JPS6161358A - イオン注入用ウエハデイスク保持機構 - Google Patents
イオン注入用ウエハデイスク保持機構Info
- Publication number
- JPS6161358A JPS6161358A JP59183912A JP18391284A JPS6161358A JP S6161358 A JPS6161358 A JP S6161358A JP 59183912 A JP59183912 A JP 59183912A JP 18391284 A JP18391284 A JP 18391284A JP S6161358 A JPS6161358 A JP S6161358A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- metal powder
- chuck
- holding mechanism
- ion implantation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は、回転ディスク型イオン注入製造の、ディスク
保持部から発生した微細な金属粉の飛散を防止するため
の、ディスク及びその保持栴造に関するものである。
保持部から発生した微細な金属粉の飛散を防止するため
の、ディスク及びその保持栴造に関するものである。
（従来技術）
従来、一部の回転ディスク型エンドステージ冒ンを持つ
イオン注入装置では、ウェハ処理量を向上させるために
、ひとつの注入室に対し、２枚のディスクを交互に使用
していた。このためディスクとディスク駆動部とが分離
されておシ、駆動部からの回転力は、駆動軸に設けられ
たディスク保持用チャックを介してディスクに伝達され
ていた。
イオン注入装置では、ウェハ処理量を向上させるために
、ひとつの注入室に対し、２枚のディスクを交互に使用
していた。このためディスクとディスク駆動部とが分離
されておシ、駆動部からの回転力は、駆動軸に設けられ
たディスク保持用チャックを介してディスクに伝達され
ていた。
したがって、ディスク−チャック間の摩擦力が常に適正
な大きさに調整されていないと、ディスク回転速度の加
・減速時にディスク−チャック間にスリップが発生し、
この時の摩耗によって生じた金属粉が遠心力によってデ
ィスク外周方向に飛散する。飛散した金属粉の一部はウ
ェハ上に堆積し、イオン注入時あるいはそれに続くウエ
ハプロセス時の障害となシ、製品歩留シに著しい影ｑＩ
ｔ−与えていた。
な大きさに調整されていないと、ディスク回転速度の加
・減速時にディスク−チャック間にスリップが発生し、
この時の摩耗によって生じた金属粉が遠心力によってデ
ィスク外周方向に飛散する。飛散した金属粉の一部はウ
ェハ上に堆積し、イオン注入時あるいはそれに続くウエ
ハプロセス時の障害となシ、製品歩留シに著しい影ｑＩ
ｔ−与えていた。
（発明の目的）
本発明の目的は、上記の機構で発生した金属粉が遠心力
あるいは処理室の真空ベント時のガス流によって飛散す
ることを防止する方法を提供することである。
あるいは処理室の真空ベント時のガス流によって飛散す
ることを防止する方法を提供することである。
（発明の構成）
本発明は、回転ディスク上に複数枚のウェハを配置して
バッチ処理を行なう高電流イオン注入装置の回転ディス
ク及びこのディスクの保持機構において、該ディスクと
該保持ｖｉ構との接触部分を磁性体で構成し、該接触部
分の近傍に永久磁石または電磁石を配置したことを特徴
としている。
バッチ処理を行なう高電流イオン注入装置の回転ディス
ク及びこのディスクの保持機構において、該ディスクと
該保持ｖｉ構との接触部分を磁性体で構成し、該接触部
分の近傍に永久磁石または電磁石を配置したことを特徴
としている。
（発明の作用効果）
本発明によればディスクと保持機構とのスリップによっ
て発生した金属粉は、磁性体であるため、発生場所近傍
に置かれた磁石に吸引される０このため遠心力やベット
ガスの圧力によって金属粉は飛散せず、また定期的に行
なわれるディヌクのクリーニングの際にも、金属粉で汚
染された場所が磁石近傍に限定されるため作業が容易に
なる。従来使用されていたディスクでは、飛散した金属
粉がウェハ保持部等の隙間に入シ込むために、クリーニ
ングの際にはディスク自体を分散せねばならず、このた
め多くの工数が必要であった。
て発生した金属粉は、磁性体であるため、発生場所近傍
に置かれた磁石に吸引される０このため遠心力やベット
ガスの圧力によって金属粉は飛散せず、また定期的に行
なわれるディヌクのクリーニングの際にも、金属粉で汚
染された場所が磁石近傍に限定されるため作業が容易に
なる。従来使用されていたディスクでは、飛散した金属
粉がウェハ保持部等の隙間に入シ込むために、クリーニ
ングの際にはディスク自体を分散せねばならず、このた
め多くの工数が必要であった。
（実施例）
以下、図を用いて本発明の実施例について説明する。
第１図はディスクの正面図、第２図はディスク及び駆動
部が分離された状態の側面図、第３図はディスクと駆動
部が結合された状態の側面図である。ディスク１がディ
スク回転台２に乗せられ（第２図）、ディスク内周部の
チャック部３がディスク回転台側のクランプ４によって
保持される（第３図）。ディスク回転の加減速時にスリ
ップがあると、チャック部３あるいはり２ンプ４が摩耗
