しこれらディジット線に接続する回路の負
荷となる負荷回路とを有する半導体記憶装置において、
書込み状態で電源が投入されたとき第1のレベルを維持
し最初に読出し状態となったとき第2のレベルとなりこ
の第2のレベルを維持する負荷制御信号を発生する負荷
制御回路を設け、前記負荷制御信号により、前記負荷回
路の負荷用のトランジスタを、この負荷制御信号が第1
のレベルのときは非導通状態に、第2のレベルのときは
導通状態になるように制御することを特徴とする半導体
記憶装置。
1. A first and a second, both sources of which are connected to a first power supply potential point and whose drain and gate are cross-connected to each other.
And a high-resistance transistor whose one end is connected to the drains of the first and second transistors, respectively, and the connection point is used as a data input / output terminal, and the other end is connected to the second power supply potential point. A plurality of memory cells each having a first load resistance and a second load resistance and arranged in a matrix in a row direction and a column direction, and a plurality of words for selecting these memory cells in a predetermined unit in the row direction at a selection level. Lines and,
A plurality of digit lines provided corresponding to a predetermined unit of memory cells in the column direction of the plurality of memory cells and transmitting read data and write data of these corresponding memory cells, and a gate are connected to the corresponding word lines. When the word line is at the selected level, a plurality of switching transistors for bringing the memory cell into the selected state by electrically connecting the corresponding data input / output terminals and digit lines of the memory cell, and the selected memory cell. A data bus for transmitting write data to and reading data from the memory cell, and a data transfer circuit for selecting a predetermined one of the plurality of digit lines and connecting it to the data bus. Write for controlling transmission of write data to the memory cell and read data from the memory cell And road and readout circuit, in connected in correspondence with each of the respective digit line comprises a transistor for load semiconductor memory device having a load circuit comprising a load circuit connected to these digit lines,
A load control circuit is provided that generates a load control signal that maintains a first level when the power is turned on in the written state and a second level when the first read state occurs and which maintains the second level. The load control signal causes the load transistor of the load circuit to receive the first load control signal.
The semiconductor memory device is controlled so as to be in a non-conducting state at a level of 2 and a conductive state at a second level.
【請求項2】 負荷制御回路がフリップフロップ回路で
形成された請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the load control circuit is formed of a flip-flop circuit.
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