して金属粉が発生し、遠心力によりてウェノ・ホルダ５
の方向に飛散する。これを防止するために、チャック部
３とり２ンズ４の一部を磁性金属で構成し、発生した金
属粉を磁石６で吸引する。ディスクの裏面と駆動部２と
の接触部でも同様に粉塵を発生する場合があるが、従来
仁の部分は駆動部（３）側の表面にゴムが張られていた
。この場合にはゴムに７エ２イト粉等を混入して、ディ
スク上部と同様の方法で磁性粉として吸引しても良いが
、第４図に示すように磁路を構成するほうがよシ１実な
県塵効果を期待することができる。なおこの場合は、磁
路を閉回路とするために、ディスクのチャック部３は第
４図〈示すようにディスクの上面部と下面部を分離せず
に一体化する。尚、第１図乃至第４図において、斜線を
付した部分は磁性体で構成する。
部が分離された状態の側面図、第３図はディスクと駆動
部が結合された状態の側面図である。ディスク１がディ
スク回転台２に乗せられ（第２図）、ディスク内周部の
チャック部３がディスク回転台側のクランプ４によって
保持される（第３図）。ディスク回転の加減速時にスリ
ップがあると、チャック部３あるいはり２ンプ４が摩耗
して金属粉が発生し、遠心力によりてウェノ・ホルダ５
の方向に飛散する。これを防止するために、チャック部
３とり２ンズ４の一部を磁性金属で構成し、発生した金
属粉を磁石６で吸引する。ディスクの裏面と駆動部２と
の接触部でも同様に粉塵を発生する場合があるが、従来
仁の部分は駆動部（３）側の表面にゴムが張られていた
。この場合にはゴムに７エ２イト粉等を混入して、ディ
スク上部と同様の方法で磁性粉として吸引しても良いが
、第４図に示すように磁路を構成するほうがよシ１実な
県塵効果を期待することができる。なおこの場合は、磁
路を閉回路とするために、ディスクのチャック部３は第
４図〈示すようにディスクの上面部と下面部を分離せず
に一体化する。尚、第１図乃至第４図において、斜線を
付した部分は磁性体で構成する。
第１図はディスクの上面図、第２図はディスクと駆動部
が分離された状態の側面図、第３図はディスクと駆動部
が結合された状態の側面図、第４図は閉磁路を構成した
場合の側面図である。 なお各図において、１・・・ディスク、２・・・ディス
ク駆動台、３・・・チャック部、４・・・クランプ、５
・・・ウェハホルダ、６・・・磁石、７・・駆動モータ
である。
が分離された状態の側面図、第３図はディスクと駆動部
が結合された状態の側面図、第４図は閉磁路を構成した
場合の側面図である。 なお各図において、１・・・ディスク、２・・・ディス
ク駆動台、３・・・チャック部、４・・・クランプ、５
・・・ウェハホルダ、６・・・磁石、７・・駆動モータ
である。
Claims (1)
- 回転ディスク上に複数枚のウェハを配置してバッチ処理
を行なう高電流イオン注入装置の回転ディスク及びこの
ディスクの保持機構において、該ディスクと該保持機構
との接触部分を磁性体で構成し、該接触部分の近傍に永
久磁石または電磁石を配置したことを特徴とするイオン
注入用ウェハディスク保持機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59183912A JPS6161358A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | イオン注入用ウエハデイスク保持機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59183912A JPS6161358A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | イオン注入用ウエハデイスク保持機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6161358A true JPS6161358A (ja) | 1986-03-29 |
Family
ID=16143986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59183912A Pending JPS6161358A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | イオン注入用ウエハデイスク保持機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6161358A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008041464A (ja) * | 2006-08-08 | 2008-02-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
-
1984
- 1984-09-03 JP JP59183912A patent/JPS6161358A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008041464A (ja) * | 2006-08-08 | 2008-02-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
